「ra」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

When Ra on the upper surface side of the metal foil 11' is set similarly, evacuation work efficiency is enhanced when photolithography is utilized.例文帳に追加

金属箔１１’の上面側のＲａも同様に規定するもとにより、フォトリソグラフィーを利用する際の真空引きの作業効率が向上する。 - 特許庁

On the opposite side of the address signal line region RA of the first word line driver region WD1, a memory cell array CA is arranged.例文帳に追加

また、第１のワード線ドライバ領域ＷＤ１のアドレス信号線領域ＲＡとは反対側にメモリセルアレイＣＡが配置されている。 - 特許庁

The proton conductive film has a surface roughness Ra of 0.5 mμ to 2 mμ.例文帳に追加

本発明のプロトン伝導性膜は、表面粗度Ｒａが０．０５μｍ〜２μｍであるプロトン伝導性膜となる。 - 特許庁

An evaluating object parameter Ra and the threshold value (0.5 μm) are set by using a keyboard 16.例文帳に追加

本発明は、評価対象パラメータ（Ｒａ）及びその閾値（０．５μｍ）をキーボード１６を用いて設定する。 - 特許庁

Arithmetic surface roughness (Ra) on the surface 131A of the electrode 120 side of the dielectric board 131 is set to be 1 to 10 μm.例文帳に追加

誘電体板１３１の電極１２０側の表面１３１Ａの算術表面粗さ（Ｒａ）は、１μｍ以上１０μｍ未満とされている。 - 特許庁

Varying sizes of the surface roughness Ra in a range of 10 μm×10 μm of the a-Si photoreceptor are formed alternately in the direction of the generatrix.例文帳に追加

a-Ｓi感光体の10μｍ×10μｍの範囲における表面粗さＲaの大小を、母線方向に交互に形成したことを特徴とする。 - 特許庁

A node between temperature sensing resistors Rd2 and Ru2 is connected to a node between the sensing resistor Ra and the minus input terminal of the amplifier A.例文帳に追加

感温抵抗体Ｒｄ２とＲｕ２との接続点は感温抵抗体Ｒａと増幅器Ａのマイナス入力端子との間に接続される。 - 特許庁

The spacer column is formed on the transparent conductive film 4 of ≥1.76 nm in center line mean roughness (Ra).例文帳に追加

スペーサ柱が中心線平均粗さ（Ｒａ）１．７６ｎｍ以上の透明導電膜４上に形成されたこと。 - 特許庁

Concerning a power circuit Ra, a DC/DC switching power circuit Rd, one of the voltage current of voltage current characteristics a/b is selected and outputted.例文帳に追加

電源回路Ｒａ、ＤＣ／ＤＣスイッチング電源回路Ｒｄは、電圧電流特性ａ／ｂの電圧電流の一方が選択され、出力される。 - 特許庁

Furthermore, a center-line average roughness Ra on the surface of the zinc coating is preferably ≥0.1 μm and ≤0.5 μm.例文帳に追加

さらに、亜鉛被膜の表面の中心線平均粗さＲａは、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The circuit Ra converts mains power supplied in accordance with a control signal from a control circuit 2 to voltage current.例文帳に追加

電源回路Ｒａでは、制御回路２からの制御信号に応じて供給された商用電源が電圧電流に変換される。 - 特許庁

An AC/DC switching power supply circuit Ra outputs the prescribed power supply voltage from the commercial power supply supplied via a terminal Ti.例文帳に追加

ＡＣ／ＤＣスイッチング電源回路Ｒａでは、端子Ｔｉを介して供給された商用電源から所定の電源電圧が出力される。 - 特許庁

Subsequently, the foundation concrete 211 is fastened for fixation to the bedrock R by using a plurality of rock anchors RA which are arranged in a net-like shape.例文帳に追加

それに続いて、この基礎コンクリート２１１を網状に配置した複数のロックアンカーＲＡによって岩盤Ｒに対して締結固定する。 - 特許庁

Surface roughness Ra on the clamp reference surface 3a is set to 120 nm or higher, and its dynamic friction coefficient is set to 0.5 or higher.例文帳に追加

そして、クランプ基準面３ａにおける表面粗さＲａを１２０ｎｍ以上として、その動摩擦係数を０．５以上とする。 - 特許庁

Surfaces of the raceway grooves 15, 16 are applied with super-finishing and formed in 0.05 Ra or less surface roughness.例文帳に追加

軌道溝１５，１６の表面は超仕上げが施されて表面粗さが０．０５Ｒａ以下に形成されている。 - 特許庁

The irregularities 21a have an arithmetic average roughness Ra of ≤0.1 μm, and a mean interval Sm between the surface irregularities is 10-60 μm.例文帳に追加

凹凸２１ａは、算術平均粗さＲａが０．１μｍ以下で、その表面凹凸の平均間隔Ｓｍが１０〜６０μｍである。 - 特許庁

The surface roughness (Ra) of the base material film is preferably 0.5-1.6 μm for the wafer full-cut dicing tape.例文帳に追加

前記ウエハフルカット用ダイシングテープの基材フィルムの面粗度（Ｒａ）は、好ましくは、０．５〜１．６μｍである。 - 特許庁

Therein, the ruggedness of the boundary 3 between the titanium plate and the steel observed in a cross section of the joining part 5 is ≥1.0 μm in Ra.例文帳に追加

また、接合部５の断面において観察されるチタン板と鋼との界面３の凹凸がＲａで１．０μｍ以上である。 - 特許庁

Then one resist part Ra is formed by exposure and development and the corner part at the upper part of the end surface is hardened after made smooth by a resist flow.例文帳に追加

次いで、レジストの一方Ｒａを露光・現像により形成して、端面上部の角部をレジストフローによりなだらかとした後に硬化する。 - 特許庁

An inversion input terminal of the operational amplifier 21 is connected to the connection point of the first feedback resistor Rb and the second feedback resistor Ra.例文帳に追加

また、オペアンプ２１の反転入力端子は、この第１帰還抵抗Ｒｂと第２帰還抵抗Ｒａとの接続点に接続されている。 - 特許庁

In the image editing apparatus, the attachment resolution Ra of an optional image A attached to an optional image frame F is calculated.例文帳に追加

画像編集装置は、任意の画像フレームＦに貼り付けられた任意の画像Ａの貼り付け解像度Ｒａを算出する。 - 特許庁

Preferably the surface opposite to the surface on which the adhesive layer is formed in the base material resin film has Ra of 0.1-0.3 μm.例文帳に追加

また、前記基材樹脂フィルムの前記粘着剤層が形成された面の反対側の面のＲａが、０．１〜０．３μｍであることが好ましい。 - 特許庁

To provide a bridge apparatus for relieving a processing load imposed on a communication terminal caused by reception of an RA packet periodically transmitted from a router.例文帳に追加

ルータから定期的に送信されるＲＡパケットを受信することによる通信端末の処理負荷を軽減する。 - 特許庁

Indoor machines 2a-2d in this air conditioning system 1 supply conditioned air to the inside of a building RA via a plurality of supply openings 21a-21d.例文帳に追加

空調システム１における室内機２ａ〜２ｄは、複数の吹き出し口２１ａ〜２１ｄを介して建物ＲＡ内に空調空気を供給する。 - 特許庁

Atomization Ra, Rb of the reducing agent from the reducing agent supply valves 77a, 77b covers the end face 69f entirely.例文帳に追加

これら還元剤供給弁７７ａ，７７ｂからの還元剤の噴霧Ｒａ，Ｒｂによって一端面６９ｆ全体を覆う。 - 特許庁

The surface roughness is set as follows; Ra=0.08 to 0.10 μm, Rz=0.45 to 0.60 μm, and the pitch P of the linear groove is about 17 μm.例文帳に追加

その表面粗さは、Ｒａ＝０．０８〜０．１０μｍ、Ｒｚ＝０．４５〜０．６０μｍであり、線状溝のピッチＰは約１７μｍである。 - 特許庁

Plastic working is applied to a magnesium alloy stock, a surface roughness of a principal part after plastic working is ≤70 μm Ra.例文帳に追加

マグネシウム合金素材に塑性加工を施し、塑性加工後の主要部の表面粗さを７０μｍＲａ以下にする。 - 特許庁

The center line average roughness Ra of the substrate 111 in contact with the developer is controlled to be between 0.2 μm and 0.5 μm.例文帳に追加

基板１１１の現像剤接触面の中心線平均粗さＲａを０．２μｍ以上０．５μｍ以下とする。 - 特許庁

The metal foil is stainless steel foil and has a glossiness Gs (45°) of at least 300 and below 500 and a surface roughness Ra of 100 nm or below.例文帳に追加

前記金属箔が、ステンレス箔であり、光沢度Ｇｓ（４５°）が３００以上５００未満で、表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。 - 特許庁

Q0=W.V.R., where V is rolling speed (m/min), W is the width (m) and R is the surface roughness Ra of the work roll (μm).例文帳に追加

Ｑ_0 ＝Ｗ・Ｖ・Ｒ 但し、Ｖ：圧延速度（ｍ／分）、 Ｗ：板幅（ｍ）、 Ｒ：ワークロール表面粗度Ｒａ（μｍ）。 - 特許庁

The cable sheath 15 is provided with an average surface roughness Ra of 0.1 to 1.2 μm by manufacturing the cable 10 by the method.例文帳に追加

このケーブルの製造方法によりケーブル１０を製造することで、ケーブル外被１５の平均表面粗さＲａを０．１〜１．２μｍにする。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the surface layer 4 is controlled in a range of 0.5 to 3.5 by the add amount of the phenol resin particles.例文帳に追加

表面層４の表面粗さＲａは，フェノール樹脂粒子の添加量により，０．５〜３．５の範囲内に調整されている。 - 特許庁

The material of the discharge nozzle is made from stainless steel and the center line average roughness (Ra) of the inside wall surface of the discharge nozzle is ≤0.15 μm.例文帳に追加

吐出ノズルの材料がステンレス鋼で、吐出ノズルの内壁面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１５μｍ以下であること。 - 特許庁

A radius of curvature of the center is calculated based on a circular arc Ra of 1/4 of an upper part reflected at the center of the cornea of a reflected image of the cornea.例文帳に追加

角膜反射像の内、角膜中心部に映る上部の４分の１の円弧Ｒａを基に中心部の曲率半径を演算する。 - 特許庁

Nodes of the first ladder resistor Ra and the second ladder resistor Rb are switched by the first selector X1 and the second selector X2.例文帳に追加

第１選択部Ｘ１と第２選択部Ｘ２とによって第１ラダー抵抗Ｒａ及び第２ラダー抵抗Ｒｂのノードを切り替える。 - 特許庁

The void ratio of the photocatalyst 3 is preferably 1-50% and the surface roughness Ra of the light receiving surface thereof is preferably 5 nm-10 μm.例文帳に追加

光触媒３は、空孔率が１〜５０％であるのが好ましく、受光面の表面粗さＲａが５ｎｍ〜１０μｍであるのが好ましい。 - 特許庁

The correlation degree is respectively obtained while successively making the center pixel in the source image be different inside the corresponding area RA.例文帳に追加

相関度は原画像における中心画素を対応領域ＲＡ内で順に異なるものとしながら、それぞれ求める。 - 特許庁

The spherical hard particles are silica particles of a 3-5 μm mean particle size, and the surface roughness Ra of the surface protection layer 4 is 0.1-0.3 μm.例文帳に追加

球状硬質粒子が平均粒径３〜５μｍのシリカ粒子であり、表面保護層４の表面粗さＲａが０．１〜０．３μｍである。 - 特許庁

The silicon nitride sintered compact for a circuit board obtained by this method has 0.6 μm or smaller surface roughness (Ra value).例文帳に追加

また、前記方法で得られる表面粗さ（Ｒａ値）が０．６μｍ以下である回路基板用窒化珪素焼結体。 - 特許庁

The skin material has a topcoat containing fine powder and having a surface roughness Ra regulated within the range of 0.5-30 μm in a standard state.例文帳に追加

微粉末を含有し、表面粗さＲａが標準状態で０．５〜３０μｍの範囲にあるトップコートを有することを特徴とする表皮材料。 - 特許庁

A switching circuit Sb and a secondary battery BT are inserted in series between the output terminal of the power supply circuit Ra and the ground.例文帳に追加

電源回路Ｒａの出力端と接地との間に、スイッチ回路Ｓｂ、二次電池ＢＴが直列に挿入される。 - 特許庁

In a method for measuring the impact of the robot arm, the robot arm R is held with a braking torque applied to a joint portion Ra of a base end thereof by a torque limiter 4.例文帳に追加

ロボットアームＲをその基端の関節部Ｒａにトルクリミッタ４により制動トルクを付与した状態で保持する。 - 特許庁

This magnetic sensor has at least about 80% of an MR portion when the resistor-area (RA) product is about 1.0 Ω μm^2.例文帳に追加

この磁気センサは、その抵抗−面積（ＲＡ）積が約１．０Ω・μｍ^２であるとき、少なくとも約８０％のＭＲ比を有する。 - 特許庁

Surface roughness of an inner wall face of the outer cup 22 is adjusted to Ra of 0.5 to 10.0 so that it functions as a hydrophilic front surface.例文帳に追加

外カップ２２の内壁面は親水性表面として機能するように表面粗度がＲａ０．５〜１０．０に調整されている。 - 特許庁

A surface of a semiconductor like silicon that has a surface (110) thereon is made of Ra with a thickness of 0.15 nm or smaller, so that a transistor can be fabricated with a high mobility.例文帳に追加

（１１０）シリコンのような半導体表面をＲａで０.１５ｎｍ以下にすることにより、移動度の高いトランジスタの作製を可能にする。 - 特許庁