「submicron process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide the method of processing a high voltage p++/n- well junction in a standard submicron CMOS process.例文帳に追加

標準サブミクロンＣＭＯＳプロセスで、高耐圧ｐ^＋＋／ｎ^−ウエル接合部を処理する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stable processing method of a recessed portion by which accuracy of a submicron order is easily obtained without using a complicated processing process such as a lithography process.例文帳に追加

リソグラフィー工程のような複雑な加工工程を使用することなく、簡単にサブμｍ精度の安定した凹部の加工方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a TMR film in microstructure of submicron order in high yield through a simple process.例文帳に追加

容易なプロセスかつ高い歩留まりでサブミクロンの微細構造を有するＴＭＲ膜を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a circuit for measuring lots of semiconductor elements which enables the abundant measurings of each variation parameter in order to establish a high precision model used for a submicron process.例文帳に追加

サブミクロンプロセスに用いる高精度モデルを確立するための、各ばらつきパラメータの多量測定が可能となる多量測定回路を提供する。 - 特許庁

To provide a bias circuit for accurately adjusting the gain of an amplifier without being affected by variation in manufacturing even in a submicron process.例文帳に追加

サブミクロン・プロセスにおいても製造上のばらつきに影響されずに精度良く増幅器の利得を調整することが可能なバイアス回路を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication technology of a semiconductor device in which a semiconductor device having a channel length of submicron order can be fabricated by a simple process at low cost.例文帳に追加

低コストかつ簡易な工程でサブミクロンオーダのチャネル長を有する半導体装置を製造することができる半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁

To provide a mold for forming lens and a device for forming lens which enables a user to check relative deviation between two surfaces of an incident surface and a light-emission surface of a lens on the lens forming surface of a mold in a forming process and to perform adjustment on a submicron level.例文帳に追加

レンズの入光面と出光面との２面間の相対的なズレを成形工程の金型のレンズ成形面上で確認できるようにし、サブミクロンレベルの調整を可能にする。 - 特許庁

To provide an inexpensive method for producing chitosan fine particles without requiring a surfactant or a complicated process for producing chitosan fine particles of micron-submicron size and highly usable for multiple purposes such as cosmetic application and medical application.例文帳に追加

化粧品・医療等の多分野への有用性が高いミクロンサイズからサブミクロンサイズのキトサン微粒子に関する安価で界面活性剤及び煩雑工程を必要としない製造方法の提供。 - 特許庁

The method for manufacturing the ceramic powder includes a process for synthesizing nanosize ceramic particles and at the same time, covering each submicron size particle with the nanosize ceramic particles by subjecting a raw material, obtained by previously mixing a material constituting nanosize ceramic particles and a ceramic powder comprising submicron size ceramic particles, to hydrothermal synthesis.例文帳に追加

ナノサイズのセラミックス粒子を構成する材料と、サブミクロンサイズのセラミックス粒子からなるセラミックス粉末と、を予め混合した原料を用い、これを水熱合成し、ナノサイズのセラミックス粒子を合成しつつ、同時に、ナノサイズのセラミックス粒子をサブミクロンサイズのセラミックス粒子の表面に被覆させる工程を含むセラミックス粉末の製造方法の提供による。 - 特許庁

The method for production of three-dimensionally large metallic structure with submicron gain sizes is characterized by a process which includes directing an ultrasonic metal powder jet against a substrate such that the powder adheres to the substrate and to powder itself to form a fully three-dimensionally large-size and dense cohesive deposit having submicron grain structure.例文帳に追加

サブミクロン粒度からなる三次元の大きな金属構造体の製造法において、超音波金属粉末ジェットを基材に当て、粉末を基材及び該粉末自体に付着させて、サブミクロン粒構造を有しかつ全三次元においてサイズの大きな稠密な凝集堆積物を形成させることを含むことを特徴とする方法。 - 特許庁

To mount together a depression type MIS transistor, a transistor constituting a mask ROM and a submicron CMOS without increasing the process man-hour of the depression type MIS transistor as much as possible.例文帳に追加

デプレッション形ＭＩＳトランジスタのプロセス工数をできるだけ増やさずに、デプレッション形ＭＩＳトランジスタとともに、マスクＲＯＭを構成するトランジスタ、さらにはサブミクロンＣＭＯＳを同一半導体基板上に混載すること。 - 特許庁

Then, in the second process, the first substrate 11 is polished until the thickness becomes 20 μm to obtain submicron parallelism nearly over the entirety; thus, a thin film substrate suitable for the manufacture of the wavelength transformation element is prepared.例文帳に追加

次に、第二の工程では、第一の基板１１の厚さが２０μｍになるまで研磨加工を施し、ほぼ全体にわたってサブミクロンの平行度が得られ、波長変換素子の作製に好適な薄膜基板を作製する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a polymer film for a fuel cell capable of detecting a hole having a submicron-level diameter important for the durability of the fuel cell at an initial stage (a polymer film or MEA) of a manufacturing process of a fuel cell stack.例文帳に追加

燃料電池のスタックの製造工程の初期段階（高分子膜またはＭＥＡ）で、燃料電池の耐久性に重要な直径サブμｍの孔を検出可能な燃料電池用高分子膜の検査方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a multicore ferrule with electrocasting, which has high accuracy of a submicron order required for the pore size and position, and in which the holes are required in the positions of even three or more lines, in a process of manufacturing the multicore ferrule.例文帳に追加

電鋳による多心フェルールの製造において、孔径と位置に要求されるサブミクロン単位という極めて厳しい精度を容易にクリアすると同時に、三列以上の位置に孔を有する多心フェルールであっても製造可能にすること。 - 特許庁

The suspension is obtained by the following process: a microparticulate suspension of a water-insoluble compound, particularly of submicron particles of a drug, is stabilized with a surface modifier molecules; simultaneously, from a compressed solution of the compound and the surface modifier prepared by dissolving them in a liquefied gas, they are rapidly put to expansion injection into an aqueous medium to obtain the suspension.例文帳に追加

水に溶けない化合物、特に薬のサブミクロン粒子を、そのミクロ微粒子懸濁物を表面修飾剤分子で同時に安定化しながら、液化ガスに溶かしたその化合物と表面修飾剤の圧縮溶液から水系媒体中へ急速膨張注入することにより、懸濁物を得る。 - 特許庁

By using aqueous solution reaction (ASR) process (sol-gel, xerogel, coprecipitation, hot water, glycine nitrate soft oxidizing method, precursor complexation method)(all kinds of carboxylic acids are a complexation factor), material having chemical formula LiVMoO_5.5 of lithium, vadium, and molybdenum having brannerite structure (laminated shape) showing both of low porosity submicron and nano-scale level particles is mass produced.例文帳に追加

ＡＳＲ法（ゾル−ゲル、キセロゲルおよび共沈、熱水、グリシン硝酸塩ソフト酸化法、前駆体錯化法（総ての種類のカルボン酸はアルコキシドと同様の錯化因子である））を用いて、孔の少ないサブミクロンおよびナノスケールレベルの粒子の両方を示すブランネル構造（積層状）を有するリチウム・バナジウム・モリブデンの化学式ＬｉＶＭｏＯ_５．５を大量に生成することができる。 - 特許庁

The superfine-particle metal tin of less than submicron (200 to 400 nm), desirably ≤100 nm, more desirably ≤50 nm can be easily manufactured by a simple manufacturing process in which a bivalent chromium ion solution is used as a reducing agent and added, in the presence of a protective agent suppressing the agglomeration of tin particles, to a tin-compound solution to reduce and precipitate tin.例文帳に追加

２価クロムイオン溶液を還元剤として用い、錫粒子の凝集を抑制する保護剤の存在下で、錫化合物溶液に２価クロムイオン溶液を加えて錫を還元析出させる簡単な製造工程によって、サブミクロン（２００〜４００nm）以下、好ましくは１００nm以下、さらに好ましくは５０nm以下の超微粒子金属錫を容易に製造することができる。 - 特許庁

The hard carbide having submicron-order WC particle size and obtained by the powder metallurgical process including pulverizing, compacting, and sintering can be manufactured by preliminarily mixing all the components except WC over a period of about 3 hr, adding WC powder, and finally pulverizing the resultant mixture over a period of about 10 hr.例文帳に追加

粉砕、プレス成形、及び焼結を含む粉末冶金的方法によって得られるサブミクロンのＷＣ粒子サイズを有する硬質炭化物の製造方法であって、ＷＣ以外の全ての成分を約３時間にわたって予備的に混合し、ＷＣ粉末を添加し、最終的に約１０時間にわたって粉砕することを特徴とする硬質炭化物の製造方法である。 - 特許庁