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second stepの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5370件
In the second film-forming step, an oil-repellent second film 105 is formed on an uneven surface of the first film 103 after the post-irradiation step.例文帳に追加
第2の成膜工程では、後照射工程後の第1の膜103の凹凸面に撥油性を有する第2の膜105を成膜する。 - 特許庁
The manufacturing method of the carbon fiber composite resin material comprises a first mixing step (a), a second mixing step (b) and a step (c) for curing the second mixture.例文帳に追加
本発明にかかる炭素繊維複合樹脂材料の製造方法は、第1の混合工程(a)と、第2の混合工程(b)と、第2の混合物を硬化する工程(c)と、を含む。 - 特許庁
Additionally, the second semiconductor layer including a plurality of the layers are formed by repeating the first step, the second step, and the third step in this order.例文帳に追加
さらに、前記第1の工程と、前記第2の工程と、前記第3の工程と、をこの順に繰り返すことにより、複数の前記層を含む前記第2半導体層を形成する。 - 特許庁
First step, second step and third step are repeated, and the time elapsing until the waveform-shaping circuit generates a prescribed number of pulse signals is obtained.例文帳に追加
第1工程、第2工程、及び第3工程を繰り返し、波形整形回路が所定の数のパルス信号を生成するまでの時間を求める。 - 特許庁
There is provided the inspection method for semiconductor device including a first wafer inspection step, a second wafer inspection step, and a determination step.例文帳に追加
実施形態によれば、第1ウエハ検査工程と、2ウエハ検査工程と、判定工程とを含む半導体装置の検査方法が提供される。 - 特許庁
Next, space-time derivatives of plural images are used to generate a second graph G2 (step 410), and a solution of a second maximum flow is obtained using the second graph G2 to obtain a second minimum cut (step 412), and a movement speed component 416 is calculated from the second minimum cut (step 414).例文帳に追加
次に、複数画像の空間時間導関数を用いて第2のグラフG_2を作成し(ステップ410)、その第2のグラフG_2で第2の最大フローの解を得ることでそれから第2の最小カットを得て(ステップ412)、その第2の最小カットから運動速度成分416を計算する(ステップ414)。 - 特許庁
The second step is conducted in a condition where a flow ratio of a semiconductor material gas is lower than in the first step.例文帳に追加
第2の工程は、第1の工程よりも半導体材料ガスの流量比が小さい条件で行う。 - 特許庁
In the first polishing step, a polishing brush having higher rigidity than in the second polishing step is used to polish the end face.例文帳に追加
第1研磨工程では、第2研磨工程よりも剛性が高い研磨ブラシを用いて端面を研磨する。 - 特許庁
The second step is started after a prescribed delay d1 with respect to the first step and continued for a prescribed time t2.例文帳に追加
第2の段階は各第1の段階に対し所定の遅延d1後に起動し所定時間t2継続する。 - 特許庁
Disclosed is the method for producing a carbon fiber composite material 50, which comprises a first step and a second step.例文帳に追加
本発明の炭素繊維複合材料50の製造方法は、第1の工程と、第2の工程と、を含む。 - 特許庁
The third step is performed after the second step and before the metallic member is formed to have the final shape.例文帳に追加
第3の工程は、第2の工程の後であって、金属部材を最終形状に成形する前に実施する。 - 特許庁
The spot is circular in the vicinity of the ends of the X, Y axes and its position in the first step coincides with that in the second step.例文帳に追加
X,Y軸端付近ではスポットが円形であり、その位置も1回目と2回目とで一致している。 - 特許庁
The second step is provided with a step for fixing a fitting seat 115 to the car body in a part near the windshield by a clip 126.例文帳に追加
第2工程は取付け座115をフロントガラス近傍の車体にクリップ126で固定する工程を備える。 - 特許庁
Also, the LiNbO_3 film deposited in the first step is heated at a temperature above 500°C in the second step.例文帳に追加
また、第2の工程では、第1の工程で堆積したLiNbO_3膜を500℃以上の温度で加熱する。 - 特許庁
In the second deposition step, deposition is performed to fill the trench having the opening enlarged in the etching step with a silicon film.例文帳に追加
第2成膜工程では、エッチング工程で開口部が広げられた溝にシリコン膜を埋め込むように成膜する。 - 特許庁
The step (C) includes a step of altering the communication request by the second ID in order to identify the first user.例文帳に追加
前記(C)ステップは、第1ユーザを特定するために、第2IDで前記通信リクエストを変更するステップを含む。 - 特許庁
When the average luminance Yave exceeds the second threshold (step S104), γ pixels are mixed (step S107).例文帳に追加
平均輝度Yaveが第2の閾値を超えるとき(ステップS104)、γ個の画素混合を行なわせる(ステップS107)。 - 特許庁
The image recognition apparatus performs pattern matching determination after making the resolution lower in a second step than in the first step.例文帳に追加
画像認識装置は2段階目に1段階目よりも解像度を低くした後にパターン照合判定を行う。 - 特許庁
The first step 30 and the second step 46 on which an operator 5 can be elevated and lowered are provided on an ingot loader 10.例文帳に追加
インゴットローダー10にオペレータ5が昇降可能な第1踏み台30と第2踏み台46を設ける。 - 特許庁
Second PN offset for a second BTS is identified based on the derived timing (step 36).例文帳に追加
この導出したタイミング基準に基づいて第2BTS用の第2PNオフセットを識別する(ステップ36)。 - 特許庁
In a second templating step, a pattern of the first template is imprinted to form a second template.例文帳に追加
第2のテンプレート作製ステップは、前記第1のテンプレートのパターンを転写して第2のテンプレートを作製する。 - 特許庁
The method also comprises a step of then removing the second photoresist pattern and the second metal layer on the pattern by a lifting-off method.例文帳に追加
次に、リフトオフ法により第2のフォトレジストパターン及びその上の第2の金属層を除去する。 - 特許庁
In a second process (a step A10), the first substrate and the second substrate are stuck to each other.例文帳に追加
また、第二工程(ステップA10)では、前記第一基板及び前記第二基板を互いに貼着する。 - 特許庁
It is preferred to circulate a carbon dioxide gas also through the second washing liquid in the second washing step.例文帳に追加
第二洗浄工程における第二洗浄液にも炭酸ガスを流通させることが好ましい。 - 特許庁
Next, the client terminal executes a second script requiring processing to a second server (step 2-3).例文帳に追加
ついで、クライアント端末は、第2サーバに対して処理を要求する第2スクリプトを実行する(ステップ2−3)。 - 特許庁
In the step (b), a second elastomer is mixed in the first composite elastomer to obtain a second composite elastomer.例文帳に追加
工程(b)は、第1の複合エラストマーに、第2のエラストマーを混合して第2の複合エラストマーを得る。 - 特許庁
The leading step part has a main step part 50a defined by the first and second recesses to extend in a second direction, and at least one extending step 50b extended from the main step part to the inflow side and positioned between the first recess and the second recess.例文帳に追加
リーディングステップ部は、第1および第2凹所により規定され第2方向に延びる主ステップ部50aと、主ステップ部から流入側に向かって延出し第1凹所と第2凹所と間に位置する少なくとも1つの延出ステップ部50bと、を有している。 - 特許庁
When an end face of a glass substrate for a magnetic recording medium having a through hole formed at the center is subjected to polishing, the polishing step of the circumferential end face comprises a first polishing step and a second polishing step, in which the polishing conditions are varied between the first polishing step and the second polishing step.例文帳に追加
中央部に貫通孔が形成された磁気記録媒体用ガラス基板の端面を研磨する場合に、外周端面の研磨工程を第1研磨工程と第2研磨工程に分け、第1研磨工程と第2研磨工程の研磨条件を変える。 - 特許庁
An integrated circuit is completed by conducting a step of contact opening, a step of forming first wiring 19, a step of forming an interlayer insulating film 20, and a step of forming a second wiring 21 (inductor).例文帳に追加
コンタクト開口工程、第1配線19の形成工程、層間絶縁膜20の形成工程、及び第2配線21(インダクタ)の形成工程を経て集積回路として完成する。 - 特許庁
The production method is provided with: a plating step S10; a first treatment step S11; a second treatment stage S12; a third treatment step S13; and a fourth treatment step S14.例文帳に追加
本発明の製造方法は、めっき工程S10と、第1処理工程S11と、第2処理工程S12と、第3処理工程S13と、第4処理工程S14とを備えている。 - 特許庁
An improvement area x is divided into an arbitrary plurality of divisions x', x', etc. and a primary step, having one cycle consisting of the first step after a preparation step is carried out and the second step followed by it, is repeated.例文帳に追加
改良エリアxを任意の複数区画x’、x’…に区分し、準備工程の実施後は第一工程とこれに続く第二工程とを1サイクルとした本工程を繰り返す。 - 特許庁
The method for obtaining the human albumin solution comprises (a) a first dialysis step (diafiltration); (b) a step of stabilizing the solution with NaCl and at least one amino acid; (c) a step of heating the solution; and (d) a second dialysis (diafiltration) step.例文帳に追加
a)第1の透析(ダイアフィルトレーション)、b)NaCl及び少なくとも1つのアミノ酸による溶液の安定化、c)溶液の加熱、d)第2の透析(ダイアフィルトレーション)を含む。 - 特許庁
When a first step-up preliminary notice performance develops into a preliminary notice performance of a fourth step or higher, a second step-up advance performance is limited to the advance notice performance up to a third step.例文帳に追加
そして、第1ステップアップ予告演出が第4段階以上の予告演出まで発展する場合、第2ステップアップ予告演出を第3段階までの予告演出に制限する。 - 特許庁
It is desirable to set 2-6 cycles welding time at the first step power- supply and 1-3 cycles cooling time at each step power-supply from the second step power-supply to the last step power-supply.例文帳に追加
第1段通電の通電時間は2〜6サイクル、第2段通電から最終段通電までの各段通電の間に、1〜3サイクルの冷却時間を設けることが好ましい。 - 特許庁
A fifth step 16 for performing arrangement of an optical port that is a part having photoelectric converting function may be executed after the second step 12 and before the third step 18 and the fourth step 17.例文帳に追加
第2のステップ12の後、第3のステップ18と第4のステップ17の前に、光電変換機能を有した部品である光ポートの配置を行なう第5のステップ16を実行してもよい。 - 特許庁
The method of manufacturing a semiconductor device includes: a first suction process (step S30); a releasing process (step S40); a second suction process (step S50); and an exposure process (step S60).例文帳に追加
この半導体装置の製造方法は、第1吸着工程(ステップS30)、開放工程(ステップS40)、第2吸着工程(ステップS50)、及び露光工程(ステップS60)を有する。 - 特許庁
In the step S9, a magnetron drive time Ts is set to be 120 second.例文帳に追加
ステップS9では、マグネトロン駆動時間Tsを「120秒」に設定する。 - 特許庁
The first heating step is a step of heating and sealing the second end 10B by making a heating means 20 traverse above the second end 10B.例文帳に追加
第1の加熱工程は、加熱手段20を第2の端部10B上を横切らせることにより第2の端部10Bを加熱して封止する工程である。 - 特許庁
The first set is executed over a time step sufficiently longer than the second set.例文帳に追加
第1セットは、第2セットより十分に長い時間ステップで実行される。 - 特許庁
A second step is performed to images photographed by the camera.例文帳に追加
第2の段階はカメラによって撮影された各画像に対して行われる。 - 特許庁
The method also comprises the step of selectively distributing the material for forming a second part 38.例文帳に追加
第2の部分38を形成するために材料を選択的に分配する。 - 特許庁
In a second dry etching step, dry etching is applied to the substrate for the master disk with the lower layer resist 11 as a mask and in a second ashing step, the lower layer resist 11 is removed.例文帳に追加
第2のドライエッチング工程で、下層レジスト11をマスクにして原盤用基板をドライエッチングし、第2のアッシング工程で、下層レジスト11を除去する。 - 特許庁
A forming method comprises the step of laminating a first pattern 512 and a second pattern 512a.例文帳に追加
第1パターン512と第2パターン512aとを積層して形成する。 - 特許庁
In a step S23, whether or not video data exist in the VOBU before ΔT second is discriminated.例文帳に追加
ステップS23で、ΔT前のVOBUにビデオデータが存在するか判定される。 - 特許庁
The method may include a step of arranging the contact tip between the first and second members, and a step of capturing the tip between the first and second members.例文帳に追加
その方法は第1と第2の部材間に接触チップを配設する手順と、第1と第2の部材間に接触チップを捕獲する手順を具備しても良い。 - 特許庁
Then, the first step-up notice performance is executed in a first movable member 78 and the second step-up notice performance is executed in a second movable member 88.例文帳に追加
そして、第1ステップアップ予告演出を第1の可動部材78で実行し、第2ステップアップ予告演出を第2の可動部材88で実行する。 - 特許庁
Next, the waveguide is irradiated with ultraviolet rays at a second place (step 306), and the optical circuit is heat-treated at a second temperature lower than the first (step 308).例文帳に追加
次に、第2の箇所で導波路に紫外線を照射し(ステップ306)、第1の温度よりも低い第2の温度で光回路を熱処理する(ステップ308)。 - 特許庁
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