| 意味 | 例文 |
thin- layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9481件
An insulating layer which covers an oxide semiconductor layer of the thin film transistor contains a boron element or an aluminum element.例文帳に追加
薄膜トランジスタの酸化物半導体層を覆う絶縁層にボロン元素またはアルミニウム元素を含ませる。 - 特許庁
The first emitter layer is formed as thin as about 7-15 nm, while the second emitter layer 6 is formed sufficiently thick.例文帳に追加
第1エミッタ層5は7〜15nm程度に薄く形成し、第2エミッタ層6は十分の膜厚に形成する。 - 特許庁
The array substrate 12 includes a plurality of thin film transistors 24 on a side of the insulation layer 21 that is opposite to the liquid crystal layer 14.例文帳に追加
アレイ基板12は、絶縁層21の液晶層14に対して反対側に複数の薄膜トランジスタ24を備える。 - 特許庁
Also, the first layer thin film is preferably constructed with a metal oxide layer such as Al2O3 or Ta2O5.例文帳に追加
また、この第1層目の薄膜は、Al_2O_3、Ta_2O_5等の金属酸化物層で構成されることが好ましい。 - 特許庁
An inorganic coating layer containing a silicon atom may overlie the thin layer made of this resin composition.例文帳に追加
この樹脂組成物よりなる薄層の上に、珪素原子を含有する無機系コート層が積層されていてもよい。 - 特許庁
To make the insulation of a touch panel, having its surface covered with a thin-film protection layer (insulating layer) electrically safe.例文帳に追加
薄膜の保護層(絶縁層)で表面が覆われたタッチパネルの絶縁性を電気的に安全なものにする。 - 特許庁
In a mesh formation process, for example, the conductive thin film layer 211 and electrolytic plating layer 212 are etched in a meshy manner after their formation.例文帳に追加
メッシュ形成は、例えば、導電薄膜層と電解めっき層形成後、両層をメッシュ状にエッチングする。 - 特許庁
The internal conductive layer 3 is composed of thick metal foil, and the external conductive layer 5 is composed of thin metal foil.例文帳に追加
内部導体層3は厚い金属箔で構成され、外部導体層5は薄い金属箔で構成されている。 - 特許庁
Boron elements or aluminum elements are contained in an insulating layer covering an oxide semiconductor layer of a thin-film transistor.例文帳に追加
薄膜トランジスタの酸化物半導体層を覆う絶縁層にボロン元素またはアルミニウム元素を含ませる。 - 特許庁
A wiring pattern 3 constituted of a metal thin film 31 and a conductor layer 33 is formed on the base insulating layer 2.例文帳に追加
ベース絶縁層2上に金属薄膜31および導体層33からなる配線パターン3を形成する。 - 特許庁
The diamond-like thin film has a first layer 13 and a second layer 14 formed on a base material 11.例文帳に追加
ダイヤモンド様薄膜は、基材11の上に形成された第1の層13と第2の層14とを備えている。 - 特許庁
The interfacial dielectric layer and the ultralow dielectric constant material layer constitute the porous low dielectric constant material thin film.例文帳に追加
界面誘電層と超低誘電率材料層は多孔性低誘電率材料薄膜を構成している。 - 特許庁
Also, this flocked golf ball has a surface layer part, and is formed by approx. uniformly flocking a thin pile on the surface layer part.例文帳に追加
また、表層部を有し、この表層部に細いパイルをほぼ均等に植設して植毛ゴルフボールを形成する。 - 特許庁
The conductive thin film sheet 2 is provided with a conductor layer 4 composed of aluminum or aluminum alloy and an insulating layer 7.例文帳に追加
導体薄膜シート2はアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる導体層4と絶縁層7とを備えている。 - 特許庁
A multilayered thin film filter is disclosed which has an organic dielectric layer functioning as a spacer layer in a Fabry-Perot structure.例文帳に追加
有機誘電体層がファブリー・ペロー構造中でスペーサ層として働く、多層薄膜フィルタが開示される。 - 特許庁
A first electron supply layer 4 which is relatively thin is formed on an electron traveling layer 3 to manufacture the HEMT.例文帳に追加
HEMTを製造するために、電子走行層3の上に比較的薄い第1の電子供給層4を形成する。 - 特許庁
To provide an electrolyte layer having a thin, airtight glass electrolyte membrane and to provide a method for manufacturing the electrolyte layer.例文帳に追加
薄く、気密性の高いガラス電解質膜を備えた電解質層、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
A material of a first masking layer 18 for covering a magnetic thin-film layer 16 includes silicon and tantalum.例文帳に追加
磁性薄膜層16を被覆する第1のマスク層18の材料を、ケイ素と、タンタルと、を含む材料とした。 - 特許庁
it is made up of a thin upper layer called the papillary dermis, and a thick lower layer called the reticular dermis. 例文帳に追加
真皮乳頭層と呼ばれる薄い上層と、真皮網状層と呼ばれる厚い下層から構成されている。 - PDQ®がん用語辞書 英語版
The coating layer 24 is thin at the part 71 on the core layer 16 and uniformly thick at the other part.例文帳に追加
被覆層24を構成する材料は、上部クラッド層20を構成する材料よりも光の透過率が低い。 - 特許庁
To improve durability against film cutting or flaw of a photosensitive layer in a photoreceptor, and to thin the photosensitive layer.例文帳に追加
感光体における感光層の膜削れや傷に対する耐久性を向上し、感光層の薄膜化を図る。 - 特許庁
The thin film has a protective layer containing oxygen in at least 60 atomic % in at least an upper layer part.例文帳に追加
そして、前記薄膜は、少なくとも上層部に酸素を60原子%以上含有する保護層を有する。 - 特許庁
A laminated film for an inkjet recorder is so constituted that an outer layer 216 and the inner layer 212 are stuck with the adhesive layer 214 and a metallic thin film layer 213 is provided between the adhesive layer and the inner layer.例文帳に追加
インクジェット記録装置用積層フィルムは、外層216と内層212を接着剤層214で貼り合わせた積層フィルムであって、接着剤層と内層との間に金属薄膜層213を設けている。 - 特許庁
The spin valve thin film element MR1 consists of an antiferromagnetic layer 122, fixed magnetic layer 123, nonmagnetic electrically conductive layer 124 and free magnetic layer 125, and is formed between a lower gap layer 129 on the substrate and an upper gap layer 127.例文帳に追加
また、このスピンバルブ型薄膜素子を備え、再生シールド間隔を厚くすることなく、前記スピンバルブ型薄膜素子と上部シールド層および下部シールド層との絶縁が確保しやすい薄膜磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁
To form a thin film magnetic head by stably and satisfactorily forming a second thin film coil to be laminated on the upper face of an insulating layer for covering a first thin film coil in the thin film magnetic head by a thin film coil laminated structure.例文帳に追加
薄膜コイルの積層構造による薄膜磁気ヘッドにおいて、第1薄膜コイルを被覆する絶縁層の上面に積層形成される第2薄膜コイルを、安定的かつ良好に形成して薄膜磁気ヘッドを構成する。 - 特許庁
To solve the problem of the non-uniform thickness formation of a gap layer formed on a lower gap layer or a lower core layer located above a lower shield layer in a conventional thin film magnetic head.例文帳に追加
従来の薄膜磁気ヘッドでは、下部シールド層の上に形成される下部ギャップ層や下部コア層の上に形成されるギャップ層が均一な膜厚で形成されていない。 - 特許庁
The thickness of the surface layer is made thin, that is, 0.2 μm to 3.0 μm and the ink absorbing layer having no crack is provided as an under layer, to hold the strength of the receiving layer.例文帳に追加
該表面層の厚さを0.2μm以上3.0μm以下と薄くし、下層に亀裂のないインク吸収層を設けることで受容層強度を保持することができる。 - 特許庁
The light-emitting device 10 has: a buffer layer 22; a first-conductivity-type semiconductor layer; and a thin-film crystal layer including an active structure 25 and a second-conductivity-type semiconductor layer.例文帳に追加
発光素子10は、バッファ層22、第一導電型半導体層、活性構造25および第二導電型半導体層を含む薄膜結晶層を有している。 - 特許庁
A middle coat layer 12 is formed in an upper side of the vapor-deposited thin film layer 11, and further a top coat layer 13 is formed in an upper side of the middle coat layer 12.例文帳に追加
そして、蒸着薄膜層11の上方にミドルコート層12が形成されて、さらに、そのミドルコート層12の上方にトップコート層13が形成されている。 - 特許庁
The P-type impurities which are directly adjacent to an active layer are doped on a layer in order to manufacture an embedding ribbon laser, and a layer obtained by doping thin N-type impurities is formed on the above layer.例文帳に追加
埋め込みリボンレーザを製造するために、活性層に直接隣接するp型不純物がドープされた層に、薄いn型不純物がドープされた層が形成される。 - 特許庁
After that, the screen metallized is baked to have all organic component matters left on it removed by the OPC layer, the OC layer, the thin film layer and the coating layer.例文帳に追加
その後に、金属化されたスクリーンは、OPC層、OC層、薄膜層、及び、上塗り層によりスクリーン上に残存する有機構成物質を除去するために焼付けされる。 - 特許庁
An undope AlAs layer 4 as a tunnel layer and a metal thin film NiA 5 lattice- matched with the AlAs layer 4 are continuously epitaxially grown on the n+- GaAs layer 3.例文帳に追加
n^+-GaAs層3上に、トンネル層としてのノンドープAlAs層4とこのAlAs層4に格子整合した金属薄膜NiA5とを連続的にエピタキシャル成長する。 - 特許庁
At first, a Bi precursor is supplied to form a Bi oxide molecular layer (suitably, one-molecular layer), and then an SBT ferroelectric thin film is formed on the upper layer of the Bi oxide molecular layer.例文帳に追加
最初にBi前駆体を供給してBi酸化物分子層(好適には一分子層)を形成し、その上層にSBT強誘電体薄膜を形成する。 - 特許庁
The conductive close contact layer 7 of which a main component is same to a main component of the gas detecting layer 4 is formed in a thin film form between the gas detecting layer 4 and the protection layer 34.例文帳に追加
また、ガス検知層4と保護層34との間には、ガス検知層4の主成分を主成分とした導電性の密着層7が薄膜形成される。 - 特許庁
In a semiconductor laser element containing a quantum well as an active layer 5, an undoped thin spacer layer 7 is provided between an undoped optical guide layer 6 and a p-type clad layer 8.例文帳に追加
量子井戸を活性層5とする半導体レーザ素子において、ノンドープ光ガイド層6とp型クラッド層8との間にアンドープの薄いスペーサ層7を設ける。 - 特許庁
In the thin film transistor 150, a buffer layer 106 is provided between a source electrode layer 107a and a drain electrode layer 107b, and an oxide semiconductor layer 103.例文帳に追加
薄膜トランジスタ150は、ソース電極層107a及びドレイン電極層107bと酸化物半導体層103の間にバッファ層106が設けられている。 - 特許庁
The thin film electrode layer is formed on the surface of the piezoelectric layer with the thick film electrode layer removed after the removal of the thick film electrode layer from the laminated body formed.例文帳に追加
また、形成された積層体から厚膜電極層を除去し、厚膜電極層が除去された圧電体層の表面に薄膜電極層を形成する。 - 特許庁
To planarize a hetero-interface and improve high frequency characteristics and high output characteristics by providing an InGaAs or GaAs thin layer between a channel layer and a buffer layer at a specified distance from the channel layer.例文帳に追加
平坦なヘテロ界面を有し、優れた高周波特性、高出力特性を備えたInGaAsチャネルのダブルへテロ構造高電子移動度トランジスタを提供する。 - 特許庁
This thin-film electrode layer is constituted by sequentially laminating a first substrate layer 11 made of β-Ta, a second substrate layer 12 made of Cr, a main conductive layer 13 made of Au, and a protective layer 14 constituted of a laminate layer of a Cr layer 15 and a α-TRa layer 16.例文帳に追加
β−Taからなる第1の下地層11と、Crからなる第2の下地層12と、Auからなる主電導層13と、Cr層15とα−Ta層16の積層体からなる保護層14とを順に積層形成してなる薄膜電極層。 - 特許庁
The coaxial cable 10 has sequentially an insulating layer 12, an outer conductor layer 13, and an outer skin layer 16 around the center conductor 11, a layer of a metal thin film 14 is installed at the inner layer side as the outer conductor layer 13, and an electromagnetic noise suppressing layer 15 is installed at the surface of that metal thin film 14.例文帳に追加
本発明に係る同軸ケーブル10は、中心導体11の周りに、順に絶縁層12、外部導体層13、外皮層16を有するものであり、外部導体層13として、内層側に金属薄膜14の層を設け、その金属薄膜14の表面に電磁ノイズ抑制層15を設けたものである。 - 特許庁
The hydrophilic skin material includes a multilayer structure having a base material layer formed of the olefin resin, an olefin resin thin film layer formed on the base material layer, a primer layer formed on the olefin resin thin film layer, and the hydrophilic coat layer formed on the primer layer.例文帳に追加
オレフィン系樹脂で形成された基材層と、前記基材層の上に形成されたオレフィン系樹脂薄膜層と、前記オレフィン系樹脂薄膜層の上に形成されたプライマ層と、前記プライマ層の上に形成された親水性コート層と、を有する積層構造体を備えたことを特徴とする親水性表皮材が提供される。 - 特許庁
Strength is enhanced by forming a thin film of tin (coating layer) 29 on the surface layer of the conductor circuit 28 through a copper-tin alloy layer 27, by employing a three-layer structure of a metal layer of copper, or the like, composing the conductor circuit 28, the copper-tin alloy layer 27, and the thin film of tin (coating layer) 29 in the conductor circuit 28.例文帳に追加
ここで、導体回路28の表層に銅−スズ合金層27を介してスズ薄膜層(被覆層)29を形成することで、導体回路28を、導体回路を構成する銅等の金属層と、銅−スズ合金層27と、スズ薄膜層(被覆層)29との3層構造にして強度を高める。 - 特許庁
In the corrosion resistant material, a valve metal is used as a base material, a platinum thin layer is formed on the surface of the base material, a platinum-iridium alloy layer is formed on the platinum thin layer, a metal iridium layer is formed on the platinum-iridium alloy layer, and an iridium oxide-containing layer is formed on the metal iridium layer.例文帳に追加
本発明の耐食材は、弁金属を基材とし、該基材の表面に白金薄層を形成し、該白金薄層の上に白金−イリジウム合金層を形成し、該白金−イリジウム合金層の上に金属イリジウム層を形成し、該金属イリジウム層の上に酸化イリジウム含有層を形成したことを特徴とする。 - 特許庁
An inorganic thin film layer 16 is formed on a separating film 21, a colored transparent coloring layer 15 comprising mixed resin of thermoplastic resin and thermosetting resin is formed on a part of the inorganic thin film layer 16, and a portion of the inorganic thin film layer 16 not covered with the coloring layer 15 is removed.例文帳に追加
離型フィルム21上に無機物薄膜層16を形成し、この無機物薄膜層16の一部に熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂との混合樹脂からなる有色透明の着色層15を形成した後、無機物薄膜層16のうち着色層15にて覆われていない部位を除去する。 - 特許庁
In the transparent gas barrier film, at least a metal oxide thin film layer and a top coat layer are formed on one surface of a plastic film in order, the metal oxide thin film layer is an aluminum oxide thin film layer, and the top coat layer includes at least a polyurethane-based resin and polyvinyl alcohol.例文帳に追加
本発明の透明ガスバリアフイルムはプラスチックフイルムの片面に、少なくとも金属酸化物薄膜層、トップコート層が順次形成されている透明ガスバリアフイルムにおいて、金属酸化物薄膜層を酸化アルミニウム薄膜層とし、トップコート層が少なくともポリウレタン系樹脂、及びポリビニルアルコールを含むことを特徴とする。 - 特許庁
The intermediate layer for oxide superconducting thin film layer formation is formed between an orientated metal base and an oxide superconducting thin film layer in providing the oxide superconducting thin film layer on the orientated metal base, and has a crystal domain size of 25 nm or below in its surface layer.例文帳に追加
配向金属基材上に酸化物超電導薄膜層を設ける際に、配向金属基材と酸化物超電導薄膜層の中間に形成される酸化物超電導薄膜層形成用の中間層であって、表層の結晶ドメインサイズが25nm以下である酸化物超電導薄膜層形成用の中間層。 - 特許庁
The tunnel barrier layer 30 is formed by the method comprising a step of forming a metal layer or a nonmagnetic layer on the first ferromagnetic layer 24 and oxidizing to form a first thin film 32, and a step of forming a second thin film 34 on the first thin film 32.例文帳に追加
トンネルバリア層30は、第1の強磁性層24上に金属層もしくは非金属層を形成し、酸化処理することにより第1の薄膜32を形成する工程と、第1の薄膜32上に第2の薄膜34を形成する工程とによって形成する。 - 特許庁
The metal/ceramic joined product is provided with a ceramic material, a metallic thin layer joined to the surface of the ceramic material and a surface layer formed on the surface of the metallic thin layer and having a function to suppress the diffusion of carbon, nitrogen and/or oxygen to the metallic thin layer.例文帳に追加
本発明に係る金属/セラミック接合体は、セラミック材料と、該セラミック材料の表面に接合された金属薄層と、該金属薄層の表面に形成された、前記金属薄層への炭素、窒素、及び/又は、酸素の拡散を抑制する機能を有する表面層とを備えている。 - 特許庁
In the image display device, a thin film transistor PTFT constituting a pixel and a sonic wave generating device SP01 comprising a stacked layer structure of a heat generating layer 700, a heat insulating layer 701 and a heat radiating layer 702 are formed on a thin transistor TFT substrate 500 formed with a thin film transistor PTFT of polysilicon.例文帳に追加
ポリシリコンの薄膜トランジスタPTFTが形成された薄膜トランジスタ(TFT)基板500に画素を構成する薄膜トランジスタPTFTと、発熱層700と断熱層701および放熱層702の積層構造からなる音波発生デバイスSP01が形成されている。 - 特許庁
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