C LIとは 意味・読み方・使い方

A diamond thin film piled on a diamond substrate or substrate material heated to ≥300°C and ≤2,000°C is irradiated with a particle containing at least S, a particle containing at least Li or a particle containing at least Cl.例文帳に追加

３００℃以上２０００℃以下に加熱されたダイヤモンド基板または基板素材上に堆積されたダイヤモンド薄膜に、少なくともSを含む粒子、少なくともLiを含む粒子,あるいはClを含む粒子を照射する。 - 特許庁

The electrolytic salt contains Li[PF_a(CH_bF_c(CF_3)_d)_e] and additional one type or more of lithium salt, as required.例文帳に追加

電解質塩はＬｉ［ＰＦ_a （ＣＨ_b Ｆ_c （ＣＦ_3 ）_____d ）_e ］と、必要に応じて他の１種以上のリチウム塩とを含んでいる。 - 特許庁

The positive electrode 21 contains Li_xM1_1-yM2_yO_2-z, or Li_cMn_2-dM2_dO_4-e(M1 represents Co or Ni, 1.00<x<1.35, 1.00<c<1.35).例文帳に追加

正極２１は、Ｌｉ_x Ｍ１_1-y Ｍ２_y Ｏ_2-z あるいはＬｉ_c Ｍｎ_2-d Ｍ２_d Ｏ_4-e （Ｍ１はＣｏまたはＮｉを表し、１．００＜ｘ＜１．３５，１．００＜ｃ＜１．３５である）を含んでいる。 - 特許庁

To provide a roller hearth kiln for the heat treatment of an Li system material free from a phenomenon that a compound of a low melting point falls down even if the heat treatment of the Li system material is performed at a high temperature of 1,030°C or higher.例文帳に追加

Ｌｉ系原料を１０３０℃以上の高温で熱処理した場合にも、低融点化合物の流れ落ち現象を生ずることがないＬｉ系原料熱処理用のローラハースキルンを提供する。 - 特許庁

The manufacturing process for a (Li, Na, K)(Nb, Ta)O_3 type piezoelectric material comprises firing a formed article from powder particles constituted of a composition of (Li, Na, K) (Nb, Ta)O_3 at a specific temperature in the range of 850-1,000°C for a specific period of time.例文帳に追加

（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３の組成からなる粉末粒子の成形体を焼成することにより、（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３系圧電材料を製造する方法であって、８５０〜１０００℃の範囲内の一定温度で一定時間キープする。 - 特許庁

Newlines must be placed immediately after everyGuideXML-tag (both opening as closing), except for:version, date, title, th, ti,li, i, e,uri, path, b, c, comment, mail.発音を聞く 例文帳に追加

次のタグを除く全てのガイドXMLタグの後で直ちに改行します。 (開始タグ、終了タグともに):comment,mailです。 - Gentoo Linux

If the stored quantity of Li per unit area in the fully charged state of the negative electrode 12 is represented by A, the quantity of the Li which can be electrochemically stored per unit area is represented by B, and a maximum utilization factor C% is represented by (A/B)×100, the maximum utilization factor C% is not less than 35% and not more than 85%.例文帳に追加

負極１２の満充電状態における単位面積当たりのＬｉの吸蔵量をＡ、単位面積当たりにおける電気化学的に吸蔵可能なＬｉの量をＢとし、最大利用率Ｃ％を（Ａ／Ｂ）×１００とすると、最大利用率Ｃ％は３５％以上８５％以下となっている。 - 特許庁

The plurality of resistors Ri are connected with relays Li in parallel, and the respective relays Li are controlled to be open or short-circuited by means of a control circuit C, so that entire resistance values are changed which are connected to a device to be adjusted.例文帳に追加

そして、当該複数の抵抗Ｒｉのそれぞれに並列にリレーＬｉが接続され、制御回路Ｃを介してそれぞれのリレーＬｉが開放状態または短絡状態に制御されることにより調節対象の機器に接続される抵抗の全抵抗値が変化する。 - 特許庁