「wavefront method」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

ADAPTIVE WAVEFRONT MODULATION SYSTEM FOR REFRACTIVE LASER SURGERY AND METHOD ADAPTED THERETO例文帳に追加

レーザ式屈折手術用の適応型波面式調節システムおよび方法 - 特許庁

To provide a mask, a wavefront aberration measurement method and a device therefor, capable of accurately measuring wavefront aberration of an optical system to be inspected.例文帳に追加

被検光学系の波面収差を高精度に測定することができるマスク、波面収差測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁

CONTROLLING METHOD FOR LIQUID LIGHT BEAM DEFLECTOR WITH HIGH ACCURACY CONSIDERING WAVEFRONT CURVATURE例文帳に追加

波面曲率を考慮した液晶光ビーム偏向器の高精度制御方法 - 特許庁

To provide an optimized image processing method of wavefront-coded imaging systems.例文帳に追加

波面符号化イメージングシステムの最適化された画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an operation amount control method of a wavefront controller, achieving reduction in time required for optimizing the wavefront of reference light during reproduction and improvement in wavefront accuracy, and to provide a hologram reproducing device.例文帳に追加

再生時参照光の波面を最適化するのに要する時間の短縮化と波面精度の向上を達成し得る波面制御器の動作量制御方法およびホログラム再生装置を得る。 - 特許庁

To provide a method of assembling and adjusting an optical system, which corrects the wavefront aberration more easily than by a conventional method.例文帳に追加

従来に比して波面収差の補正がし易い光学系の組み立て調整方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical article capable of improving wavefront aberration with a simple method.例文帳に追加

簡易な方法で波面収差を改善することができる光学物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve measurement accuracy of a wavefront by reducing measurement errors, due to the positioning precision of the relative movement of a surface to be measured and the reference surface, in a wavefront measurement method and a wavefront measuring device.例文帳に追加

波面測定方法および装置において、被測定面および参照面の相対移動の位置決め精度による測定誤差を低減して、波面測定の測定精度を向上することができるようにする。 - 特許庁

A first method utilizes simulated wavefront information from randomly generated data.例文帳に追加

第１の方法では、ランダムに生成されたデータからシミュレーションした波面情報を用いる。 - 特許庁

To provide a wavefront aberration measuring apparatus and a wavefront aberration measuring method which can measure the wavefront aberration of an optical system under test with high precision by checking the state of the interference fringes of photographed image data before performing image processing for calculating the wavefront aberration of the optical system under test.例文帳に追加

被検光学系の波面収差の算出のための画像処理を実施する前に、撮像した画像データの干渉縞の状態をチェックすることによって、高精度に被検光学系の波面収差を測定することができる波面収差測定装置及び方法を提供する。 - 特許庁

CALIBRATION METHOD FOR WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT APPARATUS, WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, MANUFACTURING METHOD OF SAME, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF SAME, MICRODEVICE, MANUFACTURING METHOD OF SAME例文帳に追加

波面収差測定装置の校正方法、波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影光学系の製造方法、投影光学系、投影露光装置の製造方法、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、及びマイクロデバイス - 特許庁

To provide a method and apparatus for measuring optical wavefront, and to provide a method for adjusting a light source, wherein the wavefront of light flux emitted from the light source is easily observed.例文帳に追加

光源装置から出射された光束の波面の観測を容易に行うことができる光波面測定装置、光波面測定方法、及び光源装置の調整方法を提供する。 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT METHOD, ADJUSTMENT AND EXPOSURE METHODS OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD OF ALIGNER例文帳に追加

波面収差計測方法、投影光学系の調整方法及び露光方法、並びに露光装置の製造方法 - 特許庁

OPTICAL WAVEFRONT DETECTION SYSTEM AND ITS DETECTION METHOD AND ALSO REFRACTION ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM FOR EYE AND ITS MEASURING METHOD例文帳に追加

光学波面検知システム及びその検知方法、並びに眼の屈折収差測定システム及びその測定方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR OBJECTIVE MEASUREMENT AND CORRECTION OF OPTICAL SYSTEM USING WAVEFRONT ANALYSIS例文帳に追加

波面分析を用いた、光学系の客観的な測定および矯正のための装置および方法 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, ALIGNER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

波面収差測定装置、露光装置並びに半導体装置の製造システムおよびその製造方法 - 特許庁

According to another method, the optimization is performed on the wavefront of the overall eye and lens optical system.例文帳に追加

別の方法によると、最適化は全体的な眼及びレンズ光学系の波面で実行される。 - 特許庁

COMPENSATION METHOD AND SYSTEM OF DARK CURRENT IN DEVICE, AND OF WAVEFRONT ABERRATION IN LITHOGRAPHY DEVICE例文帳に追加

デバイスでの暗電流の補償方法およびシステム、リソグラフィ装置の波面収差の補正方法およびシステム - 特許庁

The image processing method includes the steps of: wavefront-coding a wavefront that forms an optical image; converting the optical image to a data stream; and processing the data stream with a filter kernel to reverse effects of wavefront coding and generate a final image.例文帳に追加

画像処理方法は、光学像を形成する波面を波面符号化するステップと、光学像をデータストリームに変換するステップと、波面符号化の影響を逆転し、最終画像を生成するために、フィルタカーネルを用いてデータストリームを処理するステップとを含む。 - 特許庁

To provide an optical circuit whose detailed structure generated by design, using a wavefront-matching method, is suppressed.例文帳に追加

波面整合法を用いた設計によって発生する微細な構造を抑制した光回路を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for objectively measuring aberration of an optical system by wavefront analysis.例文帳に追加

波面分析により光学系の収差を客観的に測定するための方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of measuring a wavefront error capable of faithfully projecting a pattern formed in a reticle with high resolution to improve a yield of a semiconductor device, and to provide a method of adjusting a wavefront error and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンを高解像度かつ忠実に投影可能とし、半導体装置の歩留まりを向上させるための波面誤差計測方法、波面誤差調整方法及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a transmission wavefront measuring method of a birefringence optical element measuring properly a transmission wavefront, even when imaging an interference fringe having a domain where transmission wavefront information is not carried correctly by an influence of birefringence carried by a test optical element.例文帳に追加

被検光学素子が有する複屈折性の影響により透過波面情報が正しく担持されない領域を有する干渉縞が撮像されるような場合でも、透過波面測定を適正に行うことが可能な複屈折性光学素子の透過波面測定方法を得る。 - 特許庁

To provide a scanning optical microscope using a wavefront conversion element which is less deteriorated in abaxial performance, is simple in a method of controlling the wavefront conversion element and is simple in the constitution of a pupil relay optical system or does not require the same.例文帳に追加

軸外での性能劣化が少なく、波面変換素子の制御方法が簡単で、瞳リレー光学系の構成が簡単か不要な波面変換素子を用いた走査型光学顕微鏡 - 特許庁

To provide a wavefront shape measurement method for measuring a surface shape of a large diameter optical system to be inspected and a wavefront shape measurement device for measuring a surface shape of a large diameter optical system to be inspected.例文帳に追加

大口径の被検光学系の面形状を測定する波面形状測定方法、及び大口径の被検光学系の面形状を測定するための波面形状測定装置を提供する。 - 特許庁

Also, the optical wavefront detection method comprises a step which carries out light reception of the incident wavefront using the microlens array and a step which converts into a real image on the focal surface the image which appears from the microlens array.例文帳に追加

また、光学波面検知方法は、微小レンズアレイを用いて入射波面を受光するステップと、微小レンズアレイから現れるイメージをその焦点面上で実像に変換するステップを含む。 - 特許庁

To provide a hologram reproduced wavefront control method and apparatus for rapidly maximizing SNR (Signal to Noise Ratio) of a reproduced image.例文帳に追加

再生画像のＳＮＲを速やかに最大化することが可能なホログラム再生波面制御方法および装置を得る。 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, OPTICAL PROJECTION SYSTEM, MANUFACTURING METHOD THEREOF, PROJECTION ALIGNER, MANUFACTURING METHOD THEREOF, MICRO DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

波面収差測定装置、投影光学系の製造方法、投影光学系、投影露光装置の製造方法、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、及びマイクロデバイス - 特許庁

This method is used in the measurement of interference of the non-rotationally symmetric wavefront error on a sample and, in particular, in the interference absolute measurement.例文帳に追加

本方法は、試料上の非回転対称波面誤差の干渉測定のため、特に干渉絶対測定のために使用される。 - 特許庁

To provide an optical element which has excellent solvent resistance and excellent transmission wavefront aberration and to provide a method of manufacturing the optical element.例文帳に追加

優れた耐溶剤性を有すると共に、優れた透過波面収差を備えた光学素子および光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method of measuring wavefront aberration for measuring wavefront aberration by inputting light emitted from a light source into an inspected lens to detect light having passed through the inspected lens, includes a process for measuring wavefront aberration with the aperture of the inspected lens opened, a process for measuring the pupil center position of the inspected lens with the aperture of the inspected lens reduced, and a process for polynomially expanding the wavefront aberration with the pupil center position used as an origin.例文帳に追加

光源から放射された光を被検レンズに入射させ、当該被検レンズを透過した光を検出して波面収差を測定する波面収差測定方法であって、被検レンズの絞りを開放した状態で波面収差を測定する工程と、被検レンズの絞りを絞った状態で、当該被検レンズの瞳中心位置を測定する工程と、瞳中心位置を原点として波面収差を多項式展開する工程と、を有する。 - 特許庁

Furthermore, by controlling the optical wavefront modulation function with respect to optical wavefront modulation states corresponding to various distances from subjects, the subjects in the wider range of distance are supported, and the imaging method is applicable to autofocusing of a subject at an uncertain distance.例文帳に追加

更に、様々な被写体距離に応じた光波面変調状態に光波面変調機能のコントロールを行なうことによって、より広い距離範囲の被写体に対応すると共に、未知の距離の被写体に対するオートフォーカスにも応用する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a wavefront aberration correction mirror for fixing an adhesive layer thickness and forming an adhesive layer thin.例文帳に追加

接着層厚みを一定にすると共に、接着層を薄く形成することの可能な波面収差補正ミラーの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical system assembling/adjusting method for accurately, simply, and inexpensively performing wavefront aberration adjustment on an optical system.例文帳に追加

光学系の波面収差の調整を正確、簡易かつ安価に行うことを可能とする光学系の組立て、調整方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical system capable of suitably maintaining a wavefront aberration of an optical element arranged in a lens barrel, an exposure apparatus and a method of manufacturing a device.例文帳に追加

鏡筒内に配置される光学素子の波面収差を好適に維持できる光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for easily manufacturing an optical element capable of simultaneously improving vibration resistance and wavefront aberration.例文帳に追加

耐振動性と波面収差とを同時に向上させることができる光学素子を容易に製造することができる光学素子の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an optical pickup and a method for adjusting a parallel beam capable of realizing the correction of astigmatism in which a collimating wavefront is flat and the converging performance is not deteriorated.例文帳に追加

コリメート波面がフラットで集光性能が劣化しない非点収差の補正を実現する光プックアップ及び平行光調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical element position adjusting apparatus capable of suitably maintaining wavefront aberration of an optical element; to provide an optical system; an exposure apparatus; and a method for manufacturing a device.例文帳に追加

光学素子の波面収差を好適に維持できる光学素子位置調整装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a speckle reduction method and a system for EUV interferometry by which a wavefront quality measurement in an optical lithography tool is improved to be made even during wafer fabrication and exposure, without forcing the tool during measurement to be off-line.例文帳に追加

光リソグラフィツールにおける波面品質測定が、測定中のツールのオフラインを強いることなくウエハ作製／露光中でも可能となるように改善を行うこと。 - 特許庁

To provide a speckle reduction method and a system for EUV interferometry by which a wavefront quality measurement in an optical lithography tool is improved to be made even during wafer fabrication and exposure, without forcing the tool during measurement to be off-line.例文帳に追加

光リソグラフィツールにおける波面品質測定が、測定中のツールのオフラインを強いることなくウエハ作製/露光中でも可能となるように改善を行うこと。 - 特許庁

To provide an interference measuring device capable of measuring with high accuracy the refractive index homogeneity or the transmission wavefront aberrations of a measuring object, an exposure device and a device-manufacturing method.例文帳に追加

被測定物の屈折率均質性または透過波面の収差を高精度に測定する干渉測定装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus and an image processing method, capable of achieving a depth expansion system which does not require use of an optical wavefront modulation element and is not dependent on an optical system.例文帳に追加

光波面変調素子を用いる必要がなく、光学系に依存しない深度拡張システムを実現可能な撮像装置および画像処理方法を提供する。 - 特許庁