rinse fromとは 意味・読み方・使い方

Same solution comprising surfactant is discharged onto the resist film from the liquid discharge nozzle 30 as rinse liquid after a development processing and a rinse processing is performed.例文帳に追加

現像処理後に液体吐出ノズル３０からリンス液として界面活性剤を含む同じ溶液をレジスト膜上へ吐出してリンス処理する。 - 特許庁

To prevent a rinse liquid from scattering during rinsing treatment of a substrate by preventing thermal deformation of the substrate and reaction of a treatment liquid with the rinse liquid.例文帳に追加

基板のリンス処理時に、基板が熱変形したり、処理液とリンス液とが反応したりするのを防止して、リンス液の飛散を防止すること。 - 特許庁

Solvent of the resin film is then ejected, as rinse liquid, from a rinse nozzle 20 to the end edge part of the substrate W thus performing EBR processing.例文帳に追加

次に、リンスノズル２０から基板Ｗの端縁部に樹脂膜の溶剤がリンス液として吐出されＥＢＲ処理が行われる。 - 特許庁

To provide a device capable of preventing a rinse-treated substrate from being stained with chemical in the case of rinse-treating the substrate after the chemical treatment of the substrate.例文帳に追加

基板を薬液処理した後リンス処理する場合に、リンス処理後の基板が薬液によって汚染されることを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

After the drain-off, a mist-like rinse 49 is sprayed from the rinse spray 44 to the substrate 100.例文帳に追加

この液切り後、リンス液散布装置４４からミスト状のリンス液４９が基板１００に対して散布される。 - 特許庁

When the substrate G moves to a downward slope way M_3; rinse liquid S is supplied from an upper rinse nozzle 138 by a belt-like discharge flow, the developer R in the thin film status is replaced by the rinse liquid S near a line where the rinse liquid S on the substrate G touches liquid, and consequently a development is completely stopped.例文帳に追加

基板Ｇが下り傾斜路Ｍ_3に移ると、上方のリンスノズル１３８より帯状の吐出流でリンス液Ｓを供給され、基板Ｇ上のリンス液Ｓが着液するライン付近で薄膜状態の現像液Ｒ'はリンス液Ｓに置換されて現像が完全に停止する。 - 特許庁

Nitrogen is then degassed from rinse liquid thus produced by means of degassing units 59 and 79 such that nitrogen contained in the rinse liquid becomes below solubility limit thus producing degassed rinse liquid.例文帳に追加

そして、この生成されたリンス液は脱気ユニット５９、７９によってリンス液に含まれる窒素が溶解限度以下になるように、リンス液から窒素の一部が脱気されることで脱気済リンス液が生成される。 - 特許庁

A rinse liquid is supplied to the substrate W to carry out rinse treatment, and when most of the rinse liquid adhered to the substrate W is spun off, the substrate W is irradiated with infrared rays from the ceramic heater via the filter plate.例文帳に追加

基板Ｗにリンス液を供給してリンス処理を行い、基板Ｗに付着しているリンス液の大部分を振り切る際に、基板Ｗに向けてセラミック製ヒータからフィルタ板を介して赤外線を照射する。 - 特許庁