1016万例文収録!

「ra」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定


セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

raを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 2467



例文

According to this method, the resistance changing rateR/R) can be raised compared with before while maintaining the low RA and the coercive force of the free magnetic layer 8 can be kept in the low condition as before while the interlayer connecting magnetic field Hin can be made smaller than before further.例文帳に追加

これにより、低いRAを維持したまま、従来に比べて抵抗変化率(ΔR/R)を高く出来、また、フリー磁性層8の保磁力を従来と同様に低い状態に保ち、さらには、層間結合磁界Hinを従来より小さくできる。 - 特許庁

The recording medium contains a magnetic material, and is characterized in that the center line average roughness Ra is ≤3.0 μm, and the maximum value of the maximum height Rmax is80 μm in the circumference of at least one side of the part where the magnetic material is blended.例文帳に追加

磁性材料を含み、少なくとも片面の前記磁性材料配合部周辺において、中心線平均粗さRaが3.0μm以下であり、且つ、最大高さRmaxの最大値が80μm以下であることを特徴とする記録媒体。 - 特許庁

In the light diffusing plate 21, at least either face in a light incidence surface 21A and a light emission surface 21B lies in a specular state in which the center line average roughness (Ra(maxl)) measured in a direction at which the obtained value reaches the maximum is 0.0001 to 0.1 μm.例文帳に追加

光拡散板21において、光入射面21Aおよび光出射面21Bの少なくともいずれかの面が、得られた値が最大となる方向に測定した中心線平均粗さ(Ra(max1))が0.0001μm〜0.1μmの鏡面状態である。 - 特許庁

The quality of the ceramic ball 13 is determined that the diameter irregularity is 0.016 μm or less, the sphericity is 0.06 μm or less, the surface roughness by center line average roughness Ra is 0.08 μm or less, and the size variation per unit container of a diameter of a lot is 0.10 μm or less.例文帳に追加

セラミックス製玉13の品質は直径不同が0.016μm以下、真球度が0.06μm以下、表面粗さが中心線平均粗さRaで0.08μm以下、ロットの直径の相互差が0.10μm以下に設定されている。 - 特許庁

例文

A method comprises a process of giving plasma processing onto the polyimide surface of the polyimide film so that the surface free energy of polyimide after treatment falls within the range of 60-80dyne/cm, and that the surface roughness as measured by Ra after treatment falls within the range of 0.6-2.3nm, and is then subjected to adhering and stacking.例文帳に追加

ポリイミドフィルムのポリイミド表面に対してプラズマ処理を施し、処理後のポリイミドの表面自由エネルギーが60〜80dyne/cmの範囲であり、且つ、処理後の表面粗さRaが0.6〜2.3nmの範囲とした後、接着積層する。 - 特許庁


例文

The surface roughness Ra of the non-magnetic substrate 1 is specified to be 1.5 to 20 nm and the soft magnetic underlayer 2 is formed on the non-magnetic substrate 1 having the surface roughness so that a soft magnetic film having 0.4 to 1.5 T saturation magnetic flux density is formed in 0.15 to 10 μm film thickness.例文帳に追加

非磁性基体1の表面粗さRaを1.5nm以上20nm以下とし、軟磁性下地層2は、この表面粗さを有する非磁性基体1上に、飽和磁束密度が0.4T以上1.5T以下である軟磁性膜を0.15μm以上10μm以下の膜厚に形成してなる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a polyethylene porous product is used in fixing or moving an article by suction and having an arithmetic average roughness (Ra) of the surface of ≤1 μm at least at its one side, an air flow resistance of 300-1,500 mmAq, and a flexural modulus of 500-7,000 kg/cm2.例文帳に追加

吸引により固定乃至は移動する際に使用する多孔質体の少なくとも片面の表面粗さが算術平均粗さ(Ra)で1μm以下、通気抵抗を300〜1500mmAq、曲げ弾性率が500〜7000kg/cm^2のポリエチレン製多孔質体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The polyolefinic film is characterized in that the surface roughness Ra of at least the single surface thereof is 0.15 or more and the in-plane phase difference R0 before stretching thereof is 300 nm or less and a ratio R50/R0 of the in-plane phase differnce R50 after 50% stretching thereof and R0 is 2.00 or less.例文帳に追加

ポリオレフィン系フィルムを、少なくとも片面の表面粗度Raが0.15以上であり、伸張前の面内位相差R_0が300nm以下、50%伸張後の面内位相差R_50とR_0との比R_50/R_0が2.00以下のフィルムとする。 - 特許庁

An auxilliary roller 63 includes a metal base 631, a protective layer 632 laminated on the metal base 631, and a release layer 633 laminated on the protective layer 632 and is characterized in that the average surface roughness (Ra) of the protective layer 632 facing the release layer 633 is 0.05 to 3 μm.例文帳に追加

金属基体631と、金属基体631上に積層される保護層632と、保護層632上に積層される離型層633とを備え、離型層633に面する保護層632の平均表面粗さ(Ra)は、0.05μm〜3μmであることを特徴とする補助ロール63。 - 特許庁

例文

In a ferrule 1 for an optical connector, on its tip end face 11 before fixedly inserting an optical fiber 5, the radius of curvature R is formed to be 10-25 mm, the center deviation L to be 50 μm or less, and the surface roughness Ra to be 0.2 μm or less.例文帳に追加

光コネクタ用フェルール1において、光ファイバ5を挿入固定する前のフェルール1の先端面11に曲率半径Rを10〜25mm、中心ずれLを50μm以下、及び表面粗さ(Ra)を0.2μm以下に形成した。 - 特許庁

例文

The first clutch C1, the second clutch C2 and the third clutch C3 are structured to freely connect a ninth element Rc, a second element Ca, and a first connection body Sa-Sb to an eleventh element Cd, a second connection body Rb-Sc-Sd, and the third connection body Ra-Cc, respectively.例文帳に追加

第1クラッチC1は第9要素Rcと第11要素Cdとを、第2クラッチC2は第2要素Caと第2連結体Rb−Sc−Sdとを、第3クラッチC3は第1連結体Sa−Sbと第3連結体Ra−Ccとを、夫々連結自在に構成される。 - 特許庁

The above molded product with the controlled density variation is prepared under a molding condition fulfilling the relationship of S/A≥0.002 for the cross sectional area A(mm^2) in the pressurizing direction and the molding pressure S(kg/mm^2) by using a molding die having a surface with the surface coarseness of at most 0.1 μm at Ra.例文帳に追加

密度のバラツキを制御した上記成形体は、表面粗さがRaで0.1μm以下の成形面を有する成形型を用い、成形体の加圧方向断面積A(mm^2)と成形圧力S(kg/mm^2)とがS/A≧0.002の関係を満たす条件下で成形する。 - 特許庁

This steel sheet has a plating film which contains 0.20 to 0.50% Al, 8 to 15% Fe and 0.01 to 0.20 Mg and has microrecesses below 50% of an average thickness in plating thickness at 1 to 10% at a cross-sectional length rate and in which the surface roughness Ra thereof is ≤1.2 μm.例文帳に追加

Al:0.20〜0.50%、Fe:8〜15%、Mg:0.01〜0.20%含有し、めっき厚さが平均厚さの50%に満たないミクロ陥没を断面長さ率で1〜10%有し、その表面粗さRaが1.2μm以下であるめっき皮膜を備えた合金化溶融亜鉛めっき鋼板。 - 特許庁

The surface roughness has an arithmetic mean roughness (Ra) of ≤0.09 μm, the maximum height (Ry) of ≤0.75 μm, and a ten-point mean roughness (Rz) of ≤0.6 μm, and a good reflectance is obtained when the film for reflection is stuck on a plate-like molded body.例文帳に追加

表面粗さが、算術平均粗さ(Ra):0.09μm以下、最大高さ(Ry):0.75μm以下、十点平均粗さ(Rz):0.6μm以下であり、板状成形体上に反射用フィルムを貼り付けた際に良好な反射率を有することを特徴とする反射体の板状成形体用金属材料。 - 特許庁

A molten thermoplastic resin is molded by using a mold wherein a heat insulating layer is provided at least at a part of the mold wall surface constituting a cavity and the center line average roughness (Ra) of the mirror surface part of the uppermost surface of the cavity is 0.1 μm or less and the maximum height (Rmax) thereof is 1.0 μm or less.例文帳に追加

キャビティを構成する型壁面の少なくとも一部に断熱層を有し、該キャビティ最表面の鏡面部分の中心線平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、最大高さ(Rmax)が1.0μm以下である金型を用いて、熱可塑性樹脂を溶融成形する。 - 特許庁

This application relates to a solid electrolyte substantially comprising a crystal body represented by a chemical formula (RM) (QO_4)_3, where R is at least one kind of Zr and Hf; M is at least one kind of Mg, Ca, Sr, Ba, and Ra; and Q is at least one kind of W and Mo.例文帳に追加

化学式(RM)(QO_4)_3(ただし、RはZr及びHfの少なくとも1種、MはMg、Ca、Sr、Ba及びRaの少なくとも1種、QはW及びMoの少なくとも1種を示す。)で表される結晶体から実質的に構成される固体電解質に係る。 - 特許庁

According to the method, when a surface of the aluminum nitride sintered compact is polished so as to set its arithmetic mean roughness Ra to 0.1 μm or less, finish polishing is carried out by means of fixed abrasive grain having a mean grain size of 1 μm or less and a concentration degree of abrasive grain of 300 to 700 mg/cm^3.例文帳に追加

窒化アルミニウム焼結体の表面を算術平均粗さRaが0.1μm以下となるように研磨するにあたり、平均砥粒径が1μm以下であり、且つ、砥粒集中度が300〜700mg/cm^3の固定砥粒により仕上研磨を行う。 - 特許庁

As the surface of an elastic layer formed on the pressing is smoothly finished so that the center mean roughness Ra may become2.0 μm, the abrasion of the pressing roller due to the friction with the rotating pressure roller hardly occurs, then, the satisfactory press contact state is maintained.例文帳に追加

また、押圧ローラが有する弾性層の表面は、中心平均粗さRaが2.0μm以下となる程度に平滑に仕上げられているので回転による加圧ローラとの摩擦によって摩耗が生じにくく、良好な圧接状態が維持される。 - 特許庁

The charge resistance value (β+Ra+R2) of a third charge circuit where the flying capacitor C1 is charged by a charge amount corresponding to the ground fault resistance RLp of the positive terminal side when the ground fault resistance RLp of the positive terminal side is equal to a ground resistance threshold β is matched with the charge resistance value of the first charge circuit.例文帳に追加

また、フライングキャパシタC1が正端子側の地絡抵抗RLpに応じた電荷量で充電される第3充電回路の、正端子側の地絡抵抗RLpが地絡抵抗しきい値βであるときの充電抵抗値(β+Ra+R2)を、第1充電回路の充電抵抗値と一致させる。 - 特許庁

The first clutch C1 is configured to freely connect the first element Ra to the third rotating element Y3, the second clutch C2 is configured to freely connect a second element Ca to a second connecting body Rb-Y4, and the third clutch C3 is configured to freely connect the second element Ca to the first rotating element Y1.例文帳に追加

第1クラッチC1は第1要素Raと第3回転要素Y3とを、第2クラッチC2は第2要素Caと第2連結体Rb−Y4とを、第3クラッチC3は第2要素Caと第1回転要素Y1とを夫々連結自在に構成される。 - 特許庁

To provide a tunnel-type magnetic detecting element that can make the absolute value of a VCR (Voltage Coefficient of Resistivity) reduced, in particular, when an insulation barrier layer formed of Ti-O can be reduced, and in particular, low RA and high resistance change rateR/R) can be secured, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

特に、絶縁障壁層をTi−Oで形成した際のVCR(Voltage Coefficience of Resistivity)の絶対値の低減、ならびに、低RAと高抵抗変化率(ΔR/R)を確保することが可能なトンネル型磁気検出素子及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

On a main face of a ceramic mother board 1 in which wiring board regions 4 having a square shape are arranged in a matrix shape, the surface roughness of the inner face of the division trench 2 formed along a boundary of the wiring board region 4 is 5 μm or less in terms of arithmetic average roughness Ra.例文帳に追加

四角形状をなす配線基板領域4がマトリクス状に配列されているセラミック母基板1の主面に、配線基板領域4の境界に沿って形成された分割溝2の内面の表面粗さを算術平均粗さRaで5μm以下とした。 - 特許庁

At least the surface roughness of the external wall surface 5 of the spacer 1 having the upper and lower surfaces 3 and 4 of a ring-shaped body 2 consisting of the ceramic sintered compact as a contact surface with the magnetic disk substrate is made to be 0.5 μm or smaller by arithmetic mean roughness (Ra).例文帳に追加

セラミック焼結体からなるリング状体2の上下面3,4を磁気ディスク基板との当接面とした磁気ディスク基板保持用スペーサ1の少なくとも外壁面5の表面粗さを算術平均粗さ(Ra)で0.5μm以下とする。 - 特許庁

The glass ceramic of which the surface roughness Ra without grinding is <50 nm, the thermal expansion at 20-300°C is <1.2×10^-6/K and the transmittance is >85% at near-infrared region of 1050 nm and thickness of 4 mm contains β-quartz and/or keatite solid solution.例文帳に追加

研磨することなく表面粗度Raが<50nm、20〜300℃の温度範囲で熱膨張が<1.2×10^-6/K、近赤外領域における透過率が1050nmにおいて、厚みが4mmで>85%である、ベータ石英および/またはキータイト固溶体を含み、次の組成(質量%)を含を有する。 - 特許庁

The surface of at least a portion of the support means that comes into contact with the thin-film coated board 1 is permitted to be a smooth plane having an arithmetic average surface roughness (Ra) of 0.1 μm or smaller.例文帳に追加

マスクブランク等の薄膜付基板1を支持するための支持手段を備える支持部材2,5であって、支持手段の少なくとも薄膜付基板1と接触する部位の表面を、算術平均表面粗さ(Ra)で0.1μm以下である平滑面とした。 - 特許庁

In is a display material with a center-line average roughness (Ra) in length direction of barrier rib to of 0.05 to 0.30 μm or with a center-line average roughness in length direction of the barrier rib to and its side face within the range of 0.05 to 0.30 μm.例文帳に追加

隔壁頂部の長手方向の中心線平均粗さ(Ra)が0.05〜0.30μmまたは隔壁頂部および側面の長手方向の中心線平均粗さが0.05〜0.30μmの範囲内であるディスプレイ用部材である。 - 特許庁

In the fiber stub 3 fixing an optical fiber 1b in a through hole of a ferrule 1a, one end face of the optical fiber 1b is made 0.1 μm or greater of surface roughness Ra, and an adhesive layer 2 of 1.35-1.6 of a refractive index is formed on the surface.例文帳に追加

フェルール1aの貫通孔に光ファイバ1bを固定したファイバスタブ3であって、光ファイバ1bの一方の端面を表面粗さRa0.1μm以上とするとともに、その表面に屈折率1.35〜1.6の接着剤層2を形成する。 - 特許庁

A guide hole 6 for introducing the fishline (a) sent out from the both bearing reel R to the yarn guide hole 4 is formed in the yarn guide mechanism B, and the guide hole 6 is formed into a slot long in the cross direction along the operation direction of a level winding mechanism Ra of the both bearing reel R.例文帳に追加

糸ガイド機構Bに、糸導入孔4に両軸受リールRから繰出された釣り糸aを誘導するガイド孔6を形成し、このガイド孔6を、両軸受リールRのレベルワインド機構Raの作動方向に沿った横方向に長い長孔に形成してある。 - 特許庁

When the wire rope R is wound on the drum 5 of the winch 1, after required extra-wound layers Ra are wound and formed, a second drum 10 at least divided into two parts in the peripheral direction is put thereon, and the actually used wire rope R is wound on the second drum 10 for use.例文帳に追加

ウインチ1のドラム5にワイヤーロープRを仕込むに際し、所要の余巻き層Raを巻付け形成した後に、その上に少なくとも周方向に二分割した第二ドラム10を被せ、その第二ドラム10上に実使用ワイヤーロープRを巻付けて使用する。 - 特許庁

A code generator 105 circulates a second diffusive code of the code length longer than the first code length synchronously with the first diffusive code, and these signals are combined in a combiner 107 with the predetermined differential power by a level regulator 106, and the generated transmission signal is fed to a rail Ra.例文帳に追加

また、符号発生器105が、第1拡散符号と同期して、符号長が第1の符号長よりも長い第2拡散符号を巡回させ、レベル調整器106により所定の電力差をつけて、合成器107においてこれらの信号を合成し、生成された送信信号をレールRaへ送出する。 - 特許庁

This radiation image conversion panel having the stimulable phosphor layer on a support is provided with an under coating resin layer having 0.01-0.05μm of average surface roughness Ra, and 0.5-10μm of film thickness, between the support and the stimulable phosphor layer.例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、支持体と該輝尽性蛍光体層との間に、平均表面粗さRaが0.01〜0.05μmで、かつ膜厚が0.5〜10μmである下引き樹脂層を設けることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

Consequently, there is no generation of impurities such as particles and dust by a rapid flow of gas inside the process tube 11, and the contamination of wafers W by impurities is thereby prevented for all the lots Ra-Rd, to form a superior oxide film on the wafers W.例文帳に追加

従って、プロセスチューブ11内におけるガスの急激な流れによりパーティクルや塵埃などの不純物が発生せず、全てのロットRa〜Rdについて不純物によるウェハWの汚染を防止して良好な酸化膜の生成が可能になる。 - 特許庁

A member is formed from a SiC coated carbon stock that a SiC film is coated on a surface of a carbon material and a film thickness of the SiC film is 0.02-0.5 mm and a surface roughness Ra of the SiC film is ≤0.5 μm.例文帳に追加

炭素材の表面にSiC被膜が被着され、SiC被膜の膜厚が0.02〜0.5mm、SiC被膜の表面粗度Ra が5.0μm 以下の性状を備えたSiC被覆炭素材から形成されたプラズマ処理装置の内壁保護部材。 - 特許庁

This kitchen knife is characterized by including a powder sintering blade material manufactured using powder metallurgy and setting the whole surface roughness, excluding the edge attachment part in the blade foremost part of a blade material formed into a desired shaped, to Ra 0.1 or less by a loose grain polishing method.例文帳に追加

粉末冶金技術を用いて製造される粉末焼結刃材を含む包丁であって、所望形状からなる刃材の刃部最先端の刃先付部を除く全体面が遊離砥粒研磨法によってその全表面粗さをRa0.1以下としたことを特徴とする。 - 特許庁

A dividing ratio of resistance R11 and Ra is set to 0.75:1.5 so that the voltage step-down VCC in the initial period of the active condition becomes 3.0 V in the case of dropping the step-down VCC in the steady condition to 2.5 V with respect to, e.g. the external VCC 3.3 V.例文帳に追加

たとえば、3.3Vの外部VCCに対し、定常状態の降圧VCCを2.5Vまで降圧する場合において、アクティブ状態の初期の降圧VCCが3.0Vとなるように、抵抗R11,Raの分割比を0.75:1.5に設定する。 - 特許庁

Polyethylene naphthalate obtained by polycondensation is used as a base material film and the center line average roughness (Ra) of the surface thereof is set to 2-50 nm.例文帳に追加

0.7≦Mn≦1.6 ・・・(1) 0.5≦Mn/P≦1.2 ・・・(2) 0.7≦Sb≦2.2 ・・・(3) (上記式中、Mnは酸成分10^6g当りのマンガン元素のモル数、Pは酸成分10^6g当りのリン元素のモル数、Sbは酸成分10^6g当りのアンチモン元素のモル数を表わす。) - 特許庁

According to the present invention, the polybenzazole film can be obtained, which has surface roughness (Ra, arithmetic average roughness) of 40 nm or less, a ratio of tensile strength in a vertical direction and in a lateral direction of 0.80 or more, and a ratio of tensile modulus of elasticity in a vertical direction and in a lateral direction of 0.80 or more.例文帳に追加

本発明によれば表面あらさ(Ra、算術平均粗さ)が40nm以下であり、かつ、縦方向と横方向の引張強さの比が0.80以上であり、縦方向と横方向の引張弾性率の比が0.80以上であるポリベンザゾールフィルムが得られる。 - 特許庁

In the lithographic printing plate material capable of being developed on the machine and comprising a plastic functioning as a substrate, the Bekk smoothness of the reverse side of the material is 500 s or below and a curl value is -5 to 50 mm, while the value of the center-line average roughness Ra of the reverse side is 0.1-1μm.例文帳に追加

プラスチックを支持体とする機上現像可能な平版印刷版材料において、該平版印刷版材料の裏面のベック平滑度が500秒以下であり、カール値が−5〜50mmであり、裏面の中心線平均粗さRa値が0.1〜1μmであることを特徴とする平版印刷版材料。 - 特許庁

Then an alteration table Ra of roots, shown by (b) of Fig. 7, is referred to on the basis of the residue (n1%12), obtained by dividing the value n1 by 12 and the root of a chord specified on a keyboard 5 to find a shift quantity, which is added to the pitch n1 to obtain a pitch n2 (S33).例文帳に追加

次に、n1の値を12で割った剰余(n1%12)と鍵盤5により指定されたコードのルートに基づいて、図7(b)のルートによるオルターレーションテーブルRAを参照し、シフト量を求めて音高n1に加算し、音高n2とする(S33)。 - 特許庁

On the peripheral surface, the cylinder part 13 includes a ridge 15 as projection to make contact with the inner circumferential surface 11b of the resin pipe 11, where the surface roughness of the peripheral surface 15a of the ridge 15 represented by the arithmetic mean roughness Ra is set to 0.8a-25a (6-25 μm).例文帳に追加

筒部13の外周面には樹脂パイプ11の内周面11bに接触する凸部としての突条15が設けられ、該突条15の外周面15aにおける表面粗さが算術平均粗さ(Ra)として0.8a〜25a(6〜25μm)に設定されている。 - 特許庁

There is provided a method in which powder is filled in a container under an application of a filling nozzle having a cylindrical upper segment and a conical lower segment, wherein a surface roughness of at least a portion of the filling nozzle satisfies an equation of Ra (arithmetic mean roughness)≤2.0μmRz(10-point mean roughness)≤10.0μmRy例文帳に追加

上部円筒形下部円錐形の形状を有する充填ノズルを用いて粉体を容器に充填する方法において、少なくとも前記充填ノズルの粉体と接触する部分の表面粗さが、JIS B0601−1994に基づく測定方法により下記測定結果を満たすものにする。 - 特許庁

The curable composition for repairing a living tissue is the curable composition which contains calcium salt and where a cured body to be obtained by curing the curable composition for twelve hours at 37°C has a projecting/recessing surface structure in which the Ra value is equal to or more than 3.6 μm and the Sm value is equal to or more than 30.0 μm in surface roughness.例文帳に追加

カルシウム塩を含有する硬化性組成物であり、前記硬化性組成物を37℃で12時間硬化して得られる硬化体が、表面粗さがRa値3.6μm以上かつSm値30.0μm以上となる表面凹凸構造を有する、生体組織修復用の硬化性組成物。 - 特許庁

Therefore, information can be transmitted to the other watchmen to quickly arrive at the trouble occurring field by automatically identifying that with which route Ra, Rb and the doorway 101, 102, the watchman having transmitted the occurrence of the trouble has entered the closed region 100.例文帳に追加

トラブル発生を通報した刑務官がどの経路(Ra、Rb)をたどって閉鎖領域100に進入したか、どの出入口(101、102)から進入したかを自動特定することで、他の刑務官に通報し、迅速に現場に出動できるようにする。 - 特許庁

In the general formula (1), Ra, Rb, and Rc are H alkyl groups or alkyl groups having the number of carbon of 1 to 4, and Rd is a group selected from among a benzilic group, a vinyl group, an alkyl group having the number of carbon of 1 to 4, and a group composed of groups wherein a part of H of those groups is substituted by OH or NH_2.例文帳に追加

(式(1)中、Ra、Rb、RcはHまたは炭素数1〜4のアルキル基であり、Rdはベンジル基、ビニル基、炭素数1〜4のアルキル基、及びこれらの基のHの一部がOHまたはNH_2で置換された基からなる群から選択された基である。)[化1] - 特許庁

It is featured in that the current collector comprises a copper alloy and has tensile strength of 400 N/mm^2 or more, proportional limit of 160 N/mm^2 or less, elastic coefficient of 1.1 N/mm^2 or more, and surface roughness Ra of 0.01-1 μm for a face of the current collector forming the active material thin film.例文帳に追加

集電体が銅合金からなり、その引張強さが400N/mm^2以上、比例限界が160N/mm^2以上、弾性係数が1.1N/mm^2以上であり、活物質薄膜が形成されている集電体の面の表面粗さRaが0.01〜1μmであることを特徴としている。 - 特許庁

The foam has settings such as 1-10 mm maximum value of the ripple height of sheet rippling, 10 pieces/200 mm or less number of ripples, 9.0 μm or more center line average coarseness Ra, 0.2-2.5 mm average cell diameter, 0.015-0.05 g/cm3 density and 0.7-20 mm thickness.例文帳に追加

発泡体は、シートの波打ちの波高さの最大値を1〜10mm、波数を10個/200mm以下、中心線平均粗さRaを9.0μm以上、平均気泡径を0.2〜2.5mm、密度を0.015〜0.05g/cm^3、厚みを0.7〜20mmに設定した。 - 特許庁

In the formula, Ra, Rb and Rc are each a substituent; Q is an atom group or a single bond for forming a five to eight-membered ring; (l) and (m) are each an integer of 0 to 5; (n) is 0 or 1, provided that (n1+n3) and (n2+n3) do not each exceed 5.例文帳に追加

一般式(1)(Ra、RbおよびRcは置換基;Qは5〜8員環を形成する原子群または単結合;l、mは0〜5の整数;nは0または1を表す。ただし、(n1+n3)と(n2+n3)は、それぞれ5を超えることはない。) - 特許庁

This LED mounting substrate is formed by impregnating silicon or a silicon alloy into a silicon carbide porous body having a porosity of 10-50 vol.%, wherein three-point flexural strength is 50-350 MPa; surface roughness (Ra) of at least one surface is 0.01-0.5 μm; and substrate thickness is 0.05-0.5 mm.例文帳に追加

気孔率が10〜50体積%である炭化珪素多孔体にシリコン又はシリコン合金を含浸させてなり、3点曲げ強度が50〜350MPa、少なくとも一面の表面粗さ(Ra)が0.01〜0.5μm、板厚が0.05〜0.5mmであることを特徴とするLED搭載用基板。 - 特許庁

A color editing means 40 optionally selects or combines each data by each area concerning separated data RM, GM, BM, RS, GS, BS, RA, GA, BA to freely prepare each color data of R, G, B, C(cyanogens), Y(yellow), M(magenta), BW(white, black) and increases or reduces its level to execute color editing.例文帳に追加

色編集手段40は、分離されたデータRM,GM,BM,RS,GS,BS,RA,GA,BAについて、各領域毎に、各データを任意に選択または組み合わせて、R,G,B,C,Y,M,BWの各色データを自由に作成し、さらにそのレベルを増減することによって色編集を行う。 - 特許庁

例文

The surface of the YAG polycrystalline substrate has a mathematical surface roughness Ra of less than 1 nm, has no flaw whose width is 5 μm or more, has no dent whose diameter is 5 μm or more, has a height difference between the unit crystal particles constituting a polycrystal of 5 nm or less, is flat and smooth and has a flatness of less than 100 nm.例文帳に追加

このときの、YAG多結晶体基板の面は、算術表面粗さRaが1nm未満でかつ幅5μm以上のキズや直径5μm以上の窪みがなく、多結晶体を構成している単位結晶粒子間の高低差を5nm以下と平滑であり、平坦度も100nm未満となっている。 - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS