| 意味 | 例文 |
second-layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21457件
The liquid crystal display device 10 includes first and second substrates 20, 30 and a liquid crystal layer 40 between them.例文帳に追加
液晶表示装置10は、第1及び第2基板20,30とそれらの間の液晶層40とを備える。 - 特許庁
By the second foaming rubber layer 37 positioning on the circular hole 34, a weak fragile part 38 is composed.例文帳に追加
円形穴34上に位置する第2の発泡ゴム層37により脆弱な脆弱部38を構成する。 - 特許庁
The first light emitting unit 7 and the second light emitting unit 8 are laminated via the intermediate layer 9.例文帳に追加
前記第一発光ユニット7と前記第二発光ユニット8とが前記中間層9を介して積層される。 - 特許庁
Second through-holes 32 and 36 communicating with the third through-holes 52 and 56 are formed in the intermediate layer 30.例文帳に追加
中間層30には、第3貫通孔52、56に連通する第2貫通孔32、36が形成されている。 - 特許庁
At this point, the surplus Mn that does not contribute to the formation of the second barrier film 13 is diffused into the Cu layer 20.例文帳に追加
このとき、第2バリア膜13の形成に寄与しない余剰のMnは、Cu層20中に拡散する。 - 特許庁
In the next step, the second layer 34 is completely removed beyond a regional area of at least one piece of the recessed part 30.例文帳に追加
次のステップで、少なくとも1個の凹部30の領域範囲を超えて第二層34を完全に除去する。 - 特許庁
A hardening resin 310 lies between the adhesion layer 379 and the second face 59 of the edge of the lead-out hole 54.例文帳に追加
接着層379と引き出し孔54の縁の第2面59とに硬化性樹脂310が介在する。 - 特許庁
To provide an optical recording medium capable of providing satisfactory reflectance and a low jitter value in a second recording layer.例文帳に追加
第2記録層において十分な反射率や低いジッター値を実現できる光記録媒体を提供する。 - 特許庁
Additionally the contactor provides gilding process on the entire circumference of the solid coiled area to form a second gold plating layer 8b.例文帳に追加
さらに密着巻き部分の外周全体に金メッキ処理を実施し第2の金メッキ層8bを形成する。 - 特許庁
Thereafter, the exhaust gas flows through the air layer chamber 83 from the second internal chamber 89 and discharged through an exhaust port 15 to the external part.例文帳に追加
その後、第2内部室89から空気層室83を通り排気口15から外部に排出する。 - 特許庁
It is desirable that the ridges are provided on one side of the resin foam sheet via a second metal foil layer.例文帳に追加
突条が第2の金属箔層を介して樹脂発泡体シートの一面に設けられていることが好ましい。 - 特許庁
In the second step, a stacked body between the birefringent layer and an alignment film is manufactured by covering the alignment film with a polymer.例文帳に追加
前記配向膜に高分子を被覆して、複屈折層と配向膜との積層体を製造する第2ステップ。 - 特許庁
The lower layer wire 101 is exposed earlier at the base of the second via-hole 114 than the first via-hole 113.例文帳に追加
第二のビアホール114底部において、第一のビアホール113よりも先に下層配線101が露出する。 - 特許庁
A second trench 8 is formed to be in contact with the n^+-type source region 7, and reach the n^--type drift layer 3.例文帳に追加
第2トレンチ8は、n^+型ソース領域7に接し、n^-型ドリフト層3に達するように設けられている。 - 特許庁
The heat insulating and retaining material is constituted by laminating a first cloth, a high foamed layer and a second cloth in this order and bonding them to one another.例文帳に追加
この断熱保温材は、第一布帛、高発泡層及び第二布帛の順で積層貼合されてなる。 - 特許庁
In addition, a second active material layer 9b is formed by printing the active material paste 72 on the collector 8.例文帳に追加
さらに、その集電体8の上に活物質ペースト72を印刷して第2活物質層9bを形成する。 - 特許庁
The first insulating film 107a and the second insulating film 107b constitute a current constriction layer 107.例文帳に追加
第1の絶縁膜107aおよび第2の絶縁膜107bが電流狭窄層107を構成する。 - 特許庁
Thus, the second low-melting glass layer 38 is not formed at corner portions a of the package base body 31.例文帳に追加
したがって、第2低融点ガラス層38は、パッケージベース本体31のコーナ部aの部分に形成されていない。 - 特許庁
The nonvolatile semiconductor memory device has a second insulating layer (14) on the other side of the first gate (6).例文帳に追加
この不揮発性半導体記憶装置は、第1ゲート(6)の他側方に、第2絶縁層(14)を備えている。 - 特許庁
A second gate region 7 made of AlXGa_(1-x)N by heteroepitaxial growth is formed on a channel layer.例文帳に追加
第2ゲート領域7をチャネル層の上にヘテロエピタキシャル成長によって形成したAl_XGa_(1-X)Nで構成する。 - 特許庁
A second main surface of the brim-like part 1g is bonded to a metal stage 52 by a metal paste layer 117.例文帳に追加
該鍔状部1gの第二主表面は金属ステージ52に対し金属ペースト層117により接着される。 - 特許庁
A second conductive layer is formed and a source/drain line 128 comes into contact with the source/drain by a fourth mask step.例文帳に追加
第2導電層が形成され、第4マスク工程によりソース/ドレイン線128がソース/ドレインと接触する。 - 特許庁
Consequently, a region from the surface of the silicon substrate 100 up to the second depth B becomes the amorphous layer 101.例文帳に追加
これによって、シリコン基板100の表面から第2の深さBまでの領域がアモルファス層101となる。 - 特許庁
The liquid crystal display device is formed by sealing a liquid crystal layer between a first substrate 3 and a second substrate 4.例文帳に追加
液晶表示装置において、第1基板3と第2基板4との間に液晶層が封入されている。 - 特許庁
An adjacent layer 61 consisting of a metal material is adjacent to the second end part 5d through an insulation film 60.例文帳に追加
第2の端部5dには、絶縁膜60を介して、金属材料よりなる隣接層61が隣接している。 - 特許庁
The base layer contains a plurality of flow through holes 20 connecting the first and second outside layers directly to each other.例文帳に追加
ベース層は、第1及び第2外側層を互いに直接結合する複数の流れ通し孔20を含む。 - 特許庁
Two second insulating layers 1b with a space in between are formed on a first flat insulating layer 1a.例文帳に追加
平面状の第1の絶縁層1aの上に、間隔を有して2つの第2の絶縁層1bを設ける。 - 特許庁
A barrier metal 20 is formed over the first wiring layer 16, the second interlayer insulating film 18 and the silicon film 30.例文帳に追加
第1配線層16と第2層間絶縁膜18とシリコン膜30との上にバリアメタル20を成膜する。 - 特許庁
The insulating layer 18 electrically insulating the first and second plate units is interposed between these plate unit.例文帳に追加
第1及び第2プレートユニット間には、これらプレートユニットを電気的に絶縁する絶縁層18が介在している。 - 特許庁
An etching resist 28 having a thick first part 24 and a thin second part 26 is formed on a metal layer 22.例文帳に追加
金属層22上に厚い第1部分24と薄い第2部分26を有するエッチングレジスト28を形成する。 - 特許庁
The liquid crystal layer 23 is disposed between the first substrate 21 and the second substrate 22 and contains an optical rotatory substance added therein.例文帳に追加
液晶層23は第一基板21と第二基板22の間に設置されて、旋光性物質が添加される。 - 特許庁
A second dielectric substrate 26 is disposed on an upper surface 30 of the heat-generative electron device via an insulating layer 20.例文帳に追加
この発熱性電子素子の上側面30には、絶縁層20を介して第2誘電体基板26が配置されている。 - 特許庁
Then, an anti-punch through layer 13A is formed in the P-type well 11A by a second ion implantation process.例文帳に追加
そして、第2のイオン注入工程により、P型ウエル11Aの中に、パンチスルー防止層13Aを形成する。 - 特許庁
The second silicone rubber layer includes crushed silicon powder and spherical fused silica.例文帳に追加
前記第二のシリコーンゴム層に、粉砕したケイ素粉末及び球状溶融シリカが含まれていることが特徴である。 - 特許庁
The second electrode pad 13 is electrically connected to a potential stabilization layer 11a (power source or ground) of the substrate 11.例文帳に追加
第2電極パッド13は、基板11の電位安定層11a(電源又はグランド)と電気的に接続される。 - 特許庁
The conductor layer 132 is formed over a generally overall region in a second direction A2 in each cutoff part 13.例文帳に追加
導体層132は、切り離し部13では、第2の方向A2の略全域に亘って形成されている。 - 特許庁
The liquid crystal display device includes a backlight module 102, a first transparent substrate 106, a second substrate 114, and a liquid crystal layer 110.例文帳に追加
バックライトモジュール102、第1の透明基板106、第2の基板114及び液晶層110を備える。 - 特許庁
The semiconductor device comprises contact plugs connected to wiring via a barrier layer, and a first and second insulating films.例文帳に追加
半導体装置は、バリア層を介して配線に接続されたコンタクトプラグ、第1及び第2の絶縁膜を有する。 - 特許庁
The common-use substrate 14 is divided into the first area 32 and the second area 33 in each layer of a four-layered structure.例文帳に追加
共用基板14は、4層構造の各層で第一エリア32及び第二エリア33にエリア分けされている。 - 特許庁
In this case, a second visible portion 14a_2 is applied with a colored layer CT composed of a coating material containing a metal powder.例文帳に追加
なお、第2視認部位14a_2には金属粉を含有した塗料からなる着色層CTを施す。 - 特許庁
At least one end surface of the second conductor layer region is disposed in the inner side to the reflection end surface.例文帳に追加
そして、第2の導体層領域の少なくとも一方の端面が反射端面より内側に設定される。 - 特許庁
The reinforcing belt 10 and the second belt 5B disposed the outermost periphery of the main belt layer 5 become the cross ply structure.例文帳に追加
そして、補強ベルト10と、主ベルト層5の最外周に配置される第2ベルト5Bとクロスプライ構造となる。 - 特許庁
First, a substrate film 30, a first film, a releasable film and a second film are formed in this order on a recording gap layer 9.例文帳に追加
まず、記録ギャップ層9の上に、下地膜30、第1の膜、剥離膜、第2の膜が順に形成される。 - 特許庁
Furthermore, the first electrolyte layer is disposed in an enclosed region formed by the two second electrolyte layers.例文帳に追加
さらに、第1の電解質層が、2つの前記第2の電解質層により形成される閉空間に配置される。 - 特許庁
The second semiconductor layer 11a consists of the III-V compound semiconductor comprising at least nitrogen and gallium.例文帳に追加
第2の半導体層11aは、少なくとも窒素およびガリウムを含むIII−V化合物半導体から成る。 - 特許庁
In this state, the terminals T1-T5 are connected with a second layer wiring L2 via through holes TH1.例文帳に追加
このような状態で端子T1〜T5に対して第2層配線L2にスルーホールTH1を通じて接続する。 - 特許庁
The chamber 23 is formed by applying wet etching to the second layer 2 present between the entrance part 21 and the exit part 22.例文帳に追加
入口部21と出口部22との間に存する第2層2にウェットエッチングを施して、チャンバ23を形成する。 - 特許庁
The second displacement sensor 13 detects the peripheral face position of the rolling roll 2 on which the preliminary reduction powder layer Z is formed.例文帳に追加
第2変位センサ13は、予備圧下粉末層Zが形成された圧延ロール2の周面位置を検出する。 - 特許庁
The gate polysilicon layer G11 is shared by a second memory cell, which is adjacent to the cell along its length.例文帳に追加
このゲートポリシリコン層G11は、セルの長手方向で隣接する第2のメモリセルとの間で共有されている。 - 特許庁
To inspect whether or not an extraction part fulfills a function to extract a second electrode to one face of a piezoelectric layer.例文帳に追加
引出部が第2電極を圧電層の一方の面に引き出すための機能を果たしているかを検査する。 - 特許庁
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