multiple-step formとは 意味・読み方・使い方

The method includes: a step of sequentially laminating a first electrode, a photoelectric conversion layer, and a second electrode, and forming a photoelectric conversion element; a second step of removing the photoelectric conversion layer and second electrode, and forming a first slit; and a third step of removing the first electrode in a region that overlaps with the first slit to form the second slit, and thereafter dividing the photoelectric conversion element into the multiple regions.例文帳に追加

第１の電極、光電変換層、第２の電極を順に積層し、光電変換素子を形成する第１の工程と、光電変換層、第２の電極を除去し、第１のスリットを形成する第２の工程と、第１のスリットと重なる領域において第１の電極を除去して第２のスリットを形成し、光電変換素子を複数の領域に分割する第３の工程と、を含む。 - 特許庁

A method of manufacturing the flexible bump structure includes a step of connecting a carbon nanotube assembly to each of multiple electrodes of an electronic member and a step of immersing the carbon nanotube assembly functioning as one electrode in an electrolytic plating solution together with an opposite electrode, so as to form a metal layer by electrolytic plating of each of the protruding end faces of the carbon nanotube assemblies.例文帳に追加

フレキシブルバンプ構造体を製造する方法は、複数の電極を有する電子部材の該電極のそれぞれにカーボンナノチューブ集合体を接続し、カーボンナノチューブ集合体を一方の電極とし、電解メッキ液中に対向電極と共に浸漬し、カーボンナノチューブ集合体の突出する端面に金属層を電解メッキする。 - 特許庁

To reduce a working time at the dicing step of dividing a semiconductor device by growing cracks along a planned dividing line starting from a reformed region after inducing multiple photon absorption by setting a laser light-condensing point within the semiconductor device to form the reformed region within the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の内部にレーザ光の集光点を合わせることで多光子吸収を引き起こし、半導体装置の内部に改質領域を形成した後、改質領域を起点として分割予定ラインに沿って亀裂を成長させて半導体装置を分割するダイシング工程において、加工時間を短縮すること。 - 特許庁

A distribution shape pattern is divided into a plurality of rectangular sections in the form of a grid for a plane of defined analysis target data, and a density value capable of taking a multiple value in a certain numeral range is defined for each of the rectangular sections so that the density value indicates a relative magnitude relationship to characteristic values of the analysis target data (step S101).例文帳に追加

分布形状パターンを、解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、各矩形領域毎に、解析対象データの特性値の相対的な大小関係を表すように或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義する（Ｓ１０１）。 - 特許庁

The bit-interleave step has bit multiple separation DMXS, sequence-interleave SRIS, sequence storage/segmentation, segment sorting SPS, and sequence allocation ALS to form groups G1 and G2 for Nt sorted bit sequences Psqj for the purpose of transmission performed for all transmission antennas through Nt channels allocated to the same bit rank.例文帳に追加

このビットインターリーブステップは、ビット多重分離ＤＭＸＳと、シーケンスインターリーブＳＲＩＳと、シーケンス記憶／セグメント化と、セグメント並べ替えＳＰＳと、すべての送信アンテナについて同じビットランクに割り当てられたＮｔ個のチャネルを通じて送信されることを目的としたＮｔ個の並べ替えられたビットシーケンスＰｓｑｊのグループＧ１、Ｇ２を形成するためのシーケンス割り当てＡＬＳとを含む。 - 特許庁

The method for producing carbon fiber comprises steps A for forming fibril-like polymer by electrolytic oxidation polymerization of a compound having aromatic ring and a step B for baking the fibril-like polymer to form three dimensional continuous carbon fiber, wherein the electrolytic oxidation polymerization steps A are repeated multiple times and polymerization conditions of at least one of the electrolytic oxidation polymerization steps A is different from those of other electrolytic oxidation polymerization steps A.例文帳に追加

芳香環を有する化合物を電解酸化重合してフィブリル状ポリマーを生成させる工程Ａと、該フィブリル状ポリマーを焼成して３次元連続状炭素繊維を生成させる工程Ｂとを含む炭素繊維の製造方法において、前記電解酸化重合工程Ａを複数回行い、その少なくとも１回の電解酸化重合工程Ａの重合条件が他の電解酸化重合工程Ａの重合条件と異なることを特徴とする炭素繊維の製造方法である。 - 特許庁