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供給量が過剰になるの英語
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「供給量が過剰になる」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 24件
水溶性の潤滑剤では、連続紙Pに浸透しやすいため、潤滑剤42が過剰供給される場合があるが、固形状の潤滑剤42では、過剰供給されにくく、供給量の調整もしやすいため、適量な潤滑剤42を連続紙Pへ供給することが可能となる。例文帳に追加
Since a water-soluble lubricant is apt to infiltrate the continuous paper P and these may be cases where supply to the continuous paper P becomes excessive, although, the solid lubricant 42 is less likely to be supplied in excessive manner, and the amount of lubricant 42 to be supplied is adjusted easily, an appropriate amount of lubricant 42 can be supplied to the continuous paper P. - 特許庁
制御装置は、機関の運転中に機関停止要求が発生したか否かを判定し、機関停止要求が発生した場合に「触媒の実際の酸素吸蔵量」が「最大の量又は最小の量」になるように、その触媒に「過剰な酸素又は過剰な未燃物」を供給する。例文帳に追加
A control device is provided, which determines whether or not a request for stopping an engine is brought during operating the engine, and when a request for stopping the engine is brought, the control device supplies "excess oxygen or an excess unburned substance" to a catalyst so as to control "an actual oxygen occlusion amount of the catalyst" to be "the maximum or minimum amount". - 特許庁
燃料カットによる排気浄化触媒42への空気供給量が少ない場合にのみ2次空気の供給を行うため、2次空気の供給を必要最小限に抑えることができ、排気浄化触媒42へ供給される空気量が過剰となることを抑止できる。例文帳に追加
Since supply of the secondary air is carried out only when the air supply amount to the exhaust emission control catalyst 42 is small due to a fuel cut, the supply of the secondary air can be minimized, and the air amount to be supplied to the exhaust emission control catalyst 42 is suppressed from becoming excessive. - 特許庁
選択還元型NOx触媒に還元剤を短周期で間欠的に供給する場合に還元剤の供給量が過剰になるのを防止する。例文帳に追加
To prevent a supply quantity of a reducing agent from becoming excessive, when intermittently supplying the reducing agent to a selective reduction type NOx catalyst in a short period. - 特許庁
これにより、改質燃料(可燃ガス)の供給変化が燃焼に反映される前に、主燃料の噴射量が減量されてしまい、混合気が一時的に過剰なリーン空燃比となるのを回避することができる。例文帳に追加
Therefore, a temporary excessive lean air-fuel ratio of air-fuel mixture, caused by reduction in injection amount of the main fuel before supply change of the reformed fuel (combustible gas) is reflected on the combustion, is prevented. - 特許庁
供給ガス圧が過剰に高くなるとその圧力を安全にリリーフできるものでありながら、装置全体を小形で軽量に維持でき、安価に実施できるようにする。例文帳に追加
To provide a flow rate setting machine equipped with a relief mechanism which can keep a whole device small and light, while pressure is safely relieved when supply gas pressure becomes excessively high, and with which relief of the gas pressure can be performed inexpensively. - 特許庁
これによって、液圧勾配が低剛性から高剛性に代わる領域において、供給液量が過剰になることによる振動や異音の発生を抑制する。例文帳に追加
Consequently, the generation of the vibration and the abnormal sound due to excessive increase in the fluid quantity to be supplied is restrained in the region where the hydraulic pressure gradient changes from the low rigidity to high rigidity. - 特許庁
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「供給量が過剰になる」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 24件
現像ローラに供給される現像剤量が不足すること又は過剰になることを防止し、画像不良の発生を防止し得る現像装置及び画像形成装置を提供する。例文帳に追加
To provide a developing device and an image forming apparatus capable of preventing the amount of developer supplied to a developing roller from being insufficient or excessive and preventing the occurrence of image defect. - 特許庁
内燃機関等の空燃比が理論空燃比よりも燃料過剰となる運転を一時的に行い、NOx浄化触媒への水素供給量を増大する。例文帳に追加
It is temporarily operated, where the internal combustion engine has an air/fuel ratio richer than a theoretical air/fuel ratio, to increase the amount of hydrogen supplied to the NOx cleanup catalyst. - 特許庁
一酸化炭素を酸化反応させる浄化部に、一酸化炭素の酸化に必要な酸素量以上の酸素を供給し、過剰の酸素供給により燃料となる水素が酸化されることによる、燃料電池発電装置の発電効率の低下を防止することを目的とする。例文帳に追加
To prevent a fuel cell power generating device from lowering of power generation efficiency due to the oxidation of the hydrogen as a fuel, caused by excessive supply of oxygen, which is caused by supplying oxygen, with a volume exceeding the volume necessary for the oxidation of carbon monoxide, to a purifying part where carbon monoxide is oxidized. - 特許庁
これにより、記録面に記録される情報に連続する同一の多値化データが含まれていても、適切な熱量を記録面に供給することができるため、熱量不足あるいは熱量過剰が生じるのを抑制することが可能となる。例文帳に追加
Thus, an excess or deficiency of heat quantity can be suppressed since the appropriate heat quantity can be supplied to the recording surface even though the consecutive same multi-valued data are included in the information to be recorded on the recording surface. - 特許庁
化粧料を一定量づつ塗布部材へ供給することができて、塗布する場合に化粧料が不足したり逆に化粧料が過剰になって従来のしごいた場合に飛散するようなことがなく、また、化粧料の残量が確認できて化粧料を最後まで使い切ることが可能となる。例文帳に追加
To provide a cosmetic applicator capable of supplying cosmetic to an application member by a fixed quantity at a time without causing shortage of the cosmetic in application or excessive supply of the cosmetic to scatter the same when squeezed as in a conventional case and making full use of the same to the end by allowing confirmation of its residual quantity. - 特許庁
内燃機関の排気浄化装置再生システムにおいて、排気浄化装置に燃料を供給することで該排気浄化装置の排気浄化能力を再生させる再生制御の実行中に、燃料の残量が過剰に少ない量となることを抑制することが可能な技術を提供する。例文帳に追加
To provide technology for preventing remaining amount of fuel from becoming excessively small amount during regeneration control for regenerating exhaust emission control capability of an exhaust emission control device by supplying fuel to the exhaust emission control device in an exhaust emission control device regeneration system of an internal combustion engine. - 特許庁
径方向にずれた位置に形成された二列のポンプ通路から内燃機関およびサブタンクに燃料を供給し、ポンプ通路の燃料吐出量および燃料圧力を考慮して、燃料タンクからサブタンクへの燃料供給量が過剰になることを防止するとともに、サブタンクの液面高さの低下を防止する燃料ポンプおよびそれを用いた燃料供給装置を提供する。例文帳に追加
To provide a fuel pump that supplies fuel to an internal combustion engine and a sub-tank from two rows of pump passages formed at radially shifted positions, to prevent excessive supply amount of fuel from the fuel tank to the sub-tank by taking into consideration the fuel discharge amount and fuel pressure of the pump passages, and to prevent lowering of an oil level of the sub-tank. - 特許庁
半導体ウェハ等にFETのゲート絶縁膜などを形成するための半導体薄膜成膜装置および成膜方法について、成膜室に供給される原料ガスの量を、過剰に供給することなく、また、供給量を不足させることなく制御し、膜中の欠陥や不純物を生じさせないようにすること。例文帳に追加
To obtain a semiconductor thin film depositing system and method for forming the gate insulating film of an FET, or the like, on a semiconductor wafer, or the like, in which the film is formed while eliminating defects and impurities by controlling the quantity of a material gas being supplied to a film deposition chamber such that the material gas is not supplied excessively nor deficiently. - 特許庁
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