f an Alとは 意味・読み方・使い方

On an exposed surface of an F-added carbon film 44 in an opening 44A, a metal film 49 formed of a metal element such as Al forming a stable compound when reacted with F is deposited to cover at least the sidewall surfaces and the bottom surface of the opening before depositing a Ta barrier metal film 47.例文帳に追加

開口部４４Ａ内のＦ添加カーボン膜４４の露出表面に、Ｔａバリアメタル膜４７の堆積に先立って、少なくとも前記開口部の側壁面および底面を覆うように、Ｆと反応した場合に安定な化合物を形成するＡｌなどの金属元素よりなる金属膜４９を堆積する。 - 特許庁

In the method, an oxide, carbonate or fluoride of Na, Mg, Al and Si are mixed so that the ratio of Na, Mg, Al, Si and F in the raw material mixture is 95 to 105 mol% of the theoretical formula composition of the synthetic sodium phlogopite to be used.例文帳に追加

本方法では、原料混合物中におけるＮａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、及びＦの割合が合成ナトリウム金雲母の理論式組成に対して９５〜１０５モル％となるように、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ及びＳｉの酸化物、炭酸塩、又はフッ化物を混合して使用できる。 - 特許庁

This device satisfies f<a1, assuming that the focal distance of a first lens 9 is f mm and an optical path distance is al mm from the object 8 under measurement, via a reflective surface 4a-1 of a non-polarizing beam splitter 4a, to the first lens 9.例文帳に追加

この光学式物体識別装置では、第１レンズ９の焦点距離をｆ(ｍｍ)とし、被測定物８から無偏光ビームスプリッタ４ａの反射面４ａ−１を経由して第１レンズ９に至る光路距離をａ１(ｍｍ)とするとき、ｆ＜ａ１を満たしている。 - 特許庁

The transparent conductive film is preferred to have as a main component either an indium oxide, tin oxide, zinc oxide, F-doped tin oxide, Al-doped zinc oxide, Sb-doped tin oxide, ITO, or In_2O_3-ZnO system amorphous transparent conductive film.例文帳に追加

透明導電膜が酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、Ｆドープ酸化錫、Ａｌドープ酸化亜鉛、Ｓｂドープ酸化錫、ＩＴＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系アモルファス透明導電膜の何れかを主成分とすることは好ましい。 - 特許庁

When dry-etching both sides of the gate electrode 21 by using chlorine(Cl) and fluorine(F) which are brought into active states in plasma, etching is stopped in an etching stop layer (the barrier layer 17) by the relative selectivity of Al of this etching gas.例文帳に追加

ゲート電極２１の両側を、プラズマ中で活性状態となる塩素（Ｃｌ）およびフッ素（Ｆ）を含んだガスを用いてドライエッチングすると、このエッチングガスのＡｌに対する選択性によりエッチングストップ層（障壁層１７）でエッチングが停止する。 - 特許庁

The surface-treated metallic plate 5 includes an inorganic surface-treated layer 52 formed by being precipitated by cathode electrolytic treatment from an aqueous solution on a surface of a metal substrate 51, wherein the inorganic surface-treated layer 52 contains aluminum hydroxide or oxyhydroxide mainly containing Al, O, and F.例文帳に追加

金属基体５１の表面に、水溶液からの陰極電解処理により析出して形成された無機表面処理層５２を有する表面処理金属板５であって、前記無機表面処理層５２が、Ａｌ，Ｏ及びＦを主体とするアルミニウムの水酸化物又はオキシ水酸化物を含有することを特徴とする。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a bonding peel-off defect caused by the reason that components such as C and F in etching gas such as CF_4 and CHF_3 to be used in an etching process for forming the aperture of a passivation film consisting of a silicon nitride film is left on the Al surface of a bonding pad.例文帳に追加

本発明は、シリコン窒化膜から成るパッシベーション膜に開口部を形成するためのエッチング工程において用いられる、例えばＣＦ_４やＣＨＦ_３等のエッチングガス内のＣやＦの成分などがボンディングパッドのＡｌ表面に残ることに起因するボンディング剥がれ不良を抑止する。 - 特許庁

The photosensitive paste composition includes at least one kind of metal powder (A) selected from aluminum powder and aluminum alloy powder, an alkali-soluble resin (C), a polyfunctional (meth)acrylate (D), a photopolymerization initiator (E), a solvent (F), and an organometallic compound (G) containing a metal selected from Al, Li and Mg.例文帳に追加

アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）、ならびにＡｌ、ＬｉおよびＭｇから選択される金属を含有する有機金属化合物（Ｇ）を含むことを特徴とする感光性ペースト組成物。 - 特許庁