「ra」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索

The transparent resin base material film 11 has a glass transition temperature Tg of 150-300°C and a hight transmissivity of 80% or above and a second transparent inorganic compound layer 13B has a surface roughness Ra (average roughness) of 5 nm or below and the Rmax (maximum roughness) of 120 nm or below.例文帳に追加

透明樹脂基材フィルム１１の一方の面へ１又は複数の層を有し、該層の少なくとも１つの層を形成する際に、水若しくは親水性溶媒を塗布若しくは浸漬し乾燥した後に、１５０℃以上に加熱する湿潤加熱工程を有し、前記透明樹脂基材フィルム１１のガラス転移温度Ｔｇが１５０℃以上３００℃以下、かつ光線透過率が８０％以上であり、前記第２透明無機化合物層１３Ｂの表面粗さＲａ（平均粗さ）が５ｎｍ以下、Ｒｍａｘ（最大粗さ）が１２０ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The proton conductive film is manufactured without lowering its strength by effectively introducing a proton conductive group in a film-shaped polymer compound having indentations with a surface roughness Ra of 0.5 μ to 2 μ, by the above, the proton conductive film having high uniformity of inner surface, high proton conductivity, and a high methanol blocking property, can be manufactured in a simple manner.例文帳に追加

表面粗度Ｒａが０．０５μ〜２μの凹凸を持つフィルム状の高分子化合物にプロトン伝導性基を導入することを特徴とするプロトン伝導性膜の製造方法とすることで、フィルムの強度の低下を生じることなく、有効にプロトン伝導性基を導入できるので、高いプロトン伝導度かつ高いメタノール遮断性を有するプロトン伝導性膜を、簡便な方法で面内の均一性高く製造することができる。 - 特許庁

In general formula (1), Ra to Rc are independent of one another, being each a (substituted) 6-30C aryl or (substituted) 6-40C heterocyclic group.例文帳に追加

（ａ）粗製トリアリールアミン系化合物を良溶媒に加熱溶解させて、粗製トリアリールアミン系化合物溶液を得る工程（ｂ）粗製トリアリールアミン系化合物溶液を、冷却状態で、撹拌することにより、前記一般式（１）で表されるトリアリールアミン系化合物の結晶を析出させる工程（一般式（１）中、Ｒａ〜Ｒｃはそれぞれ独立しており、炭素数６〜３０の置換または非置換のアリール基、あるいは炭素数６〜４０の置換または非置換の複素環基である。） - 特許庁

An arithmetical means irregularity Ra on at least one surface of the alloy plate is 0.08-0.2 μm, an average space Sm between irregularities is 25-60 μm, a ten point height of irregularities Rz is 0.3-1.0 μm and an average space between local peaks is 10-20 μm.例文帳に追加

Ｃｒ １５〜３０質量％、Ａｌ ０．０３〜０．４質量％、Ｓｉ０．０１〜０．５質量％、Ｔｉ ０．０１〜０．６質量％、Ｎ ０．０２質量％未満およびＣ ０．０４質量％未満を含み、残部が実質的にＦｅからなる合金板であって、前記合金板の少なくとも一方の表面における算術平均粗さＲａが０．０８〜０．２μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍが２５〜６０μｍ、十点平均粗さＲｚが０．３〜１．０μｍかつ局部山頂の平均間隔Ｓが１０〜２０μｍであるもの。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing facility installed in a semiconductor device production line comprises a robot means Ra installed in a transfer chamber 30a and having a robot arm 18 for selectively fixing a wafer W to drive to extend or contract, to vertically move and to rotate the arm 18, and a process chamber 32a and a load locking chamber 34a selectively coupled to communicate with the chamber 30a and disposed in a height direction.例文帳に追加

半導体装置生産ラインに設置される半導体装置製造設備において、ウェーハＷを選択的に固定させるロボットアーム１８が設けられ、そのロボットアーム１８を伸縮駆動、昇降駆動及び回転させるロボット手段Ｒａがトランスファチャンバ３０ａに設置され、トランスファチャンバ３０ａに工程チャンバ３２ａ及びロードロックチャンバ３４ａが選択的に連通して連結され、それぞれ高さ方向に配置されて構成される。 - 特許庁

In the laminated polyester film continuously formed using a coextrusion method and containing three or more polyester layers, light transmittance at a wavelength of 370 nm is not more than 3%, haze is not more than 3%, a refractive index in a thickness direction is 1.490-1.505, surface roughness Ra is 3-30 nm and the concentration of an ultraviolet absorber in each of layers satisfies a specific range.例文帳に追加

共押出法を用いて連続製膜された３層以上のポリエステル層を含んだ積層ポリエステルフィルムにおいて、波長３７０ｎｍでの光線透過率が３％以下、ヘーズが３％以下、厚み方向の屈折率が１．４９０以上１．５０５以下、表面粗さＲａが３ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、層中の紫外線吸収剤濃度が特定範囲を満足することを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The optical fiber production apparatus is characterized in that the first, second, and swing guide rollers 7, 9, and 8 around which a primary coated optical fiber 6 passes have surface states satisfying the arithmetic mean roughness Ra≤0.5 μm, the maximum height Ry≤2.7 μm, and the ten-point average roughness Rz≤1.4 μm.例文帳に追加

光ファイバ線引き工程で、被覆材をガラス転移温度以上の温度で第１、第２固定ガイドローラ７，９、揺動ガイドローラ８を通過させる光ファイバの製造方法であって、光ファイバ素線６が通過する第１、第２ガイドローラ７，９、揺動ガイドローラ８の表面状態は、算術平均粗さＲａ≦０．５μｍ、かつ、最大高さＲｙ≦２．７μｍ、かつ、十点平均粗さＲｚ≦１．４μｍの条件を満たす光ファイバの製造方法。 - 特許庁

The hard coat layer exhibits 40% or over of haze and 0.10 μm or less surface roughness Ra (average roughness on the middle line), and average refraction rate value of 65% or over in 5° mirror reflectance to an average value of integrated reflection rate in a range of 450 nm to 650 nm wave length.例文帳に追加

透明支持体上に、少なくとも一層のハードコート層と最外層に位置する低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、ハードコート層のヘイズが４０％以上であり、反射防止フィルムの表面粗さＲａ（中心線平均粗さ）が０．１０μｍ以下であり、且つ４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域における積分反射率の平均値に対する５度鏡面反射率の平均値が６５％以上であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

In a chopper-type voltage comparator 1 which compares sampled input voltage VAIN with ramp voltage VRAMP which is changing with lapse of time, bias voltage VBIAS comes to a specified voltage value which brings itself into comparative action state, when the bias voltage VBIAS changes, according to the above ramp voltage VRAMP, and the ramp voltage VRAMP and the input voltage VAIN become equal.例文帳に追加

サンプリングした入力電圧Ｖ_AINと、時間と共に変化するランプ電圧Ｖ_RAMPとを比較するチョッパ型電圧比較器１において、上記ランプ電圧Ｖ_RA_MPに従ってバイアス電圧Ｖ_BIASが変化し、該ランプ電圧Ｖ_RAMPと上記入力電圧Ｖ__AINとが概略等しくなるときに、上記バイアス電圧Ｖ_BIASが、上記チョッパ型電圧比較器１を比較動作状態に至らしめる所定電圧値になることを特徴とするチョッパ型電圧比較器１による。 - 特許庁

Reflectance and adhesion with a sealing material are improved by making surface roughness Ra in measurement by a stylus surface roughness meter to be 0.010 μm or above and surface roughness Sa in measurement by an atomic force microscope to be 50 nm or below in the LED component material.例文帳に追加

金属基材上の、少なくとも片面もしくは両面に、一部もしくは全面に、電析によりめっき皮膜を析出させた後に、前記めっき皮膜の表面平滑化を加工して得られる、ＬＥＤ用部品材料において、針式表面粗さ計による測定での表面粗さＲａを０．０１０μｍ以上であり、かつ原子間力顕微鏡による測定で表面粗さＳａが５０ｎｍ以下であることで、反射率と封止材との密着性を向上させたことを特徴とするＬＥＤ用部品材料。 - 特許庁

The cleaning tape having a lower coating layer containing principally non-magnetic inorganic powder and a binder and a cleaning layer containing at least ferromagnetic inorganic powder and a binder in this order on a substrate made of an aromatic polyamide is characterized in that the surface of the cleaning layer has 3 to 6 nm surface roughness Ra and 0.4 to 2.0 mm projecting curl at room temperature.例文帳に追加

芳香族ポリアミド製支持体上に、主として非磁性無機粉末及び結合剤を含有する下層塗布層と、少なくとも強磁性粉末による無機粉末及び結合剤を含有するクリーニング層とをこの順に有してなるクリーニングテープにおいて、前記クリーニング層表面の表面粗さＲａが３〜６ｎｍであり、前記クリーニング層面が室温において凸向きに０．４〜２．０ｍｍの範囲のカールを有していることを特徴とするクリーニングテープ。 - 特許庁

This polarizing plate includes a polarizer, and a cycloolefin polymer resin film bonded onto at least one surface of the polarizer, an average surface roughness Ra is 10 to 200 nm, in a bonded face of the cycloolefin polymer resin film onto the polarizer, and a transmission-axis-directional shrinkage rate of the polarizer is 20% or less, after standing for 10 hours under the atmosphere of 105°C.例文帳に追加

偏光子と、該偏光子の少なくとも一方の表面に貼合される環状オレフィン系樹脂フィルムとを含み、該環状オレフィン系樹脂フィルムの前記偏光子との貼合面の平均表面粗さＲａが、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、及び前記偏光子を温度１０５℃の雰囲気中に１０時間放置した後の偏光子の透過軸方向収縮率が２０％以下であることを特徴とする偏光板である。 - 特許庁