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raを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 2467



例文

The striking surface is machined to have a more uniform texture with a roughness of more than 40 Ra.例文帳に追加

打球面は、粗さが40Ra以上の一様なテキスチャを有するよう機械加工される。 - 特許庁

Plural temperature sensors are nearly vertically provided in each areas Ra-Rf.例文帳に追加

また、各領域Ra〜Rfには略鉛直方向に複数の温度センサが設置されている。 - 特許庁

The punch face is surface- treated to have a surface roughness Ra of ≤1.0 μm.例文帳に追加

また、パンチ面86、70を面粗度Raが1.0μm以下となるように表面処理する。 - 特許庁

Especially, the level difference is equal to or below 10 μm, and roughness of the rough surface part is, an average roughness Ra=10 to 2 μm.例文帳に追加

特に段差は10μm以下、粗面部の粗さは平均粗さRa=10〜2μmとする。 - 特許庁

例文

The surface roughness of the magnetic recording medium is specified to be in the range of 0.1≤Ra2.0 nm.例文帳に追加

また、磁気記録媒体の表面粗さを、0.1nm≦Ra≦2.0nmの範囲内とする。 - 特許庁


例文

Therein, the plasma resistant member desirably has a surface roughness Ra of ≤5 μm.例文帳に追加

ここで、耐プラズマ性部材は、表面粗さRaが5μm以下であることが望ましい。 - 特許庁

The first and second input elements Ra, Sa are connectable via a clutch C2.例文帳に追加

第1及び第2入力要素Ra,SaがクラッチC2を介して連結可能である。 - 特許庁

As a temperature of the return air RA is higher than a temperature of the outside air OA in winter, the temperature of outside air OA is increased.例文帳に追加

冬場は還気RAの温度は外気OAの温度よりも高いので、外気OAは温度が上がる。 - 特許庁

The surface roughness Ra of a base material before being coated with the hard carbon thin film is ≤ 0.03 μm.例文帳に追加

硬質炭素薄膜の被覆前における基材の表面粗さが、Raで0.03μm以下である。 - 特許庁

例文

To provide a method for operating an electric furnace by which desired arc resistance Ra can be maintained.例文帳に追加

所望のアーク抵抗Raを維持することが可能な電気炉の操業方法を提供する。 - 特許庁

例文

The large circular portion 14 has a radius of curvature Ra being 10-40% of a ground width TW.例文帳に追加

大円弧部14は、曲率半径Raが、接地巾TWの10〜40%である。 - 特許庁

Then the currents of the conductive FETs are composited and the resulting current flows to a resistor ra.例文帳に追加

そしてオンとされたFETの電流が合成され、抵抗raに流れる。 - 特許庁

Surface roughness Ra to be a bonding interface is set to be 0.01 to 2 μm.例文帳に追加

接着界面となるべき面の表面粗さRaは0.01μm〜2μmに設定されている。 - 特許庁

This substrate is especially effective when the rough-surface stencil of the reverse face resin layer has a specific roughness (Ra).例文帳に追加

裏面樹脂層の粗面型付けが、特定の粗面度(Ra)を有する場合に特に効果的である。 - 特許庁

In winder, the temperature of the return air RA is higher than the temperature of the outside air OA, and so the outside air OA has a higher temperature.例文帳に追加

冬場は還気RAの温度は外気OAの温度よりも高いので、外気OAは温度が上がる。 - 特許庁

The surface roughness of the inner diameter face 9a of the counter bore portion 9 is 3.2 Ra or less.例文帳に追加

前記カウンタボア部9の内径面9aの表面粗さを3.2Ra以下とした。 - 特許庁

Mean values Ra, Ga, Ba of R, G, B signal values of each pixel on the full display screen are calculated.例文帳に追加

各画素のR、G及びB信号値の、表示画面全体の平均値Ra、Ga、Baを算出する。 - 特許庁

An RA filter 9 is attached on a suction opening cover 32 for opening and closing the front pane 3.例文帳に追加

また、フロントパネル3を開閉する吸込口カバー32にRAフィルタ9が取り付けられる。 - 特許庁

The centerline surface average roughness Ra of the surface of the layer 20 is 4 nm or smaller.例文帳に追加

また、上層20の表面の中心線平均粗さRaが4nm以下である。 - 特許庁

In addition, by 'nearly equal', in this case, is meant as in the equation: 25<α<4, where Ra/Xa=α.例文帳に追加

なお、この場合の「ほぼ等しい」とは、Ra/Xa=αとすると、下式のとおりである。 - 特許庁

A surface roughness Ra of the sliding face of the pin member 44 is 0.10 μm or less.例文帳に追加

前記ピン部材44の摺動面の表面粗さRaは、0.10μm以下である。 - 特許庁

Means 2: surface roughness Ra of outer circumferential surface of a roller in the roller follower is set to be 0.4-2.2 μm.例文帳に追加

(手段2)ローラフォロアのローラ外周面の表面粗さRaを0.4〜2.2μmとする。 - 特許庁

(ε): The non-adhesive layer is 0.30 μm or higher in roughness (Ra) and 30% or higher in haze.例文帳に追加

(ホ):非粘着層は、粗さ(Ra)が0.30μm以上、かつヘーズが30%以上である。 - 特許庁

Further, a roughness Ra of a surface of a cutting chips discharge groove is set to 0.01-0.11 μm.例文帳に追加

併せて、切屑排出溝表面の粗度Raを0.01〜0.11μmにする。 - 特許庁

The surface roughness Ra of a circumferential surface 511 of the roll base member 51 is 0.03 to 8 μm.例文帳に追加

ロール基材51の周面511の表面粗さRaは、0.03〜8μmである。 - 特許庁

A comparing means A11 generates the corresponding information of the transistors included in net lists RA and RT.例文帳に追加

比較手段A11はネットリストRA,RTに含まれるトランジスタの対応情報を生成する。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition which improves the polishing speed, decreases the surface defects such as scratches or pits, and improves the surface smoothness such as surface roughness (Ra) and waviness (Wa); a polishing method using the composition; and a magnetic disk substrate improved in surface smoothness such as surface roughness (Ra) and waviness (Wa) and a method for producing the same.例文帳に追加

研磨速度を向上させると共に、スクラッチ、ピット等の表面欠陥が少なく、表面粗さ(Ra)、及びうねり(Wa)等の表面平滑性を向上させることが可能な研磨液組成物、該研磨液組成物を用いる研磨方法、表面粗さ(Ra)、及びうねり(Wa)等の表面平滑性が向上した磁気ディスク基板、並びにその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The tank 20 has an opening 25 at an upper part and houses coloring materials Ba, Ra.例文帳に追加

収容槽20は上部に開口部25を有し着色材Ba,Raを収容する。 - 特許庁

According to this constitution, the value of RA can be reduced and the resistance change rateR/R) can be enlarged.例文帳に追加

これにより、RAを小さくし、且つ抵抗変化率(ΔR/R)を大きくすることが可能である。 - 特許庁

When Ra is 2 μm or more, the flow of the liquid itself is made non-uniform to lower the antibacterial effect.例文帳に追加

Raが2μm以上であると液体自体の流れが不均一となり抗菌効果を低下させる。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the part not subjected to polishing treatment is set to be not less than 0.5 μm.例文帳に追加

ポリッシュ加工を施していない部分の表面粗さRaを、0.5μm以上に設定する。 - 特許庁

In the scintillator plate with the scintillator layer consisting of deposition crystals on a substrate, the average roughness (Ra) of the central line on the contact surface of the substrate contacting the scintillator layer is 0.001≤Ra≤0.1 μm and the maximum roughness (Rt) of the contacting surface and the average roughness (Ra) have a relation of 5≤Rt/Ra≤150.例文帳に追加

基材上に蒸着結晶からなるシンチレータ層を有するシンチレータプレートにおいて、該基材の該シンチレータ層と接触する接触面の中心線平均粗さ(Ra)が、0.001≦Ra≦0.1μmであり、該接触面の最大粗さ(Rt)と該Raが、5≦Rt/Ra≦150である関係を有することを特徴とするシンチレータプレート。 - 特許庁

A strip roll RA winding the strip is rotatably supported by a supporting plate 320a.例文帳に追加

帯状材を巻回してなる帯ロールRAが支持板320aに回転自在に支持されている。 - 特許庁

It is preferable that the mean surface roughness Ra of the film is at a value from 5 nm to 120 nm.例文帳に追加

また、フィルムの平均表面粗さRaは5nm以上、120nm以下であることが好ましい。 - 特許庁

A surface roughness of a surface of a cell vessel 5 is set at Ra=5 μm by a sand blast treatment.例文帳に追加

電池容器5表面は、サンドブラスト処理により表面粗さRa=5μmとした。 - 特許庁

The connected parts La and Ra have centering projections for receiving pressing forces from disks d and D.例文帳に追加

連接部La,Raにはディスクd,Dから押圧力を受けるセンタリング用凸部が設けられる。 - 特許庁

A radius of curvature Ra of the large arc portion 14 occupies 10 to 40% of the grounding width.例文帳に追加

大円弧部14の曲率半径Raは、接地巾TWの10〜40%をなす。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the peeling prevention treatment section 20 is 10 to 60 μm.例文帳に追加

剥離防止処理部20は、表面粗さRaが、10μm以上60μm以下である。 - 特許庁

An inner diameter Rb of the inner diameter side step 23 is equal to or larger than an outer diameter Ra of the outer diameter side step 24.例文帳に追加

内径側段差部23の内径Rbを外径側段差部24の外径Raと同径以上とする。 - 特許庁

The surface roughness of a belt groove 6 of the V pulleys 2, 4 is set in the range of Ra 0.5-3.0 μm.例文帳に追加

Vプーリ2,4のベルト溝6の表面粗さをRa0.5〜3.0μmの範囲に設定する。 - 特許庁

To provide a simple and preliminarily diagnosing method specific for human rheumatoid arthritis (RA) with high accuracy.例文帳に追加

簡易で、精度が高い予診性のヒト慢性関接リウマチ(RA)特異的診断法の提供 - 特許庁

The die lip 4 is treated in such a manner that the surface roughness (Ra value) may become 0.1 μm or lower.例文帳に追加

ダイリップ4は、表面粗さ(Ra値)が0.1μm以下となるように加工されている。 - 特許庁

Further preferably, the surface roughness Ra of the solder layer 8 is 0.10 μm or less.例文帳に追加

さらに好ましくは、はんだ層8の表面粗さRaが0.10μm以下である。 - 特許庁

A thickness of the film is 1-200 μm, and a surface roughness Ra of the pipe inner face is 1-50 μm.例文帳に追加

皮膜の厚さが1〜200μmであり、管内面の表面粗さRaが1〜50μmである。 - 特許庁

Furthermore, the surface roughness (arithmetic mean height) Ra of the roughened part 5 is preferably 1-3 μm.例文帳に追加

また、粗化部5の表面粗さ(算術平均高さ)Raは、1μm〜3μmであることが好ましい。 - 特許庁

In addition, a surface roughness of the coating is preferably Ra: 3-5 μm and Rmax: 24-35 μm.例文帳に追加

また皮膜の表面粗度は、Ra:3〜5μm、Rmax:24〜35μmであることが望ましい。 - 特許庁

This traffic information is received by a radio receiver RA and the received traffic information is analyzed.例文帳に追加

ラジオ受信機RAで交通情報を受信し、受信した交通情報の解析を行う。 - 特許庁

Also, the center line mean roughness (Ra) of the surface of this ceramic film is set at not more than 30 nm.例文帳に追加

また、このセラミックス膜の表面の中心線平均粗さ(Ra)を30nm以下とした。 - 特許庁

The surface roughness Ra of a front face of the surface layer 11 is specified to be 0.5 μm or smaller.例文帳に追加

表面層11の表面の表面粗さRaが0.5μm以下に設定されている。 - 特許庁

例文

The surface roughness Ra of the conductive film is preferably ≤1.0 μm.例文帳に追加

前記溶射により形成された導体膜の表面粗さが、Ra≦1.0μmであることが好ましい。 - 特許庁

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