「rinse from」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The substrate processing method includes a rinse liquid supply step S12 in which a rinse liquid is supplied to a substrate where a resist pattern is formed, and rinse liquid removing steps S14-S16 in which the rinse liquid is removed from the substrate to which the rinse liquid has been supplied in such atmosphere as contains vapor of a first process liquid that causes the resist pattern to be hydrophobic.例文帳に追加

レジストパターンが形成された基板にリンス液を供給するリンス液供給工程Ｓ１２と、レジストパターンを疎水化する第１の処理液の蒸気を含む雰囲気で、リンス液が供給された基板からリンス液を除去するリンス液除去工程Ｓ１４〜Ｓ１６とを有する。 - 特許庁

Scale buri, pour boiling water over it, and rinse it in cold water to extract dark flesh from it. 例文帳に追加

ブリのうろこを取り、熱湯をかけ、冷水にさらして血合いを抜く。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Same solution comprising surfactant is discharged onto the resist film from the liquid discharge nozzle 30 as rinse liquid after a development processing and a rinse processing is performed.例文帳に追加

現像処理後に液体吐出ノズル３０からリンス液として界面活性剤を含む同じ溶液をレジスト膜上へ吐出してリンス処理する。 - 特許庁

To prevent a rinse liquid from scattering during rinsing treatment of a substrate by preventing thermal deformation of the substrate and reaction of a treatment liquid with the rinse liquid.例文帳に追加

基板のリンス処理時に、基板が熱変形したり、処理液とリンス液とが反応したりするのを防止して、リンス液の飛散を防止すること。 - 特許庁

Solvent of the resin film is then ejected, as rinse liquid, from a rinse nozzle 20 to the end edge part of the substrate W thus performing EBR processing.例文帳に追加

次に、リンスノズル２０から基板Ｗの端縁部に樹脂膜の溶剤がリンス液として吐出されＥＢＲ処理が行われる。 - 特許庁

To provide a device capable of preventing a rinse-treated substrate from being stained with chemical in the case of rinse-treating the substrate after the chemical treatment of the substrate.例文帳に追加

基板を薬液処理した後リンス処理する場合に、リンス処理後の基板が薬液によって汚染されることを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

After the drain-off, a mist-like rinse 49 is sprayed from the rinse spray 44 to the substrate 100.例文帳に追加

この液切り後、リンス液散布装置４４からミスト状のリンス液４９が基板１００に対して散布される。 - 特許庁

When the substrate G moves to a downward slope way M_3; rinse liquid S is supplied from an upper rinse nozzle 138 by a belt-like discharge flow, the developer R in the thin film status is replaced by the rinse liquid S near a line where the rinse liquid S on the substrate G touches liquid, and consequently a development is completely stopped.例文帳に追加

基板Ｇが下り傾斜路Ｍ_3に移ると、上方のリンスノズル１３８より帯状の吐出流でリンス液Ｓを供給され、基板Ｇ上のリンス液Ｓが着液するライン付近で薄膜状態の現像液Ｒ'はリンス液Ｓに置換されて現像が完全に停止する。 - 特許庁

Nitrogen is then degassed from rinse liquid thus produced by means of degassing units 59 and 79 such that nitrogen contained in the rinse liquid becomes below solubility limit thus producing degassed rinse liquid.例文帳に追加

そして、この生成されたリンス液は脱気ユニット５９、７９によってリンス液に含まれる窒素が溶解限度以下になるように、リンス液から窒素の一部が脱気されることで脱気済リンス液が生成される。 - 特許庁

A rinse liquid is supplied to the substrate W to carry out rinse treatment, and when most of the rinse liquid adhered to the substrate W is spun off, the substrate W is irradiated with infrared rays from the ceramic heater via the filter plate.例文帳に追加

基板Ｗにリンス液を供給してリンス処理を行い、基板Ｗに付着しているリンス液の大部分を振り切る際に、基板Ｗに向けてセラミック製ヒータからフィルタ板を介して赤外線を照射する。 - 特許庁

At step 6, the substrate G_i is moved from the solution drain-off/rinse part to a first rinse part at a middle speed, and when passing through the first rinse part, a moving speed is switched to a low speed.例文帳に追加

ステップ▲６▼で、基板Ｇ_ｉは液切り／リンス部から第１リンス部まで中速で移動し、第１リンス部を通過する際に移動速度を低速に切り換える。 - 特許庁

After a rinse process (rinse step S1), water content, such as ultrapure water or the like remaining in a closed processing vessel 12 in which a wafer 20 is disposed, is discharged from the lower part of the closed process vessel 12, using the pressurized nitrogen (rinse solution discharge step S2).例文帳に追加

リンス処理（リンス工程 Ｓ１）後、まず、窒素による圧送により、ウエハ２０が配置された密閉処理容器１２に残留した超純水等の水分が密閉処理容器１２の下部から排出される（リンス液排出工程 Ｓ２）。 - 特許庁

Rinse water is supplied from a water supply device 31 to a cutting section 14a of cutting device 14.例文帳に追加

切断装置１４の切断部１４ａに水供給装置３１から洗浄水を供給する。 - 特許庁

In this state, rinse liquid is discharged from the liquid nozzle 453a to the rotating substrate W.例文帳に追加

この状態で、液体ノズル４５３ａから回転する基板Ｗにリンス液が吐出される。 - 特許庁

In the liquid film formation period c1, a rinse liquid is supplied onto the substrate from a dry treatment nozzle.例文帳に追加

液膜形成期間ｃ１では、乾燥処理用ノズルから基板上にリンス液が供給される。 - 特許庁

The washing water is supplied to the rinse course L3 to prevent solidified contents of the washing liquid from adhering.例文帳に追加

すすぎ経路Ｌ３に洗浄用の水を供給して洗浄液の固化分が付着することを防ぐ。 - 特許庁

To provide a wafer cleaning apparatus which can shift treatment from chemical cleaning to pure water rinse washing, in a short time.例文帳に追加

薬液洗浄から純水リンス洗浄に短時間で移行できるウエハ洗浄装置を提供する。 - 特許庁

Further, when the rinse wastewater to be measured is not discharged from the water tank A at the point of time when the TOC concentration of the rinse wastewater is measured by the TOC densitometer S2, classification is delayed by the time up to the discharge of rinse wastewater to be measured from the water tank A.例文帳に追加

又、ＴＯＣ濃度計Ｓ２によるリンス排水のＴＯＣ濃度が測定された時点で水槽Ａから測定対象のリンス排水が排出されない場合は、水槽Ａから測定対象のリンス排水が排出されるまでの時間だけ分別を遅らせる。 - 特許庁

When an end-surface process head 38 is scanned in a single direction, the discharge of rinse liquid from rinse liquid supply nozzles 41 and 44 at a head in the scanning direction is stopped, and development liquid is discharged from development liquid discharge nozzles 39 and 42, while rinse liquid is discharged from rinse liquid supply nozzles 40 and 43 behind the scan direction.例文帳に追加

端面処理ヘッド３８が一方向に走査される場合には、走査方向先頭のリンス液供給ノズル４１、４４からのリンス液の吐出が止められ、現像液吐出ノズル３９、４２からは現像液が吐出され、かつ、走査方向後方のリンス液供給ノズル４０、４３からはリンス液が吐出される。 - 特許庁

To prevent oxidation of a substrate due to dissolved oxygen in rinse liquid by suppressing increase in concentration of dissolved oxygen in rinse liquid after discharging rinse liquid from a nozzle toward the substrate, and to suppress adhesion of contaminant to the substrate.例文帳に追加

ノズルから基板に向けてリンス液を吐出した後にリンス液中の溶存酸素濃度が上昇することを抑制することで、リンス液中の溶存酸素による基板の酸化を防止するとともに、基板への汚染物質の付着を抑制する。 - 特許庁

Then, the rinse liquid is supplied on the substrate 100 by with the rinse liquid discharging nozzle 12, while moving the developing solution discharging nozzle 11 together with the rinse liquid discharging nozzle 16 from the position in one side out of the substrate 100 to the position in the other side out of the substrate 100, passing over the substrate 100.例文帳に追加

その後、現像液吐出ノズル１１をリンス液吐出ノズル１２とともに基板１００外の一方側の位置から基板１００上を通過して基板１００外の他方側の位置へ移動させつつリンス液吐出ノズル１６によりリンス液を基板１００上に供給する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system in which throughput can be prevented from lowering by drying rinse liquid quickly after a resin film is removed from the end edge part and the resin film can be removed well while preventing the rinse liquid from oozing out.例文帳に追加

端縁部から樹脂膜を除去した後にリンス液を迅速に乾燥させてスループットの低下を抑制できるとともに、滲み出しのない良好な樹脂膜除去処理を行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The method for cleaning the Ni-P plating substrate in a process of performing Ni-P plating on an aluminum substrate and then immersing the plating substrate in rinse water, comprises keeping the temperature (T) of the above rinse water at 50°C or higher, and controlling a raising speed (V) of raising the above plating substrate from the above rinse water, according to the rinse water temperature (T).例文帳に追加

アルミニウムサブストレートにＮｉ−Ｐめっきを施した後に、該めっき基材を洗浄水に浸漬して洗浄する方法において、前記洗浄水温度（Ｔ）を５０℃以上とするとともに、前記洗浄水から前記めっき基材を引き上げる引き上げ速度（Ｖ）を洗浄水温度（Ｔ）に応じて制御する。 - 特許庁

Additionally, 1,4-dioxane prevents a chlorine-based substance from mixing into the rinse liquid, thus preventing the rinse liquid from poorly affecting metal wiring.例文帳に追加

また、１，４−ジオキサンであればリンス液中に塩素系物質が混入するおそれがないため、リンス液が金属配線に悪影響を与えるおそれもない。 - 特許庁

Thus, the magnetic head slider 15 is floated with buoyancy by the rinse liquid entering the accommodation part from through-holes 11b, 12b and receives a water pressure from the rinse liquid, thereby performing sufficient rinsing.例文帳に追加

これにより、磁気ヘッドスライダ１５は、貫通孔１１ｂ・１２ｂから収容部内へ入り込んだ濯ぎ液から浮力を得て浮き上がるとともに、濯ぎ液から水圧を受けることになるので、十分な濯ぎを行うことができる。 - 特許庁

To surely clean and rinse an object to be cleaned by preventing the object to be cleaned from being exposed from the liquid surface in a cleaning apparatus for immersing the object to be cleaned in liquid in a cleaning tank to clean and rinse the object to be cleaned.例文帳に追加

洗浄槽内の液体に被洗浄物を浸漬して洗浄や濯ぎを図る洗浄装置において、被洗浄物が液面から露出するのを防止して、被洗浄物の洗浄や濯ぎを確実に図る。 - 特許庁

A chemical capturing part 82 for capturing an acid chemicals scattered from the wafer W and a rinse agent capturing part 81 for capturing the rinse agent including the acid chemicals scattered from the wafer W are formed on an inner surface of the splash guard 8.例文帳に追加

スプラッシュガード８の内面には、ウエハＷから飛散する酸薬液を捕獲する薬液捕獲部８２と、ウエハＷから飛散する酸薬液を含むリンス液を捕獲するリンス液捕獲部８１とが形成されている。 - 特許庁

A chemical capturing part 72 for capturing an alkaline chemicals scattered from a wafer W and a rinse agent capturing part 71 for capturing the rinse agent including the alkaline chemicals scattered from the wafer W are formed on an inner surface of the splash guard 7.例文帳に追加

スプラッシュガード７の内面には、ウエハＷから飛散するアルカリ薬液を捕獲する薬液捕獲部７２と、ウエハＷから飛散するアルカリ薬液を含むリンス液を捕獲するリンス液捕獲部７１とが形成されている。 - 特許庁

A spin chuck 003 is uniformly cleaned with a rinse solution 008 by spouting the rinse solution 008 comprising pure water from fine pores 006.例文帳に追加

スピンチャック００３の細孔００６から純水からなるリンス液００８を噴出させてスピンチャック００３をリンス液００８で一様に洗浄する。 - 特許庁

An inhalation pipe 14s is comprised with a gear pump 14 connected to a tube 12t from a rinse container 12 and a driver member 16 for the gear pump so that pumped out liquid can be supplied to a rinse piping 24 continuously.例文帳に追加

吸込管１４ｓがリンス剤容器１２からのチューブ１２ｔに接続されるギヤーポンプ１４及びその駆動部１６からなり、該ポンプ吐出液がリンス剤配管２４へ連続供給されるようにする。 - 特許庁

At the rinse showering part 58, rinse liquid is sprayed from the above side and the under side of the film substrate 71 to an offset position by nozzles 59a, 59b.例文帳に追加

リンスシャワー部５８においては、ノズル５９ａ，５９ｂによってフィルム基板７１の上方及び下方からリンス液をオフセットされた位置に噴射する。 - 特許庁

The chemical-rinse liquid ejection nozzle 14 ejects the chemical or rinse liquid in the direction of wafer edge from the central side of the wafer to the surface side at the wafer edge.例文帳に追加

薬液・リンス液吐出ノズル１４は、ウェハ中央側からウェハ端部方向に、ウェハ端部の表面側に薬液或いはリンス液を吐出する。 - 特許庁

The cooled DIW supplied to a rinse liquid supply pipe 96 is discharged from the rinse liquid discharge nozzle 97 to the surface of a substrate to form a liquid film.例文帳に追加

そして、リンス液供給管９６に供給された冷却されているＤＩＷは、リンス液吐出ノズル９７から基板の表面に向けて吐出されて液膜を形成する。 - 特許庁

The chemical-rinse liquid ejection nozzle 18 ejects the chemical or rinse liquid in the direction of wafer edge from the central side of the wafer to the back surface side at the wafer edge.例文帳に追加

薬液・リンス液吐出ノズル１８は、ウェハ中央側からウェハ端部方向に、ウェハ端部の裏面側に薬液或いはリンス液を吐出する。 - 特許庁

In this regard, pure water is delivered from a back rinse nozzle 30 toward the vicinity of the central part on the lower surface of the substrate W so that the rinse liquid does not leak to the lower surface side of the substrate W after cleaning.例文帳に追加

このときに、洗浄後のリンス液が基板Ｗの下面側に回り込まないように、バックリンスノズル３０から基板Ｗの下面中心部近傍に向けて純水吐出を行う。 - 特許庁

Therefore, rinse fluid ejected from the back rinse nozzle 46 is allowed to bump into an intersection point 5 of the tangent 1 and a normal 4 on the back face of the wafer W.例文帳に追加

従って、バックリンスノズル４６から吐出されたリンス液はウェハＷの裏面における接線 と法線 との交点 に衝突するようになっている。 - 特許庁

During the rinse treatment, the rinse solution is sucked from the treating tank 12 through the introducing piping 38 by the driving of the pump 42 and at the same time the solution is sent to the resistivity measuring device 40 to measure the resistivity.例文帳に追加

そして、リンス処理時には、ポンプ４２の駆動により導入配管３８を通じてリンス液を処理槽１２から吸い上げつつ比抵抗測定器４０に送液して比抵抗を測定するようにした。 - 特許庁

To obtain an aqueous antifouling composition capable of exhibiting antifouling properties by allowing an active ingredient present in the composition system to be adsorbed on an objective surface while preventing the active ingredient from being flowed out by rinse even in a washing step accompanied by the rinse with water.例文帳に追加

水で濯ぎをともなうような洗浄工程においても、組成系中にある有効成分が、濯ぎによって流されず、対象面に吸着して防汚性を発現する水性防汚組成物を提供すること。 - 特許庁

To reduce burned rice by heating starch seeping out from the rice when rinse-free rice is cooked by a reservation in a rice cooker having a course for cooking the rinse-free rice and equipped with a reservation function for rice cooking.例文帳に追加

無洗米用の炊飯コースを有し予約炊飯機能を備えた炊飯器において、無洗米の予約炊飯を行った場合に、溶け出したでんぷん質が加熱されることによるご飯のこげを低減する。 - 特許庁

A rinse liquid flowing out to the upper end part surface of the flow straightening plate from the rinse liquid flow out ports is led toward the outer peripheral end of the flow straightening plate by the liquid introducing grooves.例文帳に追加

リンス液流出口から整流板の上端部表面に流出するリンス液を導液溝によって整流板の外周端に向かって導く。 - 特許庁

Then, an edge rinse solution is supplied from an edge rinse nozzle 14 to a part whose resist coating is not necessary of the edge of the substrate W so that the resist coating can be dissolved and removed.例文帳に追加

さらにエッジリンスノズル１４から基板Ｗの端縁部のレジスト塗膜が不要な部分にエッジリンス液を供給し、レジスト塗膜を溶解除去させる。 - 特許庁

The rinse liquid can thereby be dried quickly while preventing it from oozing out from the resin film by reducing the centrifugal force.例文帳に追加

このため、リンス液を迅速に乾燥させつつも、遠心力を小さくして樹脂膜からの滲み出しを防止することができる。 - 特許庁

Then, the discharge direction of the rinse liquid 39 from the nozzle 38 is vertical relative to the surface 1a of the semiconductor wafer 1, and a liquid flow of the rinse liquid 39 discharged from the nozzle 38 is made to abut against a position separated from the center of the surface 1a of the semiconductor wafer 1.例文帳に追加

その際、ノズル３８からのリンス液３９の吐出方向を半導体ウエハ１の表面１ａに対して垂直方向になるようにし、ノズル３８から吐出されたリンス液３９の液流が半導体ウエハ１の表面１ａの中心から離れた位置に当たるようにする。 - 特許庁

In a rinse step where the tracers are rinsed from the lung of the test animal and in a rinse step where the tracers are rinsed from the brain loaded with the tracers through the lung of the test animal, the nuclear magnetic resonance signals from the lung and the brain are detected to determine transition of time.例文帳に追加

実験動物の肺からトレーサが洗い出される洗い出し過程において、また、実験動物の肺を介して脳中にトレーサが取り込まれた脳からトレーサが洗い出される洗い出し過程において、肺及び脳からの核磁気共鳴信号を検出してその時間的遷移が測定される。 - 特許庁

To provide an apparatus, in which when slit scan development slit scan rinsing is performed, even if a rinse solution discharge nozzle is separated from the upper surface of a substrate and is moved horizontally, the rinse solution discharged from a slit-shaped discharge outlet is prevented from turning into shower.例文帳に追加

スリットスキャン現像・スリットスキャンリンスを行う場合に、リンス液吐出ノズルを基板の上面から離して水平移動させてもスリット状吐出口から吐出されるリンス液がシャワー状とならないようにすることができる装置を提供する。 - 特許庁