「ra」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

This humidity dependence-improving agent for a polymer film is provided by containing any of compounds expressed by the general formulae (1) and (2) [wherein, Ra to Rc are each alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic; X^1 to X^6 are each a single bond or a divalent linking group; R^1 to R^6 are each H, alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic].例文帳に追加

下記一般式のいずれかで表される化合物を含む高分子フィルム用湿度依存性改良剤（Ｒａ〜Ｒｃはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基；Ｘ^1〜Ｘ^6は単結合または２価の連結基；Ｒ^1〜Ｒ^6は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基）。 - 特許庁

To cut even a Cu-Ga alloy ingot, which is manufactured by, for example, the dissolved casting and has relatively large composition ratio of Ga, into a desired shape without causing cracking, cracking or chipping, and to provide a sputtering target consisting of a Cu-Ga alloy and having an excellent surface smoothness Ra of ≤0.1 μm by the surface polishing in a relatively short period of time.例文帳に追加

例えば溶解鋳造によって製造されたＧａの組成比が比較的大きいＣｕ−Ｇａ合金塊であっても、ヒビが入ったり、割れたり欠けたりすることなく所望の形状に切断し、Ｒａが０．１μｍ以下の優れた表面平滑性を有するＣｕ−Ｇａ合金からなるスパッタリングターゲットを比較的短時間の表面研磨により提供する。 - 特許庁

The conductive laminate is characterized by sequentially forming on one surface of a transparent substrate layer a particle-containing resin layer and a transparent conductive layer, wherein the particle-containing resin layer contains an aggregate of inorganic particles and arithmetic average roughness (Ra) by JISB0601-2001 of a surface on which the transparent conductive layer is formed in the particle-containing resin layer is 0.05 to 0.5 μm.例文帳に追加

導電性積層体は、透明基材層の一方の面に、粒子含有樹脂層、透明導電層の順に形成され、前記粒子含有樹脂層は、無機粒子の凝集体を含有し、前記粒子含有樹脂層の前記透明導電層が形成された面におけるＪＩＳＢ０６０１−２００１による算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜０．５μｍであることを特徴とする。 - 特許庁

The mold for molding an optical glass element, having excellent mold releasability from an optical glass element after press molding is obtained by subjecting a molding face formed on the surface of a preform for a mold to etching treatment by a reverse sputtering process to control the surface roughness (Ra^1) of the molding face to 0.01 to 50 nm and further subjecting the molding face to a sputtering process to thereby form a protective layer.例文帳に追加

金型用母材の表面に形成された成形面を逆スパッタリング法によってエッチング処理して、前記成形面の表面粗さ（Ｒａ^１）を０．０１〜５０ｎｍとし、さらにスパッタリング法によって保護層を形成して得た、プレス成形後の光学ガラス素子との離型性に優れる、光学ガラス素子成形用金型。 - 特許庁

The fluoropolymer articles contain a composition of: (a) a fluoropolymer having a copolymerization unit derived from a nitrogen-containing cure site monomer; (b) a nonfluorinated catalyst composition that includes a compound having the general formula {RA}(-){QR'k}(+) or the precursors thereof; and optionally (c) an alcohol of the formula R2-OH.例文帳に追加

（ａ）窒素含有硬化部位モノマーから誘導される共重合単位を有するフルオロポリマーと、（ｂ）一般式：｛ＲＡ｝(-)｛ＱＲ’k｝(+)を有する化合物、あるいはそれらの前駆物質を含有する非フッ素化触媒組成物；および任意には（ｃ）式Ｒ2−ＯＨのアルコールからなる組成物を含有するフルオロポリマー物品で達成される。 - 特許庁

Before the paste is applied to form the paste pattern, the measurement of the waving of the substrate K by the distance sensor 19 is carried out by measuring the distance between the distance sensor 19 and the substrate K along a passage near to the paste application passage (in this case, between the ribs) while tilting to the lib Ra at a slight angle.例文帳に追加

ペーストパターン形成のためのペースト塗布に先立ち、この距離センサ１９によって基板Ｋのうねりを計測するのであるが、これらリブＲａに対して微小角傾き、かつペースト塗布経路（この場合、リブＲａ間）近傍の経路に沿って距離センサ１９，基板Ｋ間の距離を測定していく。 - 特許庁

Provided is the backsheet for a solar cell panel, which comprises a resin layer and at least one organic film and is characterized in that: the resin layer contains at least a resin and an oxide filler; the oxide filler fills the resin layer in an amount of 70-90 vol.%; and a surface roughness Ra of the resin layer is 0.1-5 μm.例文帳に追加

樹脂層と少なくとも１層の有機フィルムとを備え、前記樹脂層が少なくとも樹脂及び酸化物系フィラーを含有し、かつ前記酸化物系フィラーが樹脂層中に７０〜９０体積％で充填されていること、及び前記樹脂層の表面粗度がＲａ０．１〜５μｍであることを特徴とする、太陽電池パネル用バックシートの提供。 - 特許庁

In the metallized film constituted by making at least one metal layer overlie a polymer film base material, a conductive organic matter layer overlies the metal layer and the thickness of the conductive organic matter layer is 5-150 nm while the center line average roughness (Ra) of the outermost layer of the conductive organic matter layer is 5-150 nm.例文帳に追加

本発明の金属化フィルムは、高分子フィルム基材上に一層以上の金属層を積層した金属化フィルムにおいて、該金属層上に導電性有機物層が積層されており、該導電性有機物層の厚さが５〜１５０ｎｍであり、かつ該導電性有機物層の最外層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が５〜１５０ｎｍであることを特徴とするものである。 - 特許庁

This laser welding method includes: a stage 102 where irradiation spot is formed by condensing the laser beam on the surface of a metallic member including the surfaces whose surface roughness Ra is ≥1.0 μm and the surface is molten in the irradiation spot; and a stage 103 where the metallic member and an adherend are joined by bringing the predetermined surface of the adherend into contact with the molten surface.例文帳に追加

レーザー溶接方法が、表面粗さＲａが１．０μｍ以上の面を含む金属部材の前記面上にレーザー光を集光して照射スポットを形成し、照射スポットにおいて前記面を溶融させる工程１０２と、溶融した前記面に被着体の所定表面を接触させて、金属部材と被着体とを接合する工程１０３、を含む。 - 特許庁

A cylindrical movable member 84 engaged with a spool 70 in the axial direction in an advancing region Ra to move together therewith, and locked to a sleeve 66 in the axial direction in a lock region R1 to allow relative movement of the spool 70 is separated from the sleeve 66 to a radial inside, and is supported from the radial inside by the spool 70.例文帳に追加

進角領域Ｒａにてスプール７０と軸方向に係合して共に移動する一方、ロック領域Ｒｌにてスリーブ６６に軸方向に係止されてスプール７０の相対移動を許容する筒状の可動部材８４は、スリーブ６６とは径方向内側に離間する一方、スプール７０により径方向内側から支持される。 - 特許庁

A soda lime silicate glass or borosilicate glass subjected to chemical strengthening, a borosilicate glass containing no or small quantity of Na2O, an alkali-free glass or a crystallized glass is employed as the glass material and the arithmetic mean surface roughness Ra of the glass substrate is set at 0.5 nm or less and the maximum height Ry is set at 10 nm or lower.例文帳に追加

ガラス材質としてソーダライムシリケートガラスまたはボロシリケートガラスを化学強化処理したもの、あるいはＮａ_2 Ｏの含有量の少ないまたはＮａ_2 Ｏを含有しないボロシリケートガラス、無アルカリガラスまたは結晶化ガラスを用い、ガラス基板表面の算術平均粗さＲａを０．５ｎｍ以下、かつ最大高さＲｙを１０ｎｍ以下にする。 - 特許庁

At least one assignment is determined out of a relative light reflectance Ra of a virtual recording cell having the highest relative light reflectance on which the recording mark Ma is formed, and a relative light reflectance Rh of a virtual recording cell having the lowest relative light reflectance on which the recording mark Mh is formed, in accordance with the recording power of laser beams used for forming the recording marks.例文帳に追加

記録マークの形成に用いるレーザビームの記録パワーに応じて、記録マークＭａが形成された相対的な光反射率が最も高い仮想記録セルの前記相対的な光反射率Ｒａ及び記録マークＭｈが形成された相対的な光反射率が最も低い仮想記録セルの前記相対的な光反射率Ｒｈの少なくとも一方の割り当てを決定する。 - 特許庁

Moreover, the semiconductor epitaxial wafer is a semiconductor epitaxial wafer for light-receiving element for receiving electromagnetic waves of a wavelength of 1.8 μm or longer and 3.0 μm or shorter, and the centerline mean roughness Ra measured in the range of a length of 50 to 200 μm on the uppermost surface of the epitaxial layer of the semiconductor epitaxial wafer is 6 nm or lower.例文帳に追加

また、半導体エピタキシャルウェハは、波長が１．８μｍ以上３．０μｍ以下の電磁波を受信する受光素子用の半導体エピタキシャルウェハであって、エピタキシャル層の最表面で、長さ５０〜２００μｍの範囲において測定した中心線平均粗さＲａが６ｎｍ以下である。 - 特許庁

The power supply circuit comprises: a voltage setting resistor (Ra)1 having one end connected with the output terminal; a clamp circuit CL1 connected with the other end and clamped at zero volt; a current mirror circuit CM1 producing the same current as that flowing into the clamp circuit; and a voltage setting resistor (Rb)7 for converting the output current from the current mirror circuit into a voltage.例文帳に追加

本発明による電源回路は、一端が出力端子に接続された電圧設定用抵抗（Ｒａ）１と、その他端に接続されゼロボルトにクランプされたクランプ回路ＣＬ１と、クランプ回路に流れる電流と同じ電流を作るカレントミラー回路ＣＭ１と、カレントミラー回路から出力される電流を電圧に変換する電圧設定用抵抗（Ｒｂ）７とを含む。 - 特許庁

Disclosed is the element structure of the display device equipped with the wiring circuit formed of the Al-based alloy film, a semiconductor layer, and a transparent electrode layer, the surface roughness Ra of the Al-based alloy film forming the wiring circuit connected directly to the semiconductor layer and/or transparent electrode layer being 2.0 to 20.0Å.例文帳に追加

本発明は、Ａｌ系合金膜により形成された配線回路と、半導体層と、透明電極層とを備える表示デバイスの素子構造であって、半導体層および／または透明電極層と直接接合される前記配線回路を形成するＡｌ系合金膜の表面粗度Ｒａが２．０Å〜２０．０Åであるものとした。 - 特許庁

In a substrate for a solar battery, the square average value Ra of roughness height on a surface coming into contact with a photoelectric conversion layer is ≤70 nm, especially an active layer of at least one photoelectric conversion element consists of non-monocrystal silicon or non-monocrystal silicon alloy and the photoelectric conversion layer is formed by laminating a plurality of unit cells.例文帳に追加

光電変換層に接する表面の凹凸高さの二乗平均値Ｒａが７０ｎｍ以下である太陽電池用基板、特にそのうち、少なくとも１つの光電変換素子における活性層が非単結晶シリコンもしくは非単結晶シリコン合金であるとか、光電変換層が単位セルを複数個積層して形成された太陽電池用基板などを提供する。 - 特許庁

The present invention relates to a method of computing an interval of message transmission in an AP located in a specific subnet, including determining whether the AP is an edge AP located at a boundary between the specific subnet and a neighboring subnet, and computing an interval of transmission of a router advertisement (RA) message containing information, regarding the specific subnet based on the determination result.例文帳に追加

ＡＰが所定のサブネットと所定のサブネットの隣のサブネットとの境界に位置しているエッジＡＰであるか否かを決定し、この決定に基づいて、所定のサブネットに関する情報を含むＲＡメッセージの伝送周期を算出する所定のサブネットに位置しているＡＰでのメッセージ伝送周期算出方法である。 - 特許庁

Simultaneously, the center line average height of roughness (Ra) of the sheet surface is made to 0.05 to 0.5 μm.例文帳に追加

効率的な製造方法として、板表面の平均粗さを冷間圧延あるいは加熱焼鈍後のスキンパス圧延や矯正などの加工によって上記範囲に制御するとともに、冷間圧延板を洗浄した後に窒素ガス中にて７５０〜８３５℃で１〜６０秒加熱することによって式（１）の値が４〜１０の表面窒化に制御すると同時に焼鈍を成し得る。 - 特許庁

In addition, the polyester film is characterized in that the surface roughness (Ra) is not more than 0.1μm.例文帳に追加

エチレンテレフタレートを主体とするポリエステルとブチレンテレフタレートを主体とするポリエステルとの混合比が６０：４０〜３０：７０重量％よりなるポリエステルの溶融樹脂膜を表面粗さ（Ｒａ）が０．２μｍ以上、４．０μｍ未満の冷却ロールで固化した後に少なくとも縦方向に１軸延伸したポリエステルフィルムであって、表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下であることを特徴とする金属板被覆用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

In its production, after the galvanizing, temper rolling is performed with rolling rolls having a surface roughness of 1.0 to 5.0 μm by Ra and 40 to 100 μm by Sm.例文帳に追加

亜鉛めっき表面の中心線平均粗さＲａ： ０．５ 〜１．５ μｍ平均山間隔Ｓｍ ： ４０〜１００ μｍ好ましくはＦｅ−Ａｌ金属間化合物のＡｌ量 ： ０．０１〜０．２０ｇｍ^−２めっき皮膜中のＦｅ％ ： ０．５ 〜３．０ ％製造に当たっては、溶融亜鉛めっき後に、Ｒａ： １．０ 〜５．０ μｍ 、Ｓｍ： ４０〜１００ μｍ の表面粗度を有する圧延ロールにて調質圧延を施す。 - 特許庁

Further, the optical fiber array is manufactured so that the surface roughness Ra is made to be ≥10 μm by polishing the incident end surface or the outgoing end surface in the optical incident part where the optical fiber is allowed to converge.例文帳に追加

さらには、光ファイバアレイの光ファイバが収束された光入射部における入射端面を研磨することにより、表面粗さＲａを１０μｍ以上とする光ファイバアレイの製造方法、ならびに、光ファイバアレイの光ファイバが配列された光出射部における出射端面を研磨することにより、表面粗さＲａが１０μｍ以上となるようにしたことを特徴とする光ファイバアレイの製造方法。 - 特許庁

This guide is a guide 1 for conveying the wire which is provided with the through hole 2 through which the wire passes, the guide 1 for conveying the wire consists of the sintered compact of boron carbide having the Vickers hardness of ≥20 GPa and the surface roughness of the inside wall of the through hole 2 is ≤0.1 μm in arithmetic mean roughness Ra.例文帳に追加

線材が通過する貫通孔２を備えた線材搬送用ガイド１であって、前記線材搬送用ガイド１はビッカース硬度２０ＧＰａ以上の炭化ホウ素質焼結体からなり、かつ前記貫通孔２内壁の表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）で０．１μｍ以下であることを特徴とする線材搬送用ガイド１である。 - 特許庁

On both sides of the rotary shaft direction of a foamed elastic body 67 made to abut on a photoreceptor drum 20, a transfer roller 60A with which a laser printer 1 is equipped has an area RB of a polished state which is more likely to receive driving force from the photoreceptor drum 20 than from a central area RA in the abutment face of the foamed elastic body 67.例文帳に追加

レーザプリンタ１が備える転写ローラ６０Ａは、感光ドラム２０と当接される発泡弾性体６７の回転軸方向の両側に、その発泡弾性体６７の当接面における中央領域ＲＡよりも感光ドラム２０からの駆動力を受けやすい研磨状態にされた領域ＲＢを備える。 - 特許庁

The mean roughness Ra of the core surface at the boundary face between the cores 3 and the clads is 100 nm or smaller.例文帳に追加

断面形状としてクラッドとなる熱可塑性樹脂Ｂに周りを囲まれたコアとなる熱可塑性樹脂Ａからなる分散体（コア）がフィルム長手方向に延在しながらフィルム幅方向に４個以上配列した構造である光導波路フィルムであって、コアとクラッド間の境界面のコア表面の平均粗さＲａが１００ｎｍ以下である光導波路フィルム。 - 特許庁

The optical reflection mirror is constituted by forming the reflection mirror directly on the surface of the base plate composed of the SiC-Si composite material obtained by compositing SiC reinforcing material in an Si matrix, and the content of SiC in the SiC-Si composite material is 60 to 90 volume %, and the surface roughness Ra of the base plate is ≤10nm.例文帳に追加

Ｓｉマトリックス中にＳｉＣ強化材が複合されたＳｉＣ−Ｓｉ複合材料からなる基板の表面に直接に反射膜を形成してなる光学反射ミラーであって、前記ＳｉＣ−Ｓｉ複合材料中のＳｉＣの含有率が６０〜９０体積％であり、かつ、前記基板の表面粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする光学反射ミラー。 - 特許庁

The ceramic powder is ABO_3-based calcined powder (A is Ba or the like and B is Ti or the like) containing at least one kind of compound of Ra (La or the like), Mg and Mn, has an average particle diameter smaller than that of the metal powder, and is not sintered at the sintering temperature of ceramics for the substrate constituting the ceramic layer.例文帳に追加

セラミック粉末は、Ｒａ（Ｌａ等）、ＭｇおよびＭｎの化合物の少なくとも１種を含み、かつ仮焼されたＡＢＯ_3 系（ＡはＢａ等であり、ＢはＴｉ等である。）の粉末であって、金属粉末より小さい平均粒径を有し、かつ、セラミック層を構成する基体用セラミックの焼結温度では焼結しない粉末である。 - 特許庁

The sliding member for automobile engines slides in the presence of a lubricant, and is formed by coating a base material surface with the hard carbon thin film, in which Ra of the base material prior to the coating is ≤0.02 μm, and the film thickness of the hard carbon thin film deposited by an arc type ion plating method is 0.5 to 2.0 μm.例文帳に追加

潤滑剤の存在下で摺動し硬質炭素薄膜を基材表面に被覆して成り、被覆前の基材のＲａが０．０２μｍ以下、アーク式イオンプレーティング法により成膜された硬質炭素薄膜の膜厚が０．５〜２．０μｍであり、被覆後のＲｐｋが０．０２μｍ以上である自動車エンジン用摺動部材である。 - 特許庁

In the carrier tape 1 with a plurality of recessed parts 6 for accommodating the chip-like electronic components 2 at predetermined intervals in the longitudinal direction, the bottom surface 6a of the recessed parts 6 is formed at least of a porous resin sheet 3 in which the porosity of the surface is ≤50% and the surface roughness (Ra) is ≤5 μm.例文帳に追加

チップ状電子部品２を収納する凹部６を所定間隔で長手方向に複数形成してあるキャリアテープ１において、少なくとも前記凹部６の底面６ａは、表面の開孔率が５０％以下で表面粗さ（Ｒａ）が５μｍ以下の多孔質樹脂シート３で形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

The winding device of toilet paper winds the toilet paper by a surface winder for winding in a space surrounded by total three rolls of a first upper roll, second lower roll, and rider roll, and is characterized by that a surface roughness of the rider roll is within a range of Ra (a center line average roughness) = 0.1-10μ.例文帳に追加

第１アッパーロールと第２ロアロールとライダーロールの計３ロールに囲まれた空間内で巻取りを行うサーフェースワインダーによるトイレットペーパーの巻取りにおいて、上記のライダーロールの表面粗さをＲａ（中心線平均粗さ）＝０．１〜１０μの範囲としたことを特徴とするトイレットペーパーの巻取り装置。 - 特許庁

The polyester film has a polyester layer constituting the surface of the film having a surface roughness (Ra) within the range of 0.10-1.00 μm and containing 0.3-10 wt.% of particles having an average particle size of 3-10 μm, and contains 0.025-0.25 wt.% of a compound colorable by a laser beam in the film.例文帳に追加

表面粗度（Ｒａ）が０．１０〜１．００μｍの範囲のフィルム表面を構成するポリエステル層が平均粒径３〜１０μｍの粒子を０．３〜１０重量％含有するポリエステルフィルムであって、当該フィルム中にレーザー光によって着色する化合物を０．０２５〜０．２５重量％含有することを特徴とするポリエステルフィルム。 - 特許庁

In the photosensitive resin laminate formed by providing at least a substrate, a photosensitive resin layer, a slip coat layer and a cover layer, the cover layer is a mat cover film having surface roughness (Ra) of 0.20-0.50 in the side facing the slip coat layer and the photosensitive resin layer has a multilayer structure compound of at least two layers.例文帳に追加

少なくとも支持体、感光性樹脂層、スリップコート層およびカバー層を設けた感光性樹脂積層体において、前記カバー層が、スリップコート層に面した側の表面粗さ（Ｒａ）が０．２０〜０．５０の範囲内にあるマットカバーフィルムであり、かつ前記感光性樹脂層が少なくとも２層からなる多層構造であることを特徴とする感光性樹脂積層体。 - 特許庁

The nonvolatile memory in which data is stored depending of a difference in threshold voltage has the core-side cell transistor C-MC to which an electric charge is injected depending on stored data and the reference-side cell transistors RA-MC and RB-MC supplying a reference level when reading data from the core-side cell transistor.例文帳に追加

閾値電圧の違いによりデータが記憶される不揮発性メモリにおいて、記憶データに依存して電荷が注入されるコア側のセルトランジスタＣ−ＭＣと、コア側のセルトランジスタからデータを読み出すときに基準レベルを供給するレファレンス側のセルトランジスタＲＡ−ＭＣ、ＲＢ−ＭＣとを有する。 - 特許庁

The rotary drier in which the ceramic molding is mounted between a pair of rollers and dried while being rotated has a roller A comprising a pair of rollers having an arithmetically average surface roughness (Ra) of 0.2 μm or below and a roller B comprising a pair of rollers having an arithmetically average surface roughness of 2.0-4.0 μm.例文帳に追加

セラミックス成形体を２本のローラー対の間に載せて回転乾燥する回転乾燥装置で、前記ローラーの表面の算術平均表面粗さ（Ｒａ）が０．２μｍ以下の２本のローラー対からなるローラーＡと算術平均表面粗さ（Ｒａ）が２．０〜４．０μｍの２本のローラー対からなるローラーＢとを具備したこと。 - 特許庁

The cast iron member is used for insert casting working using a high pressure aluminum die casting process, and is provided with a modification coating layer for improving its adhesion with an aluminum material on the surface, and also, its surface roughness (Ra) is 5 to 150 μm.例文帳に追加

上記課題を達成するため、高圧アルミニウムダイキャスト法を用いて鋳包み加工に供される鋳鉄部材であって、当該鋳鉄部材は、その表面にアルミニウム材との密着性を向上させるための改質被覆層を備え、且つ、その表面粗さ（Ｒａ）が５μｍ〜１５０μｍであることを特徴とした鋳包み用鋳鉄部材を採用する。 - 特許庁

The flexible metal foil laminate is obtained by previously forming a heat press bondable polyimide coating film on a surface of a metal foil having a small surface roughness Ra of about 0.2 μm or less, then heat press bonding, cooling and laminating the coating film forming metal foil and the polyimide film under a pressurized state by a double belt press.例文帳に追加

Ｒａが０．２μｍ以下程度の表面粗さの小さい金属箔表面に予め熱圧着性ポリイミド塗膜を形成した後、該塗膜形成金属箔と熱圧着性多層ポリイミドフィルムとをダブルベルトプレス装置によって加圧下に熱圧着−冷却して積層されたフレキシブル金属箔積層体。 - 特許庁

This resin plate has an unevenness, the center-line mean roughness Ra of which is 0.5 to 5 μm, on at least one of its sides and includes talc so as to give an unevenness to a talc-containing resin extruded from an extruder with an embossing roller having a surface heated up to 140 to 190°C.例文帳に追加

少なくとも一方の面に凹凸を有する樹脂板において、その凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．５〜５μｍであり、タルクを含有することを特徴とする樹脂板、及び押出機から押出されたタルク含有樹脂に、表面温度１４０〜１９０℃のエンボスローラーで凹凸を付与することを特徴とする前記の樹脂板の製造方法。 - 特許庁

The waterless lithographic printing plate precursor has at least a photosensitive layer or a heat sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, wherein the center average roughness (Ra) of the surface of the silicone rubber layer is 1 to 100 nm, preferably 5 to 50 nm.例文帳に追加

基板上に、少なくとも感光層または感熱層、およびシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版であって、前記シリコーンゴム層の表面の中心平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする水なし平版印刷版原版。 - 特許庁

The gold plating member having high corrosion resistance and high productivity is nickel-gold plating of ≤0.05 in the arithmetic mean roughness (Ra) of the gold plating layer of the nickel plating layer in the nickel-gold plating having the nickel plating layer coated on a backing metal and the gold plating layer coated on the nickel plating layer.例文帳に追加

本発明の高耐食性、高生産性の金めっき部材は、下地金属上に被覆されたニッケルめっき層と，前記ニッケルめっき層上に被覆された金めっき層とを有するニッケル−金めっきであって、前記ニッケルめっき層表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、0.05以下であることを特徴とするニッケル−金めっきである。 - 特許庁

A polycarbonate resin corrugated panel constituted by laminating a weatherable resin layer to at least the single surface of a polycarbonate resin substrate layer is employed and at least the single surface of the corrugated panel is characterized by that arithmetic mean roughness (Ra) is 5-20 μm, the max. height (Ry) is 25-100 μm and haze measured according to JIS K7105 is 60% or more.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂基材層の少なくとも片面に、耐候性樹脂層を積層してなるポリカーボネート樹脂波板を採用し、前記波板の少なくとも片面が、算術平均粗さ（Ｒａ）５〜２０μｍの範囲で、最大高さ（Ｒｙ）２５〜１００μｍの範囲であり、かつＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定されるヘイズが６０％以上に形成されている。 - 特許庁

The Ni-plated steel plate for a battery can is characterized by having an Fe-Ni diffusion layer on a surface corresponding to an outside surface of the battery can, having a glossy addition agent or a semimat addition agent containing Ni-plated layer on its upper layer, and in that its surface roughness Ra is 0.1-1 μm and its Rmax is 1-10 μm.例文帳に追加

本発明の要旨とするところは、電池缶外面に相当する面にＦｅ−Ｎｉ拡散層を有し、更にその上層に光沢添加剤または半光沢添加剤含有Ｎｉメッキ層を有し、かつその表面粗度Ｒａが０．１μｍ以上１μｍ以下かつＲｍａｘが１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする電池缶用Ｎｉメッキ鋼板である。 - 特許庁

This invention provides the wafer for elastic wave devices to form the exciting electrode for stimulating an elastic wave on one major side of the wafer comprising lithium tantalate single crystal and the wafer is characterized in that the arithmetic mean roughness (Ra) of the other major side of the wafer is less than 0.6 micron and a bent of the other major side is 10 μm-40 μm.例文帳に追加

タンタル酸リチウム単結晶から成るウエハの一方主面に、弾性波を発生させる励振電極を形成するための弾性波装置用ウエハであって、前記ウエハの他方主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．６μｍ未満であるとともに、該他方主面の反り量が１０μｍ〜４０μｍであることを特徴とする。 - 特許庁

The damage prevention reflective sheet 1, which includes irregularity layer 20 of 0.1-5 μm in arithmetic average roughness Ra on the surface, is readily and simply provided by applying a mixed solution, including at least two components being mutually insoluble on a reflective sheet base material 10 and making the mixed solution applied on the reflective sheet base material 10 in drying, or the like, cure, thereafter.例文帳に追加

反射シート基材１０上に、互いに非相溶である少なくとも２種類の成分を含む混合溶液を塗布し、その後乾燥等にて反射シート基材１０に塗布された混合溶液を硬化させることで、容易かつ簡便に表面に、表面に算術平均荒さＲａが０．１μｍ以上５μｍ以下の凹凸層２０を有する傷つき防止反射シート１を提供することができる。 - 特許庁

In the case a linear deviation exceeding an allowable amount occurs in a CAD drawing, etc., if necessary, a control variable change setting program is executed on the side of an external device electrically connected to the image forming apparatus, and part or all of the registration control variables Ra, Rb and Rc are changed, and the contents stored in the memory are rewritten to the changed values.例文帳に追加

そして、必要に応じて、例えばＣＡＤ図面などにおいて許容範囲を超える線ズレが発生している場合には、画像形成装置と電気的に接続されている外部装置側で制御量変更設定プログラムが実行されてレジスト制御量Ｒa，Ｒb，Ｒcの一部あるいは全部が変更され、メモリに記憶されている内容がこれら変更後の値に書き換えられる。 - 特許庁

The focus of a laser beam of a laser beam machining apparatus 1 using a multi-joint arm robot 3 is aligned to the surface of a quartz glass plate 2 and is moved at the speed previously determined from a relational expression between the speed and surface roughness within a range of 0.5 to 50 μm of the surface roughness Ra in order to obtain the desired surface roughness to form the fine uneven surface.例文帳に追加

多関節アームロボット３を利用したレーザー加工装置１のレーザー光の焦点を石英ガラスプレート２の表面に合わせ、所望の表面粗さにするために予め表面粗さＲａ０．５〜５０μｍの範囲内における速度と表面粗さの関係式から求めた速度で移動させて、石英ガラスプレートの表面に微細な凹凸面を形成した。 - 特許庁

The ceramic gas nozzle made of a Y_2O_3 sintered compact has an inner surface of an as-fired state, on which a halogenous corrosive gas passes; and an outer surface which is exposed to the halogenous corrosive gas or the plasma of the halogenous corrosive gas, and is roughened into the surface roughness of 1 μm or more by Ra.例文帳に追加

Ｙ_２Ｏ_３焼結体からなるセラミックガスノズルであって、ハロゲン性腐食ガスの流れる内面が焼成したままの面であり、ハロゲン性腐食ガスあるいはハロゲン性腐食ガスのプラズマに曝される外表面が表面粗さＲａが１μｍ以上に粗面化されていることを特徴とするＹ_２Ｏ_３焼結体セラミックガスノズル。 - 特許庁