n-OHとは 意味・読み方・使い方

The three formulas are (1) R1-CO-NR2-(CH2)n- COOX, (2) [R1-CO-NR2-(CH2)n-COO]mY, and (3) [R1-CO-NR2-(CH2)n-COO]m- Z-(OH)m'.例文帳に追加

Ｒ^1−ＣＯ−ＮＲ^2−（ＣＨ_2）_n−ＣＯＯＸ （１） [Ｒ^1−ＣＯ−ＮＲ^2−（ＣＨ_2）_n−ＣＯＯ]_mＹ （２） [Ｒ^1−ＣＯ−ＮＲ^2−（ＣＨ_2）_n−ＣＯＯ]_m−Ｚ−（ＯＨ）_m' （３） - 特許庁

In an advantageous embodiment, n-heptadecane-hydroxamic acid (CH_3-(CH_2)_16-C(O)-NH-OH) and/or n-octadecane-phosphonic acid (CH_3-(CH_2)_17-P(O)-(OH)_2) are used.例文帳に追加

有利な一実施形態では、ｎ−ヘプタデカン−ヒドロキサム酸｛ＣＨ_３−（ＣＨ_２）_１６−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＯＨ｝および／またはｎ−オクタデカン−ホスホン酸｛ＣＨ_３−（ＣＨ_２）_１７−Ｐ（Ｏ）−（ＯＨ）_２｝を使用する。 - 特許庁

In this preparation method, N,N,N',N'-tetramethylazodicarboxamide is formed by adding N,N,N',N'-tetramethylhydrazinodicarboxamide in water in which Pd(OH)_2-C activated by hydrogen gas is dispersed, and stirring at a room temperature while blowing a gas containing oxygen.例文帳に追加

水素ガスにより活性化したＰｄ（ＯＨ）_2−Ｃが分散された水中に、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルヒドラジノジカルボキサミドを加え、酸素を含有するガスを吹き込みながら室温にて撹拌することにより、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルヒドラジノジカルボキサミドを生成する。 - 特許庁

In the above formulas AR is an aromatic group, X is OH, an alkoxy or a halogen; R is an alkyl; Z is OH, an alkoxy or a halogen; n is 0, 1 or 2 integer.例文帳に追加

上式中、Ａｒは芳香族基であり、Ｘはヒドロキシル基、アルコキシ基またはハロゲンであり、Ｒはアルキルであり、Ｚはヒドロキシル基、アルコキシ基またはハロゲンであり、ｎは０、１または２の整数である。 - 特許庁

This thermosetting resin composition comprises a thermosetting resin which has at least one kind of repeating units represented by general formula (1) [X is OH, 4-vinylbenzyl ether or 3-vinylbenzyl ether; Y is OH, H, 4-vinylbenzyl ether or 3-vinylbenzyl ether; (n) is the number of ≥1] and having two or more vinyl benzyl ether groups.例文帳に追加

一般式（１）で表される繰り返し単位の少なくとも１種を有し、且つビニルベンジルエーテル基を２個以上有してなる熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

The method comprises the step of molding a compound represented by(M^2+)_1-x(M^3+)_x(OH^-)_2+x-y(A^n-)_y/n.例文帳に追加

（Ｍ^2+）_1-x（Ｍ^3+）_x（ＯＨ^-）_2+x-y（Ａ^n-）_y/nで表される化合物からなることを特徴とする硫黄化合物吸着剤、並びに（Ｍ^2+）_1-x（Ｍ^3+）_x（ＯＨ^-）_2+x-y（Ａ^n-）_y/nで表される化合物を成形することを特徴とする成形体である硫黄化合物吸着剤の製造方法。 - 特許庁

Further on it, monomolecular film 23 consisting of X-(CH_2)_n-OH (X:thiol group) is formed utilizing self assembly.例文帳に追加

その上には、Ｘ−（ＣＨ_２）_ｎ−ＯＨ（Ｘはチオール基）からなる単分子膜２３が自己組織化を利用して形成される。 - 特許庁

The new halogen-containing poly(diphenylacetylene) derivative has a structure represented by the formula(1)( wherein, Ar is a halogenated phenyl group; R is H or at least one group selected from OH, silyl and siloxy; and n is an integer of ≥10 ).例文帳に追加

上記ハロゲン含有ポリ（ジフェニルアセチレン）誘導体は下記式（１）で表される構造を有するものである。 - 特許庁