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dual problemとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 双対問題
「dual problem」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 35件
To solve a problem of difficult setting of an etching recipe in the formation of a dual metal gate.例文帳に追加
デュアル金属ゲート形成方法におけるエッチングレシピ設定の困難さを解決する。 - 特許庁
In order to reduce the overshooting artifacts and to solve the thick edge problem, a dual-sided interpolation method is executed.例文帳に追加
オーバーシュートアーチファクトを解除して肉厚エッジの問題を解決するために、両側補間法を実行する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device, capable of improving the characteristics and reliability of an element by improving the problem of dual metal gate process.例文帳に追加
デュアルメタルゲートプロセスの問題を改善し、素子の特性や信頼性を向上させることが可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁
To effectively solve the resonance problem caused by frequency change of a gas generator shaft in a dual axis gas turbine.例文帳に追加
2軸式ガスタービンについて、ガスジェネレータ軸の回転数変化に伴う共振問題を効果的に解消できるようにする。 - 特許庁
To provide a dual-gate semiconductor device capable of solving a problem associated with boron diffusion, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加
本発明は、ホウ素拡散に伴う問題点を解決可能なデュアルゲート半導体装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To solve a problem of an uncertain logic level caused by the loss in one power supply in a dual power supply CMOS integrated circuit.例文帳に追加
2電源CMOS集積回路における一方電源のロスによって引き起こされる不確定論理レベルの問題を解決する。 - 特許庁
To eliminate a problem that, in a dual-screen display device, an amount of crosstalk varies due to a difference in viewing angles depending on a position in a display area.例文帳に追加
2画面表示装置において、表示領域の位置によって視角の差が生じてクロストーク量が異なるという問題を低減する。 - 特許庁
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ウィキペディア英語版での「dual problem」の意味 |
Dual problem
出典:『Wikipedia』 (2011/06/17 22:17 UTC 版)
「dual problem」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 35件
To solve a problem wherein a circuit scale is increased by arranging a dual port RAM between each-two units in all thereof for transferring a data, in a direct access.例文帳に追加
ダイレクトメモリアクセスにおいて、データ転送が行われる全ての二つのユニット間にデュアルポートRAMを配置することは、回路規模の増加につながる。 - 特許庁
To display a good quality image by solving a problem peculiar to a scanning system in the cathode-ray tube of a dual electron gun system.例文帳に追加
複電子銃方式の陰極線管において、その走査方式に特有の問題を解決し、良好な画像表示を行うことができるようにする。 - 特許庁
To solve the problem, wherein a dual image in which sub pixels of individual images for two visual directions are adjacent to each other in a gate line direction is liable to cause crosstalks in the gate line direction, by using an apparent crosstalk correction of less than one grayscale.例文帳に追加
2つの視方向に対する個別の画像のサブ画素がゲートライン方向に隣接した2画面画像はゲートライン方向にクロストークを生じやすい。 - 特許庁
To solve the problem that, when an LTE service is newly deployed in an EVDO service area, the deployment of an LTE base station preferentially to an area having distributed LTE/EVDO dual terminals is necessary, and however, there is no method at present for extracting base station installation candidate points taking the distribution and the communication states of the LTE/EVDO dual terminals into consideration.例文帳に追加
EVDOサービスエリアに対し、新規にLTEサービスを展開する場合、LTE/EVDOデュアル端末が分布するエリアに対し優先してLTE基地局を展開する必要があるが、現状LTE/EVDOデュアル端末の分布、通信状況を考慮した基地局設置候補点抽出方法が無い。 - 特許庁
To solve the problem wherein a reflected wave from a moving person is hard to be detected because a sharp peak is hardly generated in a frequency spectrum of a Doppler signal therefrom, in a radar device in a dual-frequency CW monopulse system.例文帳に追加
2周波CWモノパルス方式のレーダ装置において、移動する人からの反射波はドップラ信号の周波数スペクトルに先鋭なピークを生じにくく検出しにくい。 - 特許庁
To provide an interconnect structure of a single or dual/damascene type which substantially reduces the surface oxidation problem of plating a conductive material onto a noble metal seed layer, and a method of forming the same.例文帳に追加
貴金属シード層上への導体めっきの表面酸化問題を実質的に低減する、シングルまたはデュアル・ダマシン型の相互接続構造体およびそれを形成する方法を提供する。 - 特許庁
The purpose of the present invention is to solve the problem that in the mobile communication terminal with dual hinge axes, the user needs to select a displayed menu in order to change a view mode.発音を聞く 例文帳に追加
この発明の目的は、二つのヒンジ軸を備えた無線通信端末において、ビューモードを切り換えるために、ユーザがディスプレイメニューを選択しなければならない問題を解決することである。 - 特許庁
To solve the problem, when copper wiring is formed by the conventional damascene or dual-damascene method, the chip acquisition ratio per wafer becoming low, because chips on the outer periphery of a wafer and its vicinity are not able to be exposed to light for preventing copper contamination.例文帳に追加
従来のダマシンあるいはデュアルダマシン法で銅配線を作る場合銅汚染を防止するためにウエハ外周部付近のチップ露光を行えず、ウエハあたりのチップ取得率が低い。 - 特許庁
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