wを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 25405件
It is desirable that the W and the Lu are contained in such amounts as to give a ratio (W/Lu) in the range of 0.2-2.例文帳に追加
WとLuはこれらの比(W/Lu)が0.2〜2の範囲となるように含有されることが好ましい。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING FINE PARTICLE OF Ni-W-BASED ALLOY, AND METHOD FOR PRODUCING FINE PARTICLE OF Ni-W ALLOY例文帳に追加
Ni−W系合金微粒子の製造方法並びにNi−W合金微粒子の製造方法 - 特許庁
As a result, the dry region R1 spreads onto the substrate W entirely, thus drying the substrate W.例文帳に追加
それにより、乾燥領域R1が基板W上の全体に広がり、基板Wが乾燥される。 - 特許庁
A W/H (warehouse) model storing part 24 stores a W/H model of physical distribution business to be optimized.例文帳に追加
W/H(Warehouse)モデル記憶部24は、最適化する物流業務のW/Hモデルを記憶する。 - 特許庁
The protruding portion 5 is constituted so as to cover a section W where the cable 3 rises from the support electric wire 2.例文帳に追加
この突起部5は、付設電線が支持電線から浮き上がった区間Wを覆うように構成される。 - 特許庁
This work support 3 is shaped like a disk rotatably supporting a plurality of works W.例文帳に追加
ワーク支持台3は、複数のワークWを支持して回転可能な円盤状とされている。 - 特許庁
A soaking ring 40 is brought into contact with a peripheral edge of the substrate W to uniformize the temperature of the substrate W.例文帳に追加
均熱リング40は、基板Wの周縁部に接し、基板Wの温度を均一化する。 - 特許庁
This device chamfers the wafer W by bringing a peripheral edge of the rotating wafer W into contact with a rotating grinding wheel.例文帳に追加
回転する砥石に回転するウェーハWの周縁を接触させて面取り加工する装置。 - 特許庁
The outputs of the electric fields HRF and LRF at this time are respectively 380 (W) and 300 (W), for example.例文帳に追加
このときの出力は、例えば夫々380(W)及び300(W)である。 - 特許庁
The second information-sharing device generates share information U_j in accordance with each expression W_j.例文帳に追加
第2情報共有装置は、演算式W_jにそれぞれ従って共有情報U_jを生成する。 - 特許庁
Then, a specified range is surrounded by a frame W and the frame W is moved in the pattern of (1)→(2)→(3).例文帳に追加
そして、特定の範囲を枠Wで囲み、その枠Wを → → というパターンで移動させる。 - 特許庁
The zoom lens satisfies a conditional expression (1): 4.0<F_n×LL/Bf<6.0, a conditional expression (2): -8.8<F_3/f_W<4.7 and a conditional expression (3): 1.8<F_4/f_W<2.7.例文帳に追加
また、(1)4.0<F_n×LL/Bf<6.0、(2)−8.8<F_3/f_w<4.7、(3)1.8<F_4/f_w<2.7を満足する。 - 特許庁
Consequently, the bad influence of the bumping can be prevented from being exerted upon the substrate W while the substrate W is treated.例文帳に追加
その結果、処理中の基板Wに対する悪影響を防止できる。 - 特許庁
The grinding device is provided with an in-process gauge 11 for measuring a dimension of a workpiece W under machining.例文帳に追加
加工中のワークWの寸法を測定するインプロセスゲージ11を備えている。 - 特許庁
In transferring the substrate W, exposure of the surface of the substrate W to outside air is suppressed.例文帳に追加
基板Wの搬送の際に、基板Wの表面が外気にさらされることが抑制される。 - 特許庁
Thus, the nozzle 301 reduces damage to the substrate W while efficiently cleaning the substrate W.例文帳に追加
したがって、基板Wを効率良く洗浄しながらも基板Wへのダメージを低減することができる。 - 特許庁
This container system, which can be mounted on both of one transportation means of a width w and the other transportation means of a width W greater than the width w, comprises a base plate wherein the width w serves as the maximum width, and a first container part which is rotatably mounted on the base plate on a vertical axis passing through the center of the base plate.例文帳に追加
横幅wをもつ一方の輸送手段と,横幅wより長い横幅Wをもつ他方の輸送手段の両方に搭載可能なコンテナシステムは,横幅wを,横幅の最大限としてベースプレートと,ベースプレートの中心を通る縦軸線上で,ベースプレートに回転可能に取り付けられる第一のコンテナ部とを含む。 - 特許庁
W/O/W TYPE EMULSIFIED SKIN CARE COMPOSITION FOR EXTERNAL USE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
W/O/Wエマルション皮膚外用組成物およびその製造方法 - 特許庁
The suction apparatus 1 holds a wafer W by vacuum suction of the wafer W.例文帳に追加
吸着装置1は、ウエハWを真空吸着することによりウエハWを保持する。 - 特許庁
The thermal conductivity may be about 180 W/m-K, about 190 W/m-K, or greater.例文帳に追加
熱伝導率は約180W/m−K、約190W/m−K、又はそれより高くてもよい。 - 特許庁
As the metal, Ta, Nb, Mo or W is used according to the kind of the metal of thee capacitor.例文帳に追加
上記金属としてコンデンサーの金属種に応じてTa、Nb、Mo、又はWを用いる。 - 特許庁
Furthermore, the mechanism has a workpiece holding tool 18 rotatably supporting the workpiece W from the side face of the workpiece W.例文帳に追加
さらに、ワークW側面からワークWを回転自在に支持するワーク保持治具18を設ける。 - 特許庁
To provide a W/O/W emulsified composition superior in a storage stability.例文帳に追加
保存安定性に優れたW/O/W型乳化組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁
Particles of W in the W phase and particles of Ti in the Ti phase have diameters of 5 μm or less.例文帳に追加
W相のW粒径及びTi相のTi粒径が5μm以下である。 - 特許庁
A projected amount h from the guide plate 82 of a guide roller 86 is ≥H×(W-P)/W.例文帳に追加
ガイドローラ86のガイド板82からの突出量hをh≧H×(W−P)/Wにする。 - 特許庁
Clamp-change of the work W is easily conducted from the front/rear direction of the work W.例文帳に追加
ワークWの表裏の方向からワークWの掴み換えが容易に行われる。 - 特許庁
After the molten metal W is poured in, the metal W is cooled for a prescribed time to be solidified.例文帳に追加
溶湯Wを注ぎ込んだら、そのまま溶湯Wを所定の時間冷却して固化させる。 - 特許庁
The outputs of the electric fields HRF and LRF at this time are respectively 60 (W) and 150 (W), for example.例文帳に追加
このときの出力は、例えば夫々60(W)及び150(W)である。 - 特許庁
Thereby the thickness H of the thin film wiring 3A is made different in accordance with the width W of the groove 4 of the bank 2.例文帳に追加
これにより、薄膜配線3Aがバンク2の溝4の幅Wに応じて異なるものとなる。 - 特許庁
To obtain a W/O/W type emulsion being stable for a long period of time excellent in usability.例文帳に追加
長期にわたって安定であり、かつ使用性に優れたW/O/W型エマルションの提供。 - 特許庁
This chuck device is provided with a pair of chuck claws 1 and 2 for grasping the workpiece W and releasing grasping of the workpiece W.例文帳に追加
ワークWを把持しかつ把持解除する二個一対のチャック爪1,2を備えている。 - 特許庁
As described above, a pattern can be formed on the substrate W while preferably controlling the substrate W.例文帳に追加
このように基板Wを好適に管理しつつ基板Wにパターンを形成できる。 - 特許庁
Each machining means MC machines the work W while moving longitudinally of the work W.例文帳に追加
加工手段MCは、ワークWの長手方向に各々移動しながらワークWを加工する。 - 特許庁
This recording layer is constituted of TiwGexSbyTez which satisfies formulas 0.5≤w≤4.0, 3.4≤x≤14.5, 2.1≤y/z≤4.0, w+x+y+z=100 (atomic ratio).例文帳に追加
0.5≦w≦4.03.4≦x≦14.52.1≦y/z≦4.0w +x+y+z=100(原子比) - 特許庁
The apparatus for treating the board supplies the treatment liquid to a surface of the board W and treats the board W.例文帳に追加
この基板処理装置は、基板Wの表面に処理液を供給して基板Wを処理する。 - 特許庁
The guiding groove 6c is made wider in the width (W) on the front side and is made narrower on the back side width (w).例文帳に追加
誘導溝6cは前側の横幅Wが広く、後側の横幅wが狭く形成されている。 - 特許庁
The weighting function generating means generates a weighting function W_snr based on the SNR distribution data.例文帳に追加
重み関数作成手段は、SNR分布データに基づいて重み関数W_snrを作成する。 - 特許庁
To obtain a polymer having a high multiolefin content and a high molecular weight M_W.例文帳に追加
高マルチオレフィン含有量および高分子量M_wを有するポリマー。 - 特許庁
The zoom lens system satisfies following conditional expressions: (1) 1.2<(β_2t/β_2w)/(β_3t/β_3w)<2.3 and (2) 3.0<f_t/f_w<12.0.例文帳に追加
1.2<(β_2t/β_2w)/(β_3t/β_3w)<2.3 ・・・(1) 3.0<f_t/f_w<12.0 ・・・(2) - 特許庁
The size of the film 69 is specified by a formula, 5 μm×W μm (W=2, 3, or 4).例文帳に追加
交換結合膜69の大きさは5μm×Wμmで規定される(W=2、3、4μm)。 - 特許庁
The first printer P1 forms an alignment mark Rm in a predetermined position of each page of the web W.例文帳に追加
第1印刷装置(P1)は、ウェブ(W)の各ページの予め指定された位置に位置合せマーク(Rm)を形成する。 - 特許庁
W are on the eve of a great event. 例文帳に追加
近き将来において一大事件起こらんとす - 斎藤和英大辞典
It is situated in Long. 50° 30′ W. (= longitude 50 degrees 30 minutes west). 例文帳に追加
西経五十度三十分に在り - 斎藤和英大辞典
an organization which is setup with many small sub-divisions making a w like a net 例文帳に追加
網の目のように張りめぐらされた組織 - EDR日英対訳辞書
(w) Triethylene glycol dinitrate 例文帳に追加
ム トリエチレングリコールジナイトレート - 日本法令外国語訳データベースシステム
(w) Approval pursuant to the provisions of Article 114 paragraph (1) of the Act 例文帳に追加
ム 法第百十四条第一項の規定による認可 - 日本法令外国語訳データベースシステム
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Copyright (C) 1994- Nichigai Associates, Inc., All rights reserved. 「斎藤和英大辞典」斎藤秀三郎著、日外アソシエーツ辞書編集部編 |
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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