気体ターゲットの英語

容器から流出後に液体を容器の下に配置されたターゲットへと偏向することができ、かつ、公知のガイド部材に比して、断面の一層大きな部分を気体移動のために使用可能なガイド部材を提供すること。例文帳に追加

To provide a guide member capable of deflecting liquid to a target positioned under a container after the liquid flows from the container and the much larger section areas of which can be used for vapor transfer than that of the known guide member. - 特許庁

ジメチル亜鉛などの有機化合物及び酸素などの気体元素化合物を出発原料として、エキシマレーザー２１照射により中間準位を経ない非共鳴の多光子吸収により解離及びイオン化し、イオン化された元素を電磁場５５による質量分離法により不純物を分離して所定のイオン化元素のみをターゲット６１上に堆積させる。例文帳に追加

An organic compound such as dimethylzinc and a gas element compound such as oxygen are used for starting materials, which are dissociated and ionized by non-resonant multiple photon absorption not through an intermediate level by emission of an excimer laser 21, and impurities are separated from the ionized elements by the mass separation method using an electromagnetic field 55 to deposit only the prescribed ionized elements onto a target 61. - 特許庁

炭素皮膜を生成するため、最低比率２０％の窒素とスパッタガスとを含む混合気体において予め決められたガス圧で炭素スパッタターゲット（ＴＧ）からスパッタリングを実行することにより基板（ＳＢ）上に炭素が付着され、次いで基板（ＳＢ）は高真空下で１００℃を超える温度により熱処理される。例文帳に追加

For forming a carbon film, sputtering is carried out from a carbon sputtering target(TG) under the previously decided gas pressure in a gaseous mixture of nitrogen of 20% lowest ratio and a sputtering gas, by which carbon is adhered to a substrate(SB), and, next, the substrate(SB) is heat-treated at >100°C in a high vacuum. - 特許庁

光学的方法で測定した十点平均粗さが４．０〜６．０μｍに調整した表面を有する金属箔上に、ニッケル、クロム、シリコンを含むスパッタリングターゲットを用いて、雰囲気気体として酸素を付与しながら気相成長法により電気抵抗層を形成させる工程を含む電気抵抗層付き金属箔の製造方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing the metal foil with the electric resistance layer includes a step of forming the electric resistance layer by vapor growth method while applying oxygen as an atmosphere gas, on the metal foil having a surface where the average roughness of ten points measured by an optical method is adjusted to 4.0 to 6.0 μm, using a sputtering target containing nickel, chromium, and silicon. - 特許庁

該ヒータにより溶液を加熱することにより気化したＳｎ化合物を含む気体は、ガスボンベ１３に充填されたキャリアガスによりノズル３に運ばれて真空チャンバの内部に噴射され、レーザ装置６から発生したレーザ光を照射されるとプラズマ化してＥＵＶ光を発生するガスターゲットとして作用する。例文帳に追加

Gas containing the Sn compound vaporized by heating the solution by the heater acts as a gas target which is carried to a nozzle 3 by carrier gas filled in a gas bomb 13 and is ejected into the interior of the vacuum chamber, and changed into plasma and generates EUV light when irradiated by laser light generated by a laser device 6. - 特許庁

光吸収膜３，５は、定速で走行するフィルムに対して、金属単体又は金属と金属酸化物の混合物をターゲットとし、酸素、窒素及びアルゴンの混合気体を雰囲気ガスとしてスパッタリングにより成膜した、金属と金属化合物の混合物からなり、可視域において消衰係数が０．３以上である。例文帳に追加

The optical absorption films 3, 5 consist of mixture of metal and metal compound filmed by spattering by targeting a simple substance of metal or mixture of metal and metal oxide and using mixed gas of oxygen, nitrogen and argon as atmospheric gas to the films traveling at the fixed speed and their extinction coefficients are ≥0.3 in the visible area. - 特許庁