ring-lessとは 意味・読み方・使い方

Nitrogen contained in the abrasion-resistant ring body 33 is set to be 0.55% or less.例文帳に追加

耐摩環本体33に含有する窒素を０．５５％以下に形成する。 - 特許庁

A width of the O-ring separating recessed passage 4 exceeds a little a diameter of the O-ring 3, and the depth is less a little than a stranded wire diameter of the O-ring 3.例文帳に追加

Ｏリング分離用凹路４の幅はＯリング３の直径を僅かに越え、深さはＯリング３の素線径を僅かに下回る。 - 特許庁

The O-ring groove 8 also includes a constricted portion 9 where a groove width L1 of the O-ring groove 8 is less than a thickness M of the O-ring 2.例文帳に追加

また、Ｏリング溝８は、Ｏリング溝８の溝幅Ｌ１がＯリング２の太さＭよりも小さい狭窄部分９を含んでいる。 - 特許庁

Also, surface roughness of a sliding part of the rider ring 10 is set to Rmax 20 μm or less, or Ra 2 μm or less.例文帳に追加

また、ライダリング１０の摺動部の面粗さをＲmax２０μｍ以下またはＲａ２μｍ以下に設定する。 - 特許庁

The outer ring 1 has a relative density of 80% or more and less than 100%.例文帳に追加

この外輪１は、相対密度が８０％以上１００％未満である。 - 特許庁

The silicon ring for use of the plasma etcher comprises the support ring 1, the focus ring, and the shield ring 12 made of polycrystalline silicon made of ultrafine crystal grains with an average particle diameter of 1 μm or less.例文帳に追加

プラズマエッチング装置用シリコンリングを平均結晶粒径：１μｍ以下の超微細結晶粒からなる多結晶シリコンで構成されている支持リング１、フォーカスリング、シールドリング１２とする。 - 特許庁

Fracture-resistant properties of the outer ring 2 and inner ring 4 are improved so that surface roughness Ra for an inner diametrical surface 2a of the outer ring 2 and an outer diametrical surface 4a of the inner ring 4 is restrained 0.4 or less.例文帳に追加

また、外輪２の内径面２ａ及び内輪４の外径面４ａの面粗さ（Ｒａ）を０．４以下に抑えることで、外輪２及び内輪４の耐破断性を向上させる。 - 特許庁

In a compression stroke, the ring groove is brought into contact with the second ring 21 in two or less number of roughly linear contact areas.例文帳に追加

圧縮工程において、リング溝とセカンドリング２１とは、２本以下のほぼ線状接触領域で接触する。 - 特許庁