Ar-ionとは 意味・読み方・使い方

For example, an Ar ion laser at the wavelength λ=334 nm or a He-Cd laser at the wavelength λ=325 nm is used.例文帳に追加

例えば、波長λ＝３３４ｎｍのＡｒイオンレーザーやλ＝３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザーを使用する。 - 特許庁

The crystalline substrate 11 is set in a specimen chamber 12 of an ion beam irradiator, and a mixture gas of a CHF_3 gas and an Ar gas mixed at a ratio in a range of 1:10 to 1:2 is introduced from a gas inlet pipe 15 into an ion gun chamber 13 as a reactive etching gas.例文帳に追加

この結晶基板１１をイオンビーム照射装置の試料室１２に設置し、ガス導入管１５よりCHF_3ガスとArガスとを1:10〜1:2の範囲で混合したガスを反応性エッチングガスとしてイオン銃室１３内に導入する。 - 特許庁

Cl2, Ar and CF4, and an AlCu film 14 and a Ti/TiN film 13 are etched through a mask using the resist film by RIE(reactive ion etching).例文帳に追加

次に、前記レジスト膜をマスクとして、ＡｌＣｕ膜１４、Ｔｉ／ＴｉＮ膜１３がＲＩＥによりエッチングされる。 - 特許庁

After that etching for the remaining electrode film 12 is made by Ar ion milling being slightly over etching and the electrode film 12 is eliminated completely.例文帳に追加

この後、残った電極膜１２を、Ａｒイオンミリングでオーバーエッチングぎみにエッチングし、電極膜１２を完全に除去する。 - 特許庁

This ruggedness is formed by ion etching using gas such as Ar so that the surface roughness is 1nm-100nm.例文帳に追加

この凹凸は、Ａｒ等のガスを用いたイオンエッチングによって、表面粗さが１ｎｍ〜１００ｎｍとなるように形成される。 - 特許庁

The irradiation of the Ar ion beam neutralizes the observed area of the sample 3 and prevents the sample from charging up.例文帳に追加

このＡｒイオンビームの照射によって、試料３の被観察領域は電気的に中和され、チャージアップが発生することがない。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a bipolar semiconductor device with low-energy RF power in the case of the RF etching method of an Ar ion.例文帳に追加

ＡｒイオンのＲＦエッチ法の場合、低エネルギーのＲＦパワーのバイポーラ半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since a cusp magnetic field is formed by a pair of coils 18, 24, a high density Ar ion beam IB can be obtained.例文帳に追加

さらに、一対のコイル１８、２４によってカスプ磁場を形成するので、高密度のＡｒのイオンビームＩＢを得ることができる。 - 特許庁