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欠陥許容度の英語
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英訳・英語 flaw tolerance
「欠陥許容度」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
ＨＴマスクの欠陥修正において、欠陥の修正部分の加工精度許容マージンを大きくすることができるフォトマスク等を提供する。例文帳に追加
To provide a photomask making a large processing precision tolerance margin for a correction part of defects in HT mask defect correction. - 特許庁
結晶断面におけるgrown-in欠陥の分布状態からその欠陥密度を許容範囲内に抑制するのに必要な引上げ速度の上限値を予め求めておく。例文帳に追加
The upper limit value of the pulling speed required to suppress the defect density within the allowable range is previously calculated from the distribution state of the grow-in defects in the cross section of the crystal. - 特許庁
欠陥検出パラメータは、正常な半導体ウェハの表面画像と、欠陥が生じている半導体ウェハの表面画像との差をどの程度許容するか定めている。例文帳に追加
The defect detection parameters determine what degree the difference between the surface image of a normal semiconductor wafer and the surface image of a semiconductor wafer having defects is allowed. - 特許庁
要求される許容欠陥が小さい場合や、母材並みの強度を持つ溶接材料を用いる場合であっても、高温割れが許容欠陥以下となるような肉盛溶接による補修方法を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a method of repairing by build-up welding so that a hot crack is not more than the allowable defect even when required allowable defect is small and welding material having the same strength as a base metal is used. - 特許庁
電源スイッチ６４のオフタイミングは、デジタルカメラ１０自体の温度が動作許容範囲となっているため、精度のよい欠陥画素検出が可能となる。例文帳に追加
Since the temperature of the digital camera 10 itself remains within an operation permission range in the off timing of the power switch 64, a defective pixel can be detected with high accuracy. - 特許庁
ここで濃度差が許容範囲に入るという判定結果を得た場合には、注目画素２０は欠陥を表す画素ではないとして、次の位置に注目画素２０を移す。例文帳に追加
When acquiring a determination result wherein the concentration difference is within the tolerance, it is determined that the attention pixel 20 is not a pixel showing a defect, and the attention pixel 20 is shifted to the next position. - 特許庁
他方、濃度差が許容範囲に入るという判定結果を得る前に全ての組み合わせに対する処理が終了した場合には、注目画素２０を欠陥を表す画素であると判定する。例文帳に追加
On the other hand, when a processing to all combinations is finished before acquiring the determination result wherein the concentration difference is within the tolerance, it is determined that the attention pixel 20 is a pixel showing the a defect. - 特許庁
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「欠陥許容度」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
半導体発光素子などの外観検査において、電極パターンなどの被検査対象の大きさのばらつきなどを許容しつつ、局所的な欠陥を高い検査精度で検出できる外観検査方法を提供する。例文帳に追加
To provide a visual examination method which enables the detection of a local flaw with high inspection precision while permitting the size irregularity of an inspection target such as an electrode pattern or the like in the visual examination of a semiconductor emission element or the like. - 特許庁
構造部材の許容欠陥寸法を予め決定する方法およびシステムを提供し、それによって検査精度の目標値を示し、構造部材に対して最適な検査方法を選択することができるようにする。例文帳に追加
To provide a method and a system for determining allowable dimensions for a defect of a structural member beforehand and thereby able to show a target value for inspection precision, and to enable the selection of an optimum inspection method for the structural member. - 特許庁
画像処理技術を用いて検査対象物の輪郭線上の欠陥を検出するにあたり、検出結果に対する、前記検査対象物の許容される膨張、収縮、或いは変形の影響を抑制し、かつ、計算処理量を少なくすることで、高精度かつ効率的な欠陥検出方法、プログラム、及び装置を提供する。例文帳に追加
To provide an accurate and efficient defect detection method, along with a program and device, by suppressing effect of allowable expansion, contraction or deformation of an inspecting object on a detection result when a defect on a contour of the inspecting object is detected using an image processing technology. - 特許庁
超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善され、現像欠陥の発生も少ないポジ型レジスト組成物を提供することにある。例文帳に追加
To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as margin for exposure and focal depth and less liable to cause development defects in lithography using a short-wavelength light source for exposure capable of ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist. - 特許庁
半導体デバイスの製造において、デフォーカスラチチュードが広く、プロセス許容性及びラインエッジラフネスや解像力に優れ、あるいは露光マージンが改善され、現像欠陥の発生が軽減され、固形分を溶剤に溶かす時や経時保存時のパーティクルの発生を防止でき、経時保存による感度の変動を防止できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive photoresist composition having a wide defocus latitude and excellent in process tolerance, line edge roughness and resolving power or having an improved margin for exposure in the production of a semiconductor device, suppressing the occurrence of development defects, capable of preventing the generation of particles in the dissolution of solid components in a solvent or during storage and capable of preventing a change of sensitivity due to storage. - 特許庁
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flaw tolerance
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