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全面塗布法の英語
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英訳・英語 No-Masking Method
「全面塗布法」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 65件
基板の全面に塗布液を略均一な厚さで塗布することができる塗布方法及び塗布装置を提供する。例文帳に追加
To provide a coating method and coating apparatus for coating an entire surface of a substrate with a coating solution in a substantially uniform thickness. - 特許庁
基板の全面に各種の塗布液を塗布する際に、基板の全面を塗布液で被覆するのに必要な塗布液の液量を、削減することができる塗布処理方法を提供する。例文帳に追加
To provide a coating processing method, capable of reducing an amount of coating liquid required for covering a whole surface of a substrate with the coating liquid, when various types of coating liquids are applied to the whole faces of the substrate. - 特許庁
ワークの全面に均一な塗布膜を形成できる回転塗布膜の形成方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for forming a rotary coating film, capable of forming a uniform coating film on the whole surface of a work. - 特許庁
塗布装置の前端及び後端に塗布補助機構を設置し、この塗布補助機構から塗布を開始することにより、基板の全面に均一な塗布を形成する塗布液塗布装置及びこれを利用した塗布膜の形成方法を提供する。例文帳に追加
To provide a coating liquid coating apparatus which can form even coating on the whole area of a substrate by providing a coating auxiliary mechanism in the front and rear ends of the coating apparatus and initiating coating from the coating auxiliary mechanism, and to provide a method for the formation of a coating film using the apparatus. - 特許庁
塗布液の酸化を防止しながらコスト面および安全面を考慮した塗布方法および塗布装置を提供する。例文帳に追加
To provide an application method in which the cost and safety issue are considered while preventing the oxidation of a coating liquid, and to provide an applicator. - 特許庁
レジスト液のような塗布液を基板の全面に塗布するにあたり、装置コストの高騰を招くことなく、塗布液の使用量を削減することができる塗布処理方法および塗布処理装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a coat processing method and coat processing device capable of reducing the quantity of a coating liquid to be applied without bringing the increase of the equipment cost in the coating of the whole surface of a substrate with a coating liquid such as a resist liquid. - 特許庁
基材表面の全面にわたって自動的に塗布領域と非塗布領域とに区分けして、接着剤の塗布を自動制御することができる接着剤塗布装置及び接着剤塗布方法を提供する。例文帳に追加
To provide an adhesive applying device which can automatically control application of an adhesive by automatically dividing a base material surface to an applying region and a non-applying region over the entire surface, and an adhesive applying method. - 特許庁
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全面塗布法
a method used to dye something, called pigment print
a dyeing method called stenciling
a dyeing method in which the gradation of dye from lower to upper part is gradually deepened
a Japanese dyeing method called 'akebonozome'
a dyeing method called a {rouge twist}
the action of dyeing silk cloth with lye
「全面塗布法」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 65件
回転塗布法により全面にレジスト等の有機塗布膜２０を塗布し、全面エッチバック等の方法により接続孔用の穴１３内で、有機塗布膜２０表面が第２配線対応層間絶縁膜下面よりも上になるように有機塗布膜２０を残す。例文帳に追加
The entire surface is coated with an organic coating film 20, such as resist by rotary coating and inside the hole for connection hole, the organic coating film 20 is left by a method such as full etch back, so that the surface of the organic coating film 20 can be higher than the lower surface of the second wiring correspondent inter-layer insulating film. - 特許庁
より少ない供給量で、レジスト液等の塗布液をウェハ全面に効率よく塗布することができ、レジスト液等の塗布液の消費量を削減することができる塗布処理方法を提供する。例文帳に追加
To provide a coating method for efficiently applying coating liquid such as a liquid resist to the entire surface of a wafer even when the coating liquid is supplied in a smaller amount than a conventional one, and for reducing the consumption of the coating liquid such as the liquid resist. - 特許庁
スリットコート法により塗布された有機膜の塗布開始部及び塗布終了部の盛り上がり部分を除去し、塗布膜全面が均一な膜厚になるようにする。例文帳に追加
To apply coating so as to have an even film thickness on the whole surface of the coating film by removing swelling parts made in the start and finish of the coating of an organic film formed by a slit-coating method. - 特許庁
本発明の解決課題は、基板の表面全面に均一な濃度で薬液を塗布する薬液塗布方法を開発することにある。例文帳に追加
To provide a liquid chemical coating method for applying a liquid chemical in a uniform concentration on the whole surface of a substrate. - 特許庁
本発明は、高段差パターンを有する半導体ウエハの表面に、塗布ムラなく全面にレジストを塗布することができるレジスト塗布方法及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a resist application method for applying a resist to the whole of a surface of a semiconductor wafer having a high step pattern without causing application irregularity; and a method for manufacturing a semiconductor device. - 特許庁
装置を大型化させることなく、基板の主面上の全面にわたって均一な膜厚で塗布膜が形成できる回転式塗布方法および回転式塗布装置を提供する。例文帳に追加
To provide a spin coating method and spin coater by which a coating film uniform in thickness is formed over the whole surface on the principal panel of a substrate without scaling up the coater. - 特許庁
連続走行する帯状の支持体２４上に塗布液が塗布された塗布膜１２を乾燥する塗布膜１２の乾燥方法において、塗布膜全面１２のうちの少なくとも厚膜塗布され易い耳部１２Ａの乾燥については、レーザー照射手段１４からレーザー光を照射して乾燥する。例文帳に追加
In this drying method of the coating film 12 for drying the coating film 12 formed on a continuously traveling strip-like support 24 by coating the support 24 with the coating solution, at least the lug parts 12A easy to be coated with the thick film of the whole surface of the coating film 12 are irradiated with a laser beam from a laser beam irradiation means 14 and dried. - 特許庁
使用条件や環境条件に左右されることなく、常時、像担持体の表面上全面に均一な塗布量の潤滑剤膜を形成することができる潤滑剤塗布装置並びにこれを備えるプロセスカートリッジ、画像形成装置、及び潤滑剤塗布装置の使用方法を提供する。例文帳に追加
To provide a lubricant applying device, capable of always forming a lubricant film with a uniform amount of application over the entire surface over an image carrier, without being affected by the usage conditions and the environmental conditions, and to provide a process cartridge which is equipped with the device, an image forming apparatus, and a method of using the lubricant application device. - 特許庁
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