「type pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A pattern table memory 18-3 stores basic patterns for interlace, each type of which corresponds to each gradation pattern.例文帳に追加

パターンテーブルメモリ１８−３は各階調レベルに対応付けてそれぞれ１種類ずつの間引き用基本パターンを記憶する。 - 特許庁

A rugged pattern of the type that is the inversion of the desired rugged pattern is formed on the surface of the synthetic resin layer 5.例文帳に追加

合成樹脂層５の表面には所望の凹凸状模様の反転タイプの凸凹状模様が形成されている。 - 特許庁

A plurality of pattern trains are displayed on the display screen 4a, and the pattern trains consist of plural-type patterns.例文帳に追加

表示画面４ａには複数の図柄列が表示され、図柄列は複数種類の図柄によって構成されている。 - 特許庁

A high/low switching type lighting fixture 20 is capable of applying the light by switching the high beam distribution pattern and the low beam distribution pattern.例文帳に追加

ハイ／ロー切替式灯具２０は、ハイビーム配光パターンとロービーム配光パターンとを切り替えて照射可能である。 - 特許庁

Then, the variation pattern of the identification information is determined from the variation patterns included in the determined variation pattern type.例文帳に追加

そして、決定された変動パターン種別に含まれる変動パターンの中から識別情報の変動パターンを決定する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD FOR CARBON NANOTUBE, PATTERN FORMING MATERIAL FOR THE CARBON NANOTUBE, ELECTRON EMITTING SOURCE AND FLUORESCENT TYPE DISPLAY例文帳に追加

カーボンナノチューブのパターン形成方法、カーボンナノチューブのパターン形成材料、電子放出源及び蛍光発光型表示器 - 特許庁

XftFontOpen takes a list of pattern elements of the form (field, type,value) terminated with a 0, matches that pattern against the available fonts and opens the matching font.例文帳に追加

このリストの末尾は 0 である。 この関数はこのパターンと利用可能なフォントを比べ、一致するフォントをオープンする。 - XFree86

To further suppress resist pattern collapse in resist pattern formation using a chemical-amplification type resist material.例文帳に追加

化学増幅型のレジスト材料を用いたレジストパターン形成において、よりレジストパターン倒れを抑制することを可能とする。 - 特許庁

Though the game control means uses 50 kinds of display control commands of 8000 (H)-8031 (H) as variable pattern commands in each of a machine type A and a machine type B, correspondence relation between the variable pattern command and a variable pattern differs between the machine type A and the machine type B.例文帳に追加

機種Ａにおいても機種Ｂにおいても、遊技制御手段は、変動パターンコマンドとして、８０００（Ｈ）〜８０３１（Ｈ）の５０種類の表示制御コマンドを使用するが、機種Ａと機種Ｂとで、変動パターンコマンドと変動パターンの対応関係が異なっている。 - 特許庁

The electrostatic atomizer includes: a substrate 10; a N-type pattern 3 formed on the surface of the substrate by using an N-type thermoelectric material; and a P-type pattern 4 formed on the surface of the substrate 10 by using a P-type thermoelectric material.例文帳に追加

静電霧化装置は、基板１０と、Ｎ型熱電材料を用いて基板の表面上に形成されたＮ型パターン３と、Ｐ型熱電材料を用いて基板１０の表面上に形成されたＰ型パターン４とを備える。 - 特許庁

At that time, the user is made to select an attachment pattern to attach the respective characters of the character string by every character, or to attach the character string in a batch according to prepared layout pattern (L type, V type, U type, and dogleg type or the like).例文帳に追加

その際、ユーザは貼り付け方式を選択し、文字列の各文字を文字毎に貼り付けたり、あらかじめ用意されたレイアウトパターン（Ｌ型、Ｖ型、Ｕ型、く型等）に従って文字列を一度にまとめて貼り付けることもできる。 - 特許庁

PATTERN-FORMING METHOD, PHOTOSENSITIVE ADHESIVE SHEET, METHOD FOR FORMING LIGHT SHIELDING PATTERN ON LENS SHEET, METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING TRANSMISSION-TYPE SCREEN, TRANSMISSION TYPE SCREEN AND PROJECTION-TYPE IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、感光性粘着シート、レンズシートへの遮光パターンの形成方法、透過型スクリーンの製造方法、透過型スクリーンの製造装置、透過型スクリーンおよび投射型画像表示装置 - 特許庁

To provide a reflection type photomask blank by which contrast between a pattern opened part and a pattern non-opened part of a reflection type photomask can be increased, and a pattern can be inspected easily, and to provide the reflection type photomask, and an inspection method and an inspection device of the same.例文帳に追加

反射型フォトマスクのパターン開口部と非開口部とのコントラストを大きく取ることができ、パターンの検査を容易に行うことのできる反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、その検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR DISCHARGE NOZZLE TYPE COATING METHOD, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁

Ends of the N-type pattern 3 and the P-type pattern 4 are joined to each other on the surface of the substrate 10, and a protrusion 5 serving as a discharge electrode is formed at the joined section.例文帳に追加

基板１０の表面上にてＮ型パターン３とＰ型パターン４の端部同士を接合させ、この接合部分に、放電電極となる突出部５を形成する。 - 特許庁

POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE NEGATIVE RESIST CONTAINING THE SAME AND FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

重合体、これを含有する化学増幅型ネガレジスト及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIST COMPOSITION AND FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

光重合性組成物、ネガ型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE RESIST COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感放射線レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

A resist pattern formed using a chemical amplification type resist can be observed suitably.例文帳に追加

化学増幅型レジストを用いて形成されたレジストパターンを好適に観察できる。 - 特許庁

To provide a nano imprint type pattern forming method which suppresses generation of defects.例文帳に追加

欠陥の発生を抑制したナノインプリント方式のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An arrangement pattern of the n-type low-density semiconductor layer 34a and the n-type ultra-low-density semiconductor layer 34b is independent of an arrangement pattern of a gate electrode structure.例文帳に追加

ｎ型低濃度半導体層３４ａおよびｎ型極低濃度半導体層３４ｂの配置パターンは、ゲート電極構造の配置パターンから独立している。 - 特許庁

SYSTEM FOR INSPECTING/CORRECTING ELECTRODE LAYER PATTERN DEFECT OF CAPACITANCE TYPE TRANSMISSIVE TOUCH PANEL例文帳に追加

静電容量式透過型タッチパネルの電極層パターン欠陥検査修正システム - 特許庁

TRANSMISSION TYPE PHASE SHIFTING MASK AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

透過型位相シフトマスク及び該透過型位相シフトマスクを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

A composite embossing machine 90 can execute both the embossing with a nesting type embossed pattern and the embossing with a butting type embossed pattern on two take-up papers made of paper sheet materials.例文帳に追加

複合エンボシング機械９０は、紙シート材からなる２枚の巻取紙に巣籠もり形型押し模様又は突き合わせ形型押し模様の何れでもエンボス加工ができる。 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The fold-like pattern 24 is of a type formed by waveform deformation of the material of the globe 1.例文帳に追加

前記ひだ状模様２４をグローブ１素材の波形変形による模様とする。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスク。 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, ACID GENERATOR, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, GATE ELECTRODE FORMING METHOD AND FIELD EFFECT TYPE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レジスト・パターン形成方法、ゲート電極形成方法、電界効果型半導体装置 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING SAME例文帳に追加

ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁

POLYBENZOXAZOLE, ITS POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール及びそのポジ型感光性樹脂組成物、並びにパターン形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN-FORMING METHOD AND POSITIVE-TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION USED FOR THE SAME例文帳に追加

レジストパターン形成方法及びそれに用いるポジ型感放射線性樹脂組成物 - 特許庁

The recessed and projecting pattern for a die may be stamped by performing transfer of the pattern by cold driving type machining by use of the first pattern body without using the second pattern body and an electrical discharge machining method together.例文帳に追加

第二原型体を用いずに、第一原型体を用いた冷間打ち込み型加工による模様転写と、放電加工法とを併用してダイに対する凹凸模様の刻設を行なってもよい。 - 特許庁

A pattern belt 29 is freely rotatably stretched on respective belt units 21 to 23 of a belt type pattern display device, and the peripheral surfaces of each pattern belt 29 is made into a white pattern display part 29a.例文帳に追加

ベルト式図柄表示装置の各ベルトユニット２１〜２３には図柄ベルト２９が回転自在に展張掛装され、各図柄ベルト２９の周面は白地の図柄表記部２９ａとされている。 - 特許庁

RESIN FOR POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION USING THE SAME, LAMINATE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物用樹脂、およびこれを用いたポジ型レジスト組成物、積層体並びにレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a polymer compound, positive type resist composition and resist pattern forming method using the positive type resist composition.例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、並びに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Scanning width of a carriage is kept constant at the time of printing a regulation pattern regardless of the sheet size or the type of regulation pattern.例文帳に追加

調整パターンの印字時のキャリッジの走査幅を、用紙サイズ及び調整パターンの種別にかかわらず、常に一定幅とした。 - 特許庁

To rightly display a desired pattern by preventing the abnormal detection of a mark due to dust, etc., with respect to a belt-type pattern display device.例文帳に追加

ベルト式の図柄表示装置において、ごみ等によるマークの検出異常を防止し、所望の図柄を正しく表示する。 - 特許庁

In pre-printing, a dot pattern is formed on transfer material and data on the type of a machine by which pre-printing is performed is recorded according to the array of the dot pattern.例文帳に追加

プレプリント時に、転写材上へドットパターンを形成し、その配列により、プレプリントを行った機種データを記録する。 - 特許庁

The formation pattern of the incident side electrode is such a pattern which partially covers the upper surface of a contact layer (C-C), for example of a comb-type.例文帳に追加

入射側電極の形成パターンは、コンタクト層上面（Ｃ−Ｃ）を部分的に覆うパターン（例えば、くし型）である。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MEMBRANE PATTERN, APPARATUS FOR FORMING MEMBRANE PATTERN, ELECTRICALLY CONDUCTIVE MEMBRANE WIRING, ELECTROOPTIC APPARATUS, ELECTRONIC INSTRUMENT AND NON-CONTACT TYPE CARD MEDIUM例文帳に追加

膜パターンの形成方法、膜パターン形成装置、導電膜配線、電気光学装置、電子機器、並びに非接触型カード媒体 - 特許庁