「ra」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

According to this method, the liquid film Ra or the liquid drops R of rinse solution are blown together to the rear side of the upper and lower surfaces of the substrate G or are gathered against the surface tension of them while mist (m) is generated from the surfaces of the substrate near respective mist suction ports 172 which directly receive the pressure of air.例文帳に追加

そうすると、基板Ｇの上下面においてリンス液の液膜Ｒaや液滴Ｒが表面張力に抗して基板後方へ吹き寄せられ、あるいは寄せ集められ、エアの風圧を直接受ける各ミスト吸い込み口１７２付近の基板表面からはミストｍが発生する。 - 特許庁

The surface of the protective film on the mold is polished with chemical-mechanical polishing using abrasives containing abrasive grains having a particle size of 0.005 μm-0.3 μm to finish the surface of the protective film to a roughness (Ra) of 2 nm or less, thereby forming a mold with no defects and having a dead-smooth surface.例文帳に追加

金型上の保護膜の表面を、粒径０．００５μｍ〜０．３μｍの砥粒を含む研磨剤を使用した化学的機械研磨を用いて研磨し、保護膜の表面の粗さ（Ｒａ）を２ｎｍ以下に仕上げることにより、欠陥がなく、超平滑平面を有した金型を形成する。 - 特許庁

A first element Sa is connected to the input shaft 2, a tenth element Rd is connected to the output member 3, a second element Ca is connected to a fifth element Cb, a third element Ra is connected to an eighth element Cc, and a sixth element Rb and a seventh element Rc are connected to a twelfth element Sd.例文帳に追加

第１要素Ｓａと入力軸２とが、第１０要素Ｒｄと出力部材３とが、第２要素Ｃａと第５要素Ｃｂとが、第３要素Ｒａと第８要素Ｃｃとが、第６要素Ｒｂと第７要素Ｒｃと第１２要素Ｓｄとが夫々連結される。 - 特許庁

A gas detection part 3 of a gas leak alarm 10 includes: a bridge configured of a gas detection element D, a compensation element C, resistances R1 and R2 and a variable resistance VR, wherein the series circuit of a checking switch SW and a resistance RA is connected in parallel with the resistance R1 opposite to the compensation element C.例文帳に追加

ガス漏れ警報器１０のガス検知部３は、ガス検知素子Ｄ、補償素子Ｃ、および抵抗Ｒ１、Ｒ２、及び可変抵抗ＶＲからなるブリッジを備えており、補償素子Ｃと対向する抵抗Ｒ１に並列に、点検スイッチＳＷと抵抗ＲＡの直列回路が接続されている。 - 特許庁

A slide-assistant filler is adhered to a contacting part of a base rubber material contacting to the surface of glass 6 in operating of a wiper, to form a wiping surface layer 7, and an average surface-roughness Ra of the wiping surface layer is controlled to be 5 μm or below.例文帳に追加

ワイパー作動時にガラス面６と接触するベースゴム成形体の接触部位に、摺動性フィラーを付着させて払拭表層部７を形成し、該払拭表層部７の平均表面粗さＲ_αを５μｍ以下としたことを特徴としている。 - 特許庁

In the wafer polishing method where the main face of the wafer is in slidable contact with a polishing pad formed by impregnating nonwoven fabric with resin and mirror-polishing is performed, the ratio of the surface roughness of the polishing pad and compressibility (surface roughness Ra (μm)/ compressibility (%)) is set at 3.8 or layer and polishing is performed.例文帳に追加

不織布に樹脂を含浸させた研磨パッドにウェーハ主面を摺接させて、鏡面研磨するウェーハの研磨方法において、前記研磨パッドの表面粗さと圧縮率の比｛表面粗さＲａ（μｍ）／圧縮率（％）｝を３.８以上にし研磨するようにした。 - 特許庁

A workpiece W is turned, so that a machine surface SA having rotary symmetry around an axis RA of rotation (e.g. not only rugged sphere and non-spherical surface but also a stepped surface of a phase element surface) can be formed on the workpiece W.例文帳に追加

ワークＷの旋削加工が可能になり、ワークＷに対し回転軸ＲＡのまわりに回転対称な例えば被加工面ＳＡ（例えば、凹凸の球面、非球面等の曲面のほか、位相素子面等の段差面）を形成することができる。 - 特許庁

The step of adjusting the surface morphology adjusts one or more of an average roughness Ra of the surface of the steel sheet, a peak count PPI of the surface of the steel sheet, and a filtered-wave center line waviness Wca of the surface of the steel sheet, through adjusting conditions of the cavitation.例文帳に追加

この表面形態調整工程では、キャビテーション条件を調整することにより、鋼板表面の平均粗さＲａ、鋼板表面のピークカウントＰＰＩ、鋼板表面のろ波中心線うねりＷｃａのうちのいずれか１以上を調整する。 - 特許庁

It is preferable to control the surface roughness Ra of the work damaged layer to ≤0.15 μm and to regulate the total amount of one or more elements among Zr, Nb, Ti, V and Ta as granular-oxide-forming elements contained in the heat-resistant metal to ≤0.5 mass%.例文帳に追加

前記加工変質層の表面粗度Ｒａは０．１５μm 以下とすることが好ましく、また前記耐熱金属に含まれる粒状酸化物形成元素のＺｒ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａの１種または２種以上の合計量は０．５mass％以下とすることが好ましい。 - 特許庁

A substrate with a surface roughness Ra of 0.3 nm or less is used as a non-magnetic glass substrate for the magnetic recording medium 1, a magnetic recording layer 5 of granular structure formed on the substrate uses Ta_2O_5 having a Gibbs free energy value of -800 kj/mol or more is used as an oxide material for CoCrPt alloy.例文帳に追加

磁気記録媒体１の非磁性ガラス基板として表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下のものを用い、その上に形成されるグラニュラー構造の磁気記録層５を、ＣｏＣｒＰｔ合金に、酸化物材料としてギブス自由エネルギーの値が−８００ｋＪ／ｍｏｌより大きなＴａ_2Ｏ_5を用いた。 - 特許庁

Embossing process is carried out by passing a water-soluble film between an embossed roll marked with uneven shape having satin patterns and a back up roll to form the satin patterns with the surface roughness (Ra) 0.1-8 μm and the uneven pattern with less than 100 meshes and 50-300 μm deep.例文帳に追加

梨地模様をもつ凹凸形状が刻印されたエンボスロールとバックアップロールの間に水溶性フィルムを通過させてエンボス加工を行い、該フィルム面に表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜８μｍの梨地模様と１００メッシュ以下で深さが５０〜３００μｍの凹凸模様とを形成させる。 - 特許庁

In the intermediate transfer image receiving sheet having at least a heat softening layer and an image receiving layer formed on a support and transfers an image to the surface of the final image carrier after the formation of the image on the image receiving layer,the surface roughness Ra of the surface of the support is 30 nm-5 μm.例文帳に追加

支持体上に少なくとも熱軟化層、受像層を有し、該受像層上に画像形成後、最終画像担持体上に画像を転写可能な中間転写受像シートにおいて、支持体表面の表面粗さＲａが３０ｎｍ〜５μｍである事を特徴とする中間転写受像シート。 - 特許庁

Then, a plurality of irregular grooves are formed along the key longitudinal direction, and an arithmetic average roughness Ra of the surfaces where the grooves are formed is made to be within the range of 0.52-4.00 μm and the maximum height Ry is made to be within the range of 2.7-13.8 μm.例文帳に追加

そして、鍵長手方向に沿った複数の不規則な溝を形成し、該溝が形成された面の算術平均粗さＲａが０．５２〜４．００μｍの範囲内であり、且つ、最大高さＲｙが２．７〜１３．８μｍの範囲内となるようにする。 - 特許庁

The pneumatic tire has a tread surface roughness (Ra 75) of 10-100 μm as measured in accordance with JIS B0601 after driving 3,000 km on a paved road and a total sipe length of 1.0-4.0 cm per cm^2 of the contact area on the tread surface.例文帳に追加

舗装路３０００ｋｍ走行後のＪＩＳ Ｂ０６０１によって測定されたトレッド表面粗さ（Ｒａ７５）が１０〜１００μｍであり、かつ該トレッド表面の接地面積１ｃｍ^2当たりの全サイプ長さが１．０〜４．０ｃｍである空気入りタイヤである。 - 特許庁

There is provided a method of polishing a semiconductor substrate in which a voltage is applied to a CMP polishing pad having a center line average roughness (Ra) of 7-11 μm by pressing a semiconductor substrate against the CMP polishing pad at a pressure of 3-7 kPa, and chemical mechanical polishing is performed on a thin film formed on the semiconductor substrate.例文帳に追加

表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が７〜１１μｍであるＣＭＰ用研磨パッドに、３〜７ｋＰａの圧力で半導体基板を押し当て加圧し、この半導体基板上に形成された薄膜を化学機械的に研磨する半導体基板の研磨方法。 - 特許庁

The opening center 12b of a lubricating oil delivery port 12a exists in an area Ra up to a phase Qp of rotational front 90 degrees of the balance shaft 2 from a maximum bearing pressure phase Mp, and is also arranged in a phase adjacent to a high abrasion phase area Xa even in this area.例文帳に追加

潤滑油吐出口１２ａの開口中心１２ｂは、最高面圧位相Ｍｐからバランスシャフト２の回転前方９０度の位相Ｑｐまでの領域Ｒａにあり、更にこの内でも高摩耗位相領域Ｘａに隣接した位相に配置している。 - 特許庁

The outermost layer contains a heat-resistant binder resin and 10-80 mass% of a fluorinated olefinic resin while the lower layer contains the heat-resistant binder resin and 5-50 mass% of the fluorinated olefinic resin and Ra (roughness) of the interface between the outermost layer and the lower layer is 0.3-0.6 μm.例文帳に追加

最上層は、耐熱性バインダー樹脂および１０〜８０質量％のフッ素化オレフィン樹脂を含み、下層は、耐熱性バインダー樹脂および５〜５０質量％のフッ素化オレフィン樹脂を含んでおり、最上層と下層との間の界面のＲａが０．３μｍ〜０．６μｍである。 - 特許庁

The double-sided releasing film is a film having silicone resin coatings on both faces of the polyester film, wherein surface roughness (Ra) of the silicone resin coating film is 0.020-0.080 μm, the residual adhesion ratio is 80% or more, and thickness variation of the film is 1.0% or less.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの両面にシリコーン樹脂塗膜を有するフィルムであって、当該シリコーン樹脂塗膜表面の粗さ（Ｒａ）が０．０２０〜０．０８０μｍであり、残留接着率が８０％以上であり、フィルムの厚さ斑が１．０％以下であることを特徴とする両面離型フィルム。 - 特許庁

When a chip is put in the active condition (ENB=1), the dividing ratio of the resistance R11 and resistance Ra of a resistance dividing circuit 11 is selected for a specified period of time, and a feedback is applied so that the step-down VCC is stabilized at 3.0 V.例文帳に追加

そして、チップがアクティブ状態（ＥＮＢ＝１）になると、所定の時間だけ、抵抗分割回路１１の抵抗Ｒ１１と抵抗Ｒａとによる分割比を選択し、降圧ＶＣＣを３．０Ｖで安定させるようにフィードバックをかける構成となっている。 - 特許庁

In the dispersing region V, powder supplied together with the rotating air stream RA from the pneumatic pulverizer 2 is dispersed, and in the second classifying region S2, the powder pneumatically carried from the dispersing region V is secondarily classified by centrifugal classification into fine powder and coarse powder.例文帳に追加

そして、分散領域Ｖでは、気流式粉砕機２から旋回気流ＲＡと共に供給される粉末を分散し、第二の分級領域Ｓ２では、分散領域Ｖから気流搬送される粉末を微粉末と粗粉末とに遠心分級による第二の分級をするようになっている。 - 特許庁

A contact area of part of the members 84 and 666b where the restriction condition takes place toward a spark-advance region Ra from the position Pc in the region Rls is larger than a contact area of the remaining members 84 and 707 where the transmission takes place in the region Rls.例文帳に追加

領域Ｒｌｓのうち位置Ｐｃより進角領域Ｒａ側にて制限状態を実現する一部での要素８４，６６６ｂの接触面積は、領域Ｒｌｓのうち伝達状態を実現する残部での要素８４，７０７の接触面積よりも大きい。 - 特許庁

The transparent conductive substrate has a layer composed of metallic fine particles and a resin layer, where the metallic fine particles constitute a mesh-like line which exists on at least one surface layer of a transparent conductive layer, and the Ra value of the surface A is 400 nm or less.例文帳に追加

金属微粒子と樹脂層からなる層を有する導電性基板であり、金属微粒子は、網目状のラインを構成し、網目状のラインは、透明導電層の少なくとも一方の表層に存在し、面ＡのＲａ値が４００ｎｍ以下である透明導電性基板。 - 特許庁

It is further preferable for the substrate to be coated with a coating film containing 50 wt.% of aluminum or more and having an oxide film of the coating film surface not thicker than 0.3 μm and to have 0.05-2.0 μm arithmetical mean deviation from mean line of the profile Ra of the substrate surface.例文帳に追加

基板がアルミニウムを５０重量％以上含有するめっき皮膜を備え、めっき皮膜表面の酸化膜の厚さが０．３０μｍ以下であり、基板表面の粗さが、中心線平均粗さＲａで０．０５〜２．０μｍであればなおよい。 - 特許庁

A ceramic member with a display 4 is obtained by forming recesses 2 having 0.5-30 μm depth and ≥1.6 μm surface roughness Ra of the inner faces in the surface of a ceramic body 1 and filling the recesses 2 with glass or ceramics 3 taking on a color different from the color of the ceramic body 1.例文帳に追加

セラミックス体１の表面に深さ０．５〜３０μｍ、内面の表面粗さがＲａ１．６μｍ以上の凹部２を備え、該凹部２に上記セラミックス体１と異なる色を呈するガラスまたはセラミックス３が充填されてなる表示部４を有する。 - 特許庁

In the packing material for a battery with at least a base material layer, an aluminum foil, a chemical treatment layer, an adhesive layer, and a thermal bonding resin layer laminated in turn, a center-line surface roughness (Ra) of a front surface of the thermal bonding resin layer is 60 nm to 1,000 nm.例文帳に追加

少なくとも基材層、アルミニウム箔、化成処理層、接着層、熱接着性樹脂層が順に積層された電池用包装材において、前記熱接着性樹脂層の表出面の中心線表面粗さ（Ｒａ）が６０ｎｍ〜１０００ｎｍであることを特徴とする電池用包装材。 - 特許庁

This grain oriented silicon steel sheet has an insulating film composed of a layer essentially consisting of the hydrogen phosphate of a bivalent or trivalent metal and silica as a first layer and a layer essentially consisting of aluminum borate whose surface roughness is controlled to 0.1 to 0.50 μm by Ra (center line average roughness) as a second layer on the surface.例文帳に追加

表面に第一層として２価あるいは３価金属のりん酸水素塩、およびシリカを主成分とする層と、第二層として表面粗度がＲａ（中心線平均粗さ）０．１μｍ〜０．５０μｍのほう酸アルミニウムを主成分とする層からなる絶縁被膜を有する方向性電磁鋼板。 - 特許庁

In forming the bump 2 to be an IC mounting terminal portion by covering a surface of a protruding portion 11 arranged on a surface of a base material with a conductive metal layer to be a circuit pattern, a surface of the bump 2 is formed so that minute unevenness 20 with a surface roughness Ra 0.1-3 μm continues.例文帳に追加

基材１０の表面に設けた突部１１表面を回路パターンとなる導電性金属層１２で覆ってＩＣ実装用端子部としてのバンプ２を形成したものにおいて、上記バンプ２表面を表面粗さＲａ０．１μｍ〜３μｍの微小凹凸２０が連続する面とする。 - 特許庁

The tip end of a bump 44B is pressurized at a pressing force of 5 g or more per bump by a transfer plate 10 which is provided with a transfer surface 10s having an irregular part 10a which is formed so that its arithmetic average roughness Ra may range between 0.5 or more and around 1.5 (μm).例文帳に追加

算術平均粗さＲａが０．５以上１．５（μｍ）程度の範囲となるように形成される凹凸１０ａを有する転写面１０ｓを備える転写板１０により、バンプ４４Ｂの先端部が、１バンプ当たり５ｇ以上の押圧力で加圧処理されるもの。 - 特許庁

The developing roller has a shaft body, an elastic layer, and a surface layer and is characterized in that: the outermost layer of the surface layer consists principally of thermosetting urethane resin, the allophanate bond/urethane bond ratio of a solution extract of the thermosetting urethane resin is 0.1 to 2, and surface roughness Ra of the developing roller is 0.5 to 2 μm.例文帳に追加

軸体と弾性層と表面層を有する現像ローラであって、表面層の最外層が熱硬化性ウレタン樹脂を主成分とし、熱硬化性ウレタン樹脂の溶媒抽出分のアロファネート結合／ウレタン結合比が０．１〜２、現像ローラの表面粗さＲａが０．５〜２μｍとする。 - 特許庁

The material has such surface roughness as specified in the following: a center line average roughness (Ra) of about ≤0.1 μm, a ten point height of irregularities (Rz) of about ≤1.0 μm, and a maximum height (Rmax) of about ≤1.0 μm.例文帳に追加

本発明の光拡散性基材は、約０．１μｍ以下の中心線平均粗さＲａ、約１．０μｍ以下の十点平均粗さＲｚ、約１．０μｍ以下の最大高さＲｍａｘとして表される表面粗さを有することを特徴とする。 - 特許庁

Specifically, the foamed elastic body 67 has the area RA with polish teeth KA in the center in the rotational direction of the transfer roller 60A, and and has areas RB with polish teeth KB on both ends in the direction opposite to the the rotational direction of the transfer roller 60A.例文帳に追加

具体的に発泡弾性体６７は、転写ローラ６０Ａの回転方向に向いた研磨目ＫＡを有する領域ＲＡを中央に備え、転写ローラ６０Ａの回転方向とは逆方向に向いた研磨目ＫＢを有する領域ＲＢを両端に備える。 - 特許庁

The CVD-coated cutting tool insert is provided with a TiC_xN_y layer having a low tension stress level of 50-390 MPa, and an α-Al_2O_3 layer having a highly flat and smooth surface characteristic of an average Ra of 0.12 micrometers or less, which is measured by an AFM technique.例文帳に追加

本発明は、５０〜３９０ＭＰａの低い引張応力レベルを有するＴｉＣ_xＮ_y層と、ＡＦＭ技術により測定された平均Ｒａ≦０．１２μｍの高い表面平滑性を有するα−Ａｌ_2Ｏ_3層とを備えたＣＶＤ被覆の切削工具インサートに関する。 - 特許庁

A rocker arm Ra has a form having a pair of support parts 11 branching and extending in a cantilever style formed on an end part of an arm main body 10 and rotatably supporting a roller 20 arranged between the pair of support parts 11 by the pair of support parts 11.例文帳に追加

ロッカアームＲａは、アーム本体１０の端部に二股状に分かれて片持ち状に延出する形態の一対の支持部１１を形成し、一対の支持部１１の間に配置したローラ２０を一対の支持部１１によって回転可能に支持した形態である。 - 特許庁

The method for surface processing the low surface roughness metal foil comprises applying an organic solvent solution of polyamic acid to provide polyimide on the surface of the low surface roughness metal foil with Ra of 0.2μm or less so that the thickness of the polyimide coating film will be 0.1 to 5μm after heating.例文帳に追加

Ｒａが０．２μｍ以下の表面粗さの小さい金属箔表面に、前記ポリイミドを与えるポリアミック酸の有機溶媒溶液を、加熱後のポリイミド塗膜の厚みが０．１〜５μｍとなるように塗布することを特徴とする表面粗さの小さい金属箔表面の処理方法。 - 特許庁

An inkjet recording method includes ejecting a droplet of an ink composition containing a metal pigment and optically transparent spherical particles of 0.5-5 mass% with an ink jet recording apparatus, attaching the droplet to a recording medium having an average surface roughness Ra of 3 μm or more, thereby recording an image.例文帳に追加

インクジェット記録装置を用いて、金属顔料と０．５〜５質量％の光学的に透明な球状粒子とを含有するインク組成物の液滴を吐出し、該液滴を記録面の平均表面粗さＲａが３μｍ以上の記録媒体に付着させて画像の記録を行うインクジェット記録方法。 - 特許庁

In the electrophotographic system equipped with a fixing device 10 having the carrying guide plate 17 as a fixing entrance guide plate, the plate 17 is made of heat resistant resin and the surface roughness of the carrying surface 17a of the plate 17 is Ra≤0.8μm.例文帳に追加

定着入口ガイド板として搬送ガイド板１７を有する定着装置１０を備えた電子写真装置において、前記搬送ガイド板１７が耐熱性の樹脂製からなり、前記搬送ガイド板の搬送面１７ａの表面粗さがＲａ０．８μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

A bell cup 1 is used in the rotary atomizing type coating apparatus having a rotation shaft 3 and the bell cup 1 which is installed on the rotation shaft and on the surface of which a coating is supplied, and the surface of the bell cup 2 has a surface roughness Ra of not lower than 5μm.例文帳に追加

回転軸３と、回転軸に装着されてその表面に塗料が供給されるベルカップ１とを有する回転霧化式塗装装置に用いられるベルカップ１であって、ベルカップの表面２の表面粗度Ｒａを５μｍ以上にする。 - 特許庁

A thermoplastic resin laminated steel plate is constituted by providing a tin plating layer on the surface with surface roughness Ra of 0.7 μm or less becoming at least the inner surface of a container and further successively providing a metal Cr layer, a hydrated chromium oxide layer and a thermoplastic resin film layer on the tin plating layer.例文帳に追加

少なくとも容器の内面となる鋼板の表面粗度Ｒａが０．７μｍ以下で、該鋼板表面に錫めっき層を有しその上層に金属Ｃｒ層さらに水和酸化クロム層、さらにその上層に熱可塑性樹脂皮膜層を有する熱可塑性樹脂積層鋼板。 - 特許庁

This manufacturing method includes forming asperities on the surface of the iron-based sintered material by a shot-peening process, controlling the surface roughness to 0.5 to 40 μm by Ra, densifying the surface layer of at least 1 μm deep from the surface into a density ratio of 90% or higher, and covering the surface with the electrodeposition coating film.例文帳に追加

鉄系焼結材料の表面にショットピーニング加工により凹凸を形成し、かつ表面粗さをＲａで０．５〜４０μｍとするとともに、表面から少なくとも１μｍの深さの表層部を密度比９０％以上に緻密化し、前記表面を電着塗装被膜で被覆する。 - 特許庁

The entry sheet for drilling, which is composed of metallic aluminum or an aluminum alloy, is characterized in that the thickness is 60-200 μm, the central line average surface roughness (Ra) is 0.1-0.5 μm, and the maximum height (Ry) of the surface roughness is ≤ 4 μm.例文帳に追加

金属アルミニウム又はアルミニウム合金からなる穴あけ加工用エントリーシートにおいて、厚さが６０〜２００μｍ、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜０．５μｍ、且つ表面粗さの最大高さ（Ｒｙ）が４μｍ以下であることを特徴とする、穴あけ加工用エントリーシート。 - 特許庁

To provide a light source device having high color rendering properties, capable of obtaining white light in which not only a general color rendering index Ra but also each value of indices of special color rendering indices R9-R15 are raised to improve color rendering properties, and a lighting system including the light source device.例文帳に追加

演色性の高い、平均演色評価数Ｒａのみでなく、特殊演色評価数Ｒ９〜Ｒ１５の各評価数の値も高めて演色性を向上させた白色光を得ることができる光源装置及び該光源装置を備える照明装置を提供する。 - 特許庁

The electrophotographic transfer material having 60-100 g/m2 basis weight has a coating layer 2 on at least one face and has ≤1.5 μm center line average surface roughness Ra, ≥1×109 Ω.cm volume resistivity at 30°C and 80% RH and ≥16 cm paper stiffness.例文帳に追加

坪量６０〜１００ｇ／ｍ^2である電子写真に用いられる転写材において、少なくとも片面に塗工層を有し、表面の中心線粗さ（Ｒａ）が１．５μｍ以下、３０℃／８０％ＲＨで体積抵抗率が１×１０^9Ωｃｍ以上、および紙のこわさが１６ｃｍ以上とであることを特徴とする。 - 特許庁

The bar 11 for regulating coating thickness is formed by winding a wire 11b around the outer peripheral surface of an intermediate part of a bar body 11a and the surface of the wire 11b is coated through an adhesion film 12 with a modification film 13 set at ≤10Å in the average roughness Ra of the surface.例文帳に追加

塗布厚調整用バー１１はバー本体１１ａの中間部の外周面にワイヤー１１ｂが巻回されることにより形成され、ワイヤー１１ｂの表面には、表面の平均粗さＲａが１０Å以下に設定されている改質膜１３が密着膜１２を介して被覆されている。 - 特許庁

A current collector for the nonaqueous electrolyte secondary battery is formed by etching a metal foil of which the Cpd value and the Cp value of the average crystal grain size of the surface range at least from 0.2 to 1.0, and has an average surface roughness Ra of unevenness formed on the surface of 0.20 to 0.55 μm.例文帳に追加

少なくとも表面の平均結晶粒径Ｃｐｄ値及びＣｐ値が０．２〜１．０である金属箔をエッチングしたものであり、且つ、表面に形成された凹凸の平均表面粗さＲａが０．２０〜０．５５μｍである非水電解質二次電池用集電体。 - 特許庁

Shot blast treatment or shot peening treatment is applied to collar surfaces 6a and 6b of collars 5a and 5b of an inner race 2 with is brought into slide contact with end surfaces 3a and 3b of a roller 3, to set the surface roughness (Ra, ring) of the collar surface to a range of 0.05 to 0.30 μm.例文帳に追加

ころ３の端面３ａ，３ｂが摺接する内輪３のつば５ａ，５ｂのつば面６ａ，６ｂに対してショットブラスト加工、或いはショットピーニング加工により表面仕上げを行なうことで、つば面の表面粗さ（Ｒａ，ｒｉｎｇ）を、０．０５μm以上０．３０μm以下に設定する。 - 特許庁