rinse awayとは 意味・読み方・使い方

Then, in a rinse tank 30, water is sprayed from a washing nozzle 32 to the surface of the substrate 41 to wash away the processing liquid for resin film removal adhering to the surface of the substrate 41.例文帳に追加

その後、水洗槽３０において、基材４１の表面に対して水洗用ノズル３２により水を吹き付け、基材４１の表面に付着した樹脂膜除去用の処理液を除去する。 - 特許庁

In a process ST5, developer is removed, rinse liquid is supplied onto the developed resist film, and developer and resist dissolved in developer are washed away by rotating the wafer.例文帳に追加

次に、工程ＳＴ５において、現像液を除去した後、現像されたレジスト膜の上にリンス液を供給し、ウェハを回転させることにより現像液及び該現像液に溶解したレジストを洗い流す。 - 特許庁

Then, HFE used as rinse liquid is supplied onto both the surfaces Wa and Wb of the wafer W from the upper and lower nozzles 64 and 14, and the fluoric acid on the surface of the wafer W is cleaned away (a rinsing process).例文帳に追加

次に、上ノズル６４および下ノズル１４よりリンス液としてのＨＦＥのウエハＷの両面Ｗａ，Ｗｂに供給されて、ウエハＷ表面のふっ酸が洗い流される（リンス工程）。 - 特許庁

The hydrofluoric acid is supplied from the chemical liquid nozzle 2 onto the surface of the wafer W in a rotating state with the spin chuck 1 to execute the processing using the hydrofluoric acid, and then, the dilute hydrochloric acid is supplied from the rinse liquid nozzle 3, thereby executing the rinse processing for washing away the hydrofluoric acid adhering on the surface of the wafer W.例文帳に追加

スピンチャック１による回転状態のウエハＷの表面に対して、薬液ノズル２からふっ酸が供給されて、そのふっ酸による処理が施された後、リンス液ノズル３から希塩酸が供給されることにより、ウエハＷの表面に付着しているふっ酸を洗い流すためのリンス処理が行われる。 - 特許庁

The mist of pure water atomized in a mist manner is adhered to the surface of the work to form a pure water film, and a trace composition can be totally removed with a small volume of pure water by the spray rinse to flow away pollution composition without any water discharging device.例文帳に追加

霧状に噴霧された純水のミストが脱脂洗浄された被処理物の表面に付着して純水の被膜となり汚れ成分を流し去る噴霧リンスにより、僅かの純水でシミ成分を全面的に除去でき、しかも排水処理装置が不要である。 - 特許庁

Before cleaning the chashaku after making tea, the person performs fukusa sabaki as he or she did in the first step, wipes off the tea powder on the upper part of the chashaku handle above the nakabushi (a node in the middle of the handle), brings the fukusa over the kensui (rinse-water receptacle) while holding the chashaku, and flicks away the powder on the fukusa with the right hand.発音を聞く 例文帳に追加

茶を点て終わったのち茶杓を袱紗で拭うときにははじめと同じように袱紗さばきをして茶杓の中節から先に茶が付着したのを拭い、茶杓を持ったまま茶の付いた袱紗を建水の上で右手ではたき落とす。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To obtain a scalp therapeutic agent composition in which drying of scalp by sulfur is suppressed and dandruff and itch prevention effect is continued while moderately providing the scalp with moisture retaining effect, especially a scalp therapeutic agent composition of a washing away type after use (e.g. rinse or treatment).例文帳に追加

本発明は、イオウによる頭皮の乾燥を押さえ、適度に保湿効果を付与しながらも、ふけ・かゆみ防止効果の持続する頭皮治療剤組成物、特に使用後洗い流すタイプ（例えばリンスやトリートメント）の頭皮治療剤組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then HFE is supplied as a rinse liquid from the upper nozzle 64 and the lower nozzle 14 to both the faces Wa and Wb of the wafer W as the rotation of the wafer W is kept, to start rinsing for the wafer W using the HFE (hydrofluoro ether), and the hydrofluoric acid on the surface of the wafer W is rinsed away.例文帳に追加

次に、ウエハＷの回転は維持されたまま、上ノズル６４および下ノズル１４よりリンス液としてのＨＦＥのウエハＷの両面Ｗａ，Ｗｂに供給されて、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）によるウエハＷのリンスが開始され、ウエハＷ表面のふっ酸が洗い流される。 - 特許庁