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raを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 2467



例文

A large diameter gear 5a rolls a first rack 7 provided in a shutter 6 but the shutter 6 is moved at a speed of Ra/Rb times, where the Ra/Rb is the ratio of radial dimension between the large diameter gear 5a and the small diameter gear 5b.例文帳に追加

このとき、大径歯車5aがシャッタ6に設けられた第1のラック7を転動するが、シャッタ6は大径歯車5aと小径歯車5bの径寸法比であるRa/Rb倍の速さで移動させられる。 - 特許庁

Metal powder is paced into a die whose surface is provided with a ceramic layer, and having a surface hardness of ≥2,000 by a Vickers hardness and a surface roughness of 0.001 to 0.1 μm by an arithmetic average roughness Ra, and compacting is performed.例文帳に追加

表面にセラミックス層をそなえ、表面硬さがヴィッカース硬さで 2000 以上、表面粗さが算術平均粗さRaで 0.001〜0.1 μm の金型の内部に、金属粉末を充填し、加圧成形する。 - 特許庁

When the replay RA is not the re-transmission request but the processed result of the computer 30, the ORB 14 transfers the replay RA to the processing requesting part 13.例文帳に追加

応答RAが再送信要求でなく、コンピュータ30による処理結果を示すとき、ORB14は、同応答RAを処理要求部13に転送する。 - 特許庁

In another case, the phase compensation capacitor C1 is flatly laid only on the voltage dividing resistors RA for the production of a parasitic capacitance only between the node N5 and the partial voltage resistors RA.例文帳に追加

また、位相補償コンデンサC1を分圧抵抗素子RA上のみに平面的に重ねて設けて、ノードN5と分圧抵抗素子RAとの間のみに容量を寄生させる。 - 特許庁

例文

The packet assembling part 40 of the exchange 19 receives a RA signal 331 and the channel numbers through an instructing part 41, eliminates the dummy bit DB to return it to the signal 241, adds the channel numbers to it to insert it to a packet and outputs it to a memory 42.例文帳に追加

交換機19のパケット組立部40は、RA信号331 を、また指示部41を介してチャネル番号を受信し、ダミービットDBを除去して圧縮信号241 に戻し、チャネル番号を付加してパケットに挿入してメモリ42に出力する。 - 特許庁


例文

Surface roughness Ra of both the raceways 1a, 2a is not more than 0.2μm, and the surface roughness Ra of rolling surface 3a of the rolling element 3 is set not more than 0.1μm.例文帳に追加

さらに、両軌道面1a,2aの表面粗さRaは0.2μm以下、転動体3の転動面3aの表面粗さRaは0.1μm以下とされている。 - 特許庁

A narrow ring portion 46e which is processed in surface roughness of 0.2 μm (Ra) is formed in the outermost periphery of the absorption surface 46 around the ring portion 46d.例文帳に追加

リング状部分46dの周りの吸着面46の最外周部には、面粗度0.2μm(Ra)に加工された幅の小さいリング状部分46eが形成されている。 - 特許庁

Namely, V(t) is obtained in each channel by the equation V(t)=Va(t)-V(b)*Ra/Rb, and the range where V(t) exceeds a prescribed threshold is extracted, to thereby extract a defect expectation region D.例文帳に追加

すなわち、V(t)=Va(t)-V(b)*Ra/Rb により、各チャンネルごとにV(t)を求め、これが所定の閾値を超える範囲を抽出することにより、欠陥候補領域Dを抽出する。 - 特許庁

Further, when the switch MSW is off, switch circuits SWA, SWB connected in series with the resistors RA, RB are turned off to prevent useless current from flowing through terminals a, b at a low level via the resistors RA, RB.例文帳に追加

また、スイッチMSWがオフしている時、抵抗RA、RBと直列に接続されたスイッチ回路SWA、SWBをオフし、抵抗RA、RBを介してローレベルにある端子a、bへ無駄な電流が流れることを防止する。 - 特許庁

例文

At least the third optical element 6 is made of a resin; at least one of the first, second and third optical elements is the diffractive optical element, and average roughness Ra of a center line of the surface of the diffractive optical element is 20 nmRa200 nm.例文帳に追加

少なくとも第3の光学素子6は樹脂製であり、第1、第2、第3の光学素子のいずれかは回折光学素子であり、回折光学素子の表面の中心線平均粗さRaが、20nm≦Ra≦200nmを満足する。 - 特許庁

例文

Temper rolling after the plating can be performed by using a roll having a surface roughness that the arithmetic average roughness: Ra is ≥0.7 μm, and the number of peaks per length of 25.4 mm in the average line direction of a roughness curve: (PPI) is ≥150.例文帳に追加

めっき後の調質圧延を、算術平均粗さ:Raが0.7 μm以上、粗さ曲線の平均線方向の長さ25.4mm当たりの山の数:PPI が150 以上の表面粗さを有するロールを用いて行ってもよい。 - 特許庁

An X-ray protection door D is opened to move the CT gantry 40 into the blood vessel imaging room Ra, and blood vessel imaging and computed tomographing for the subject Ha are done alternately for example, every five minutes in the blood vessel imaging room Ra.例文帳に追加

X線防護ドアDを開けてCTガントリ40を血管撮影室Raに移動し、血管撮影室Raで被検体Haに対する血管撮影とCT撮影とを例えば5分間毎に交互に行う。 - 特許庁

One end of a resistance element RA is connected to a Vcc power supply voltage terminal pin 41, and the other end of the resistance element RA is connected to one end of a resistance element RB and the input of a buffer circuit 61.例文帳に追加

抵抗素子RAの一端はVcc電源電圧端子ピン41へ接続され、また抵抗素子RAの他端は抵抗素子RBの一端とバッファ回路61の入力へ接続されている。 - 特許庁

An RA filter 9 is attached laterally to the front panel 3, and the RA filter 9 can be attached/detached to/from the front panel 3, by moving it in the horizontal direction.例文帳に追加

また、フロントパネル3に横向きでRAフィルタ9が取り付けられ、RAフィルタ9は、水平方向に動かしてフロントパネル3に着脱が可能である。 - 特許庁

It is preferable to satisfy a relation of B/A≤0.8, wherein, A[nm] is the surface roughness Ra of the porous film 81, and B[nm] is the surface roughness Ra of the transparent conductive film 80.例文帳に追加

多孔質膜81の表面粗さRaをA[nm]とし、透明導電膜8の表面粗さRaをB[nm]としたとき、B/Aが0.8以下なる関係を満足するのが好ましい。 - 特許庁

This thermal treatment jig is a jig formed with an oxide film converted into cristobalite having a thickness of 10 to 50 μm and a surface roughness Ra of 0.5 to 2 μm, and is used to support a silicon substrate for thermal treatment to conduct thermal treatment thereto.例文帳に追加

厚さが10〜50μm、かつ表面粗度Raが0.5〜2μmのクリストバライト化させた酸化膜を形成した熱処理治具を用いて、熱処理用のシリコン基板を支持し、熱処理をする。 - 特許庁

The curved surface and the end surface of the substrate have surface roughness in the range of 4.0 Å≤Ra100 Å, preferably 4.0 Å≤Ra50as measured by means of the AFM.例文帳に追加

さらに、この曲面や基板端面の表面粗さもAFMで4.0Å≦Ra≦100Å、好ましくは4.0Å≦Ra≦50Åとする。 - 特許庁

In this case, both the surface roughness Ra of a first principal surface of the GaN substrate and the surface roughness Ra of a second principal surface thereof can be set as not larger than 20 nm.例文帳に追加

ここで、GaN基板の第1の主面の表面粗さRaを20nm以下、第2の主面の表面粗さRaを20μm以下とすることができる。 - 特許庁

In the step (1), electrode active material and conductive material are kneaded in a solid state to prepare a kneaded mixture A having a ratio of an average particle diameter (rc) of the electrode active material to an average particle diameter (ra) of the conductive material rc/ra of 0.1 to 5.0.例文帳に追加

工程(1):電極活物質と導電材とを固体状態で混練し、電極活物質の平均粒径(rc)と導電材の平均粒径(ra)の比率がrc/ra=0.1〜5.0である混練物Aを得る工程。 - 特許庁

A bright roll the average surface roughness Ra of which is ≤0.6 μm or a dull roll the average roughness Ra of which is ≤1.5 μm is used for the work roll of the final stand of a cold rolling mill in the cold rolling stage.例文帳に追加

冷間圧延工程における冷間圧延機最終スタンドのワークロールには、ロール表面平均粗さRa0.6μm以下のブライトロール又は平均粗さRa1.5μm以下のダルロールを用いる。 - 特許庁

The galvanized steel sheet satisfies expression (1): Ra≥0.015Cw in the relationship between the arithmetic mean roughness of a zink plating layer: Ra (μm) stipulated by JIS B 0601-1994 and plating coating weight : Cw (g/m^2) per side.例文帳に追加

亜鉛めっき層のJIS B0601−1994で規定される算術平均粗さ:Ra(μm)と、片面当たりのめっき付着量:Cw(g/m^2)との関係が、下記式(1)を満足してなる亜鉛めっき鋼板である。 - 特許庁

The sealed type retroreflective sheet having 0.1 to 1.0 μm surface roughness Ra and excellent characteristics in the antistatic property and printing property is obtained by applying a resin for the binder resin layer having 80 to 400 cP viscosity during coating on the process base material subjected to blast treatment.例文帳に追加

塗工時における粘度が80〜400cPである結合剤層樹脂をブラスト処理された工程基材に塗工することによって、帯電防止性、印刷性に優れた特性を持つ表面粗さRaを0.1〜1.0μmの封入型再帰反射シートを得る。 - 特許庁

The values of RA and RD are selected to ensure that the common bus meets pre-determined current and voltage requirements so that the common bus can change states even if one or more of the devices fail by shorting to ground.例文帳に追加

RAおよびRDの値は、所定の電流・電圧要件を満たすように選択され、1つ以上の装置が接地により故障した場合であっても共通バスが状態を変更できるようにしている。 - 特許庁

If the surface roughness is larger than 10in) Ra, the contact of a surface peak is increased, and if the surface roughness is smaller than 3, proper lubrication can not be maintained on the contrary between the teeth of the gear because of too much smoothness.例文帳に追加

表面あらさが10(μin)Raよりも大きいと、表面ピークの接触が増加し、また、表面あらさが3よりも小さいと逆にあまりに平滑すぎるので、ギアの歯間に適当な潤滑を維持することができない。 - 特許庁

The plated material for the terminal or the connector has the Au plating layer formed on the surface of a base material composed of the stainless steel thin plate, wherein the arithmetic surface roughness (Ra) of the plating layer measured by an atomic force microscope is 3.0 nm or less.例文帳に追加

ステンレス鋼薄板からなる基材の表面に、原子間力顕微鏡により測定した算術表面粗さ(Ra)が3.0nm以下であるAuめっき層を形成してなる端子又はコネクタ用めっき材である。 - 特許庁

When a radius of curvature of the large diameter end face 33 of the tapered roller 30 is Ra, and a radius of curvature of the end face of the large diameter collar part of the inner ring 10 is Rb, Ra<Rb.例文帳に追加

前記円錐ころ30の大径側端面33の曲率半径をRaとし、前記内輪10の大径鍔部の端面の曲率半径をRbとしたときに、Ra<Rbである。 - 特許庁

The output-adjusting resistances RV1 to RV4 are composed of resistances RA, for coarse adjustment and resistances VR. for fine adjustment, which are composed of variable resistances, Temperature-sensitive resistances are used at least for the resistances RA for coarse adjustment.例文帳に追加

出力調整抵抗RV1〜RV4は、粗調用抵抗RAと可変抵抗からなる微調用抵抗VRとから構成し、少なくとも粗調用抵抗RAに感温抵抗を用いる。 - 特許庁

Above subject is achieved with the steel tube having the outer surface of the surface roughness Ra of 5-20 μm and achieved with the steel tube having recessed parts whose depth is ≥5 μm and diameter is 50-5000 μm at the area rate of 1-60%.例文帳に追加

前記課題は、表面粗さRa:5〜20μmの外表面をもつ鋼管により達成され、また、外表面に深さ5μm以上、径50〜5000の凹部を1〜60%の面積率で有する鋼管により達成される。 - 特許庁

In this case, the threshold value of the roll angle RA for operating the fuel cut device is set larger than the threshold of the roll angle RA for operating the curtain sealed airbag.例文帳に追加

この際、カーテンシールドエアバッグを作動させるためのロール角RAのしきい値よりも、燃料カット装置を作動させるためのロール角RAのしきい値を大きく設定する。 - 特許庁

The glass substrate for a flat display is provided in which an arithmetic mean roughness Ra and an average length RSm of a substrate surface having a transparent electrode deposited thereon are at least 0.4≤Ra/RSm≤1.2, respectively.例文帳に追加

少なくとも透明電極が成膜される基板表面の算術平均粗さRaとその平均長さRSmが、0.4≦Ra/RSm≦1.2である。 - 特許庁

The fine unevenness 3 preferably has an arithmetical average roughness Ra of 0.5 to 15 μm, an average distance Sm of 0.5 to 10 μm, and an average inclination θa of45° and <90°.例文帳に追加

微細な凹凸3は、凹凸面の算術平均粗さRaが 0.5〜15μm、凹凸の平均間隔Smが 0.5〜10μm、凹凸の平均傾斜θa が45°以上、90°未満となるように形成する。 - 特許庁

A smooth film 10A having arithmetic average surface roughness Ra of 0.1 μm or less and a rough surface film 10B having arithmetic average surface roughness Ra of 0.2-2.0 μm are mutually combined for use as the resin-made film 10.例文帳に追加

樹脂フィルム10としては、算術平均表面粗さ(Ra)が0.1μm以下である平滑フィルム10Aと、算術平均表面粗さ(Ra)が0.2〜2.0μmである粗面フィルム10Bとを組み合わせて用いる。 - 特許庁

The arithmetic average roughness Ra of the surface of the first roughened cured product is ≤4 times the arithmetic average roughness Ra of the surface of a second roughened cured product obtained under relatively mild conditions.例文帳に追加

上記第1の粗化硬化物の表面の算術平均粗さRaは、比較的穏やかな条件で得られた上記第2の粗化硬化物の表面の算術平均粗さRaの4倍以下である。 - 特許庁

As for the method for producing the same, the average surface roughness (Ra) of the cold rolled sheet is controlled to ≤0.45 μm, and, moreover, the partial pressure ratio between hydrogen and water vapor (PH2O/PH2) in an annealing atmosphere in finish annealing is controlled to ≤0.02.例文帳に追加

その製造方法として、冷延板の平均表面粗度(Ra)を0.45μm 以下とし、また、仕上焼鈍における焼鈍雰囲気の水素水蒸気分圧比(PH_2O/PH_2)を0.02以下とする。 - 特許庁

The optimal MR/RA area (value) is determined by referring to a sense time constant curve showing the relation of the MR ratio/RA and the sense time based on the significantly considered application determined in the step S2 in a step S3.例文帳に追加

ステップS3において、ステップS2で決定した重視用途に基づき、MR比,RAとセンス時間の関係を示すセンス時間一定曲線を参考にして、最適MR/RA領域(値)を決定する。 - 特許庁

Texture processing of 0.05 to 0.2 nm center line average roughness (Ra) is carried out on the disk substrate, the soft magnetic underlayer is made to be amorphous state and to have 2.5 to 10 nm film thickness and the saturation magnetization (Hs) of the perpendicular magnetic recording layer is made to have ≤7 kOe.例文帳に追加

ディスク基板に中心線平均粗さ(Ra)が0.05 nm以上0.2 nm以下のテクスチャ加工を施し、軟磁性下地層を、非晶質で、かつ膜厚が2.5 nm以上10 nm以下とし、垂直磁気記録層の飽和磁界(Hs)を7 kOe以下とする。 - 特許庁

The common RA server 31 acquires an electronic certificate from the authentication station to which the application sheet is sent, then the common RA server 31 discriminates the validity of the electronic certificate and transmits the result to the client terminal 1.例文帳に追加

申請書を送信した認証局から、電子証明書を取得すると、共同RAサーバ31は、電子証明書の正当性を判別した後、クライアント端末1に送信する。 - 特許庁

To provide a developing device which will not cause an image defect, while preventing the occurrence of filming by setting a center line average roughness Ra(μm) of the surface of a developer carrier to be Ra<0.3 μm, and to provide an image forming apparatus equipped with the device.例文帳に追加

現像剤担持体の表面の中心線平均粗さRa(μm)をRa<0.3μmとしてフィルミングの発生を防止しつつ、画像不良を引き起こさない現像装置、及びこれを備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the thin steel sheet for press working less prone to cause the star marks, either surface is the roughened one subjected to roughening by a discharge dull roll, and having surface roughness of Ra=1.0 to 2.0 μm, and the other surface is the roughened one having surface roughness of Ra=≤1.0 μm.例文帳に追加

一方の面は放電ダルロールにより粗面付けされた表面粗さRa=1.0〜2.0μmの粗面で、他方の面は表面粗さRa=1.0μm以下の粗面である星目を発生しにくいプレス加工用薄板鋼板。 - 特許庁

Ink is aqueous ink of which the viscosity at 25°C is 20-600 mPa.sec at a shearing speed of 38.4 sec^-1 and 10-120 mPa.sec at a shearing speed of 384 sec^-1 and the arithmetic average roughness (Ra) of the surface of a leading end ball is set to 0.005-0.030 μm.例文帳に追加

前記インクは、摂氏25度における剪断速度38.4sec^-1の粘度が20mPa・sec以上600mPa・sec以下、かつ剪断速度384sec^-1の粘度が10mPa・sec以上120mPa・sec以下の水性インクであり、前記先端ボールは、表面の算術平均粗さ(Ra)が、0.005μm以上0.030μm以下とした。 - 特許庁

In a glass substrate for an information recording medium, variability of surface roughness (Ra), which is calculated from measurement results of surface roughness (Ra) obtained from 10 or more fields of 10 μm square using an atomic force microscope, is less than 3%.例文帳に追加

情報記録媒体用ガラス基板は、原子間力顕微鏡を使用して、表面粗さ(Ra)を10μm四方の視野で10視野以上測定した測定結果より算出される表面粗さ(Ra)のばらつき率は、3%以下である。 - 特許庁

The polyimide film has a tensile modulus of 2 GPa or more, an Ra (average surface roughness) of 5-150 nm, and an Ra/σ [(average surface roughness)/(standard deviation of average surface roughness)] of 2-5,000 and is particularly from a polyimide in which the residue of an aromatic diamine has a diamine residue having a benzoxazole skeleton.例文帳に追加

引張弾性率が2GPa以上、Ra(平均表面粗さ)が5〜150nm、Ra/σ((平均表面粗さ)/(平均表面粗さの標準偏差))が2〜5000であるポリイミドフィルムでる。 - 特許庁

First and second gears 12, 14 finished most suitably in interlocking between the first gear 12 equipped with the teeth 20 of a first pair and the second gear 14 equipped with the teeth of a second pair have surface roughness of roughly 5-10 (μ in) Ra.例文帳に追加

第1組の歯20を備える第1ギア12と、第2組の歯を備える第2ギア14の噛み合いにおいて、最適に仕上げた第1、第2ギア12,14は、概略5〜10(μin)Raの表面あらさを有する。 - 特許庁

The arithmetic mean deviation Ra of the outer peripheral surface of the shaft 2a is not greater than 0.04 μm, and the arithmetic mean deviation Ra of both of the end surfaces 2b1, 2b2 of the thrust plate 2b is not greater than 0.04 μm.例文帳に追加

また、軸部2aの外周面の算出平均偏差Raは0.04μm以下であり、スラスト板2bの両端面2b1、2b2の算出平均偏差Raは0.04μm以下である。 - 特許庁

Specifically, the work roll used in the first roll is preferably the dull roll having a surface roughness Ra of 0.8-1.4 μm, and the work rolls used in the last two stands are preferably the bright rolls each having a surface roughness Ra of ≤0.05 μm.例文帳に追加

特に、最初のスタンドで用いるワークロールは表面粗さRa0.8〜1.4μmのダルロール、最後の2つのスタンドで用いるワークロールは表面粗さRa0.05μm以下のブライトロールが好ましい。 - 特許庁

The stage surface 1a is formed of stainless steel, whose arithmetic average height Ra in roughness curve is equal to or greater than 0.1 μm and smaller than 0.3 μm, and whose maximum height Ra in roughness curve is equal to or greater than 0.5 μm and smaller than 2.5 μm.例文帳に追加

ステージ面1aは、ステンレスで形成され、粗さ曲線の算術平均高さRaが0.1μm以上0.3μm以下かつ粗さ曲線の最大高さRzが0.5μm以上2.5μmである。 - 特許庁

When a common RA server 31 acquires an application sheet sent from a client terminal, the common RA server 31 acquires personal information from a common client authentication DB 32 according to a name included in the application sheet.例文帳に追加

共同RAサーバ31は、クライアント端末1から送られた申請書を取得すると、申請書に含まれる氏名に従って、個人情報を共同クライアント認証DB32から取得する。 - 特許庁

The relationship between a phase difference value Ra of the first phase difference layer and a phase difference value Rc of the second phase difference layer satisfies 105 nmRa165 nm, and 55 nmRc115 nm.例文帳に追加

第1の位相差層の位相差値Raと、第2の位相差層の位相差値Rcの関係は、105nm≦Ra≦165nm、55nm≦Rc≦115nmを満たしている。 - 特許庁

Then, processing for improving surface roughness Ra (reducing surface roughness Ra) is applied only to a surface-roughness improving processing region which is part of the conical orbit face 153.例文帳に追加

そして、円すい状軌道面153の一部分である面粗度向上加工領域のみに対して面粗度Raを向上する(面粗度Raを小さくする)加工を施している。 - 特許庁

例文

After a TMR area is inputted in a step S4, the MR ratio and RA in the MR/RA area (value) determined in the step S3 are set in a step S5.例文帳に追加

ステップS4でTMR面積を入力した後、ステップS5において、ステップS3で決定したMR/RA領域(値)にあるMR比,RAを設定する。 - 特許庁

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