「"Design pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The sub design pattern determination means 202 selects a sub design pattern.例文帳に追加

サブ絵柄パターン決定手段２０２はサブ絵柄パターンを選択する。 - 特許庁

a design pattern that is the depiction of spoke wheels in a flow or stream of water 例文帳に追加

片輪車という模様 - EDR日英対訳辞書

EVALUATING METHOD FOR CIRCUIT DESIGN PATTERN例文帳に追加

回路設計パターンの評価方法 - 特許庁

DESIGN PATTERN CONTAINING FRP MOLDED PRODUCT例文帳に追加

意匠柄入りＦＲＰ成形品 - 特許庁

a small design pattern on a piece of fabric 例文帳に追加

染織において,細かな紋様 - EDR日英対訳辞書

MELON BREAD APPLIED WITH PICTURE, DESIGN, PATTERN AND THE LIKE例文帳に追加

絵・柄・模様などを施したメロンパン - 特許庁

CORRECTION METHOD FOR DESIGN PATTERN, CORRECTION SYSTEM FOR DESIGN PATTERN, CORRECTION PROGRAM FOR DESIGN PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

設計パタンの補正方法、設計パタンの補正システム、設計パタンの補正プログラム、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁

NAP FABRIC AND DESIGN PATTERN-DRAWING METHOD例文帳に追加

有毛布帛と図柄模様描出法 - 特許庁

CIRCUIT DESIGN PATTERN FOR TESTING SEMICONDUCTOR CIRCUIT例文帳に追加

半導体回路のテスト用設計回路パタン - 特許庁

QuickForm renderers implement the Visitor design pattern. 例文帳に追加

QuickForm のレンダラは、Visitor デザインパターンを実装しています。 - PEAR

DESIGN PATTERN CORRECTING METHOD, MASK PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, DESIGN PATTERN CORRECTION SYSTEM, AND DESIGN PATTERN CORRECTING PROGRAM例文帳に追加

設計パターン補正方法、マスクパターン作成方法、半導体装置の製造方法、設計パターン補正システム、及び設計パターン補正プログラム - 特許庁

a design pattern in the Yayoi period of Japan, called the "flowing water design" 例文帳に追加

流水文という,弥生時代の文様 - EDR日英対訳辞書

The external design pattern 20 and the internal design pattern 26 are obtained by corrugating their surface, etc.例文帳に追加

外側デザインパターン２０や内側デザインパターン２６は例えば表面に凹凸を施すことによって得られる。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN, METHOD FOR SETTING PARAMETER, DESIGN PATTERN CORRECTING APPARATUS, PARAMETER SETTING APPARATUS, AND PROGRAM例文帳に追加

設計パターン補正方法、パラメータ設定方法、設計パターン補正装置、パラメータ設定装置、及びプログラム - 特許庁

Shows you how to use the Design Pattern wizard to easily apply a schema design pattern to an XML schema file. 例文帳に追加

「デザインパターン」ウィザードを使用し、XML スキーマファイルにスキーマデザインパターンを簡単に適用する方法を示します。 - NetBeans

In each importance for maintaining the shape of the design pattern, each pattern part constituting the design pattern is sorted (ST102).例文帳に追加

設計パターンの形状を維持するべき重要度毎に、設計パターンを構成する各パターン部分を分類する（ST102）。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN, AND PROGRAM例文帳に追加

設計パターン補正装置、設計パターン補正方法、及びプログラム - 特許庁

DESIGN PATTERN VERIFICATION METHOD OF PHOTOMASK FOR MULTIPLE EXPOSURE TECHNOLOGY例文帳に追加

多重露光技術用フォトマスクの設計パタン検証方法 - 特許庁

This method is a part of the Visitor design pattern implementation.Parameter object 例文帳に追加

このメソッドは、ビジター・デザインパターンの実装の一部です。 パラメータ object - PEAR

Since the simulation pattern created is similar to the design pattern in terms of its hierarchical structure, the simulation pattern is compared with the design pattern to increase the speed of comparison with the design pattern and reduce the amount of data on the result of comparison with the design pattern.例文帳に追加

作成したシミュレーションパターンは設計パターンと階層構造が近似するため、シミュレーションパターンと設計パターンとを比較することで、設計パターンとの比較を高速化できるとともに、設計パターンとの比較結果のデータ量を低減できる。 - 特許庁

The upper surface of the base layer sheet is provided with a design pattern.例文帳に追加

基層シートの上面には、意匠模様が設けられている。 - 特許庁

DESIGN PATTERN CORRECTING APPARATUS, DESIGN PATTERN CORRECTING METHOD, DATA CALCULATING APPARATUS FOR SIZE SETTING, DATA CALCULATING METHOD FOR SIZE SETTING, AND PROGRAM例文帳に追加

設計パターン補正装置、設計パターン補正方法、サイズ設定用データ算出装置、サイズ設定用データ算出方法、及びプログラム - 特許庁

A design pattern that is used to present information in JSP pages. 例文帳に追加

JSP ページに情報を表示するために使用されるデザインパターン。 - NetBeans

METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加

設計パターンの補正方法および露光マスクの製造方法 - 特許庁

To provide a correcting method of a design pattern which performs the correction of proximity effect to a design pattern by converting the area density of the design pattern into figure data so that the area density of the design pattern can be inputted into a general-purpose figure operating tool as a parameter.例文帳に追加

設計パターンの面積密度を汎用的な図形演算ツールにパラメータとして入力できるように、設計パターンの面積密度を図形データに変換し、設計パターンに対して近接効果の補正を行う設計パターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

The printing system provided with a printer driver 13 having a design pattern image generating function includes an attaching range particularizing module 14 for particularizing an attaching range of the design pattern image, and a design pattern image generating module 15 for generating the design pattern image of the particularized range.例文帳に追加

地紋画像作成機能を有するプリンタドライバ１３を備えた印刷システムにおいて、地紋画像の付加範囲を特定する付加範囲特定モジュール１４と、特定された範囲の地紋画像を作成する地紋画像作成モジュール１５とを備えるようにした。 - 特許庁

A determination process of an application layer of the design pattern (S3301) determines that a watermark printing or an overlap printing is used for printing of the design pattern on the basis of an area in which the design pattern overlaps an original content of the original data.例文帳に追加

地紋パターン適用レイヤー決定処理(Ｓ３３０１)は地紋パターンと原稿データにおける原稿内容とが重なる面積に基づき、地紋パターンの印刷を透かし印刷または重ね印刷に決定する。 - 特許庁

Simulation for forming the transfer pattern is performed on the basis of the design pattern (DT103).例文帳に追加

設計パターンに基づいて、転写パターン形成のシミュレーションを行う（DT103）。 - 特許庁

The method for printing the building plate prints a design pattern on a design surface 21 of the building plate 2.例文帳に追加

建築板２の意匠面２１に柄模様を印刷する方法。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE TO DETECT DEFECT IN RETICLE DESIGN PATTERN例文帳に追加

レティクル設計パターン内の欠陥を検出するための方法および装置 - 特許庁

A design pattern to be formed on an induction substrate is set (S21), and the correction of a pattern shape for correcting the proximity effect is calculated regarding the design pattern (S22).例文帳に追加

感応基板上に形成すべき設計パターンを設定（Ｓ２１）し、それについて近接効果補正のためのパターン形状補正を計算する（Ｓ２２）。 - 特許庁

Design pattern density for a correction object area on the mask is computed and correction data for the mask pattern density corresponding to the design pattern density are selected to correct design pattern data of the correction object area according to the data.例文帳に追加

一方、マスク上の補正対象領域に対する設計パターン密度を算出し、この設計パターン密度に対応するマスクパターン密度の補正データを選択し、これに基づいて、補正対象領域の設計パターンデータに補正を行う。 - 特許庁

The image forming apparatus for forming an image on the basis of image data attached with design pattern image data representing design patterns manifested by copying discriminates whether or not the image data are attached with the design pattern image data and limits image processing affecting the attached design pattern image data when it is discriminated that the design pattern image data are attached to the image data.例文帳に追加

複写により顕像化される地紋を示す地紋画像データを付加した画像データに基づき画像を形成する画像形成装置で、地紋画像データが付加されるか否かを判定し、地紋画像データが付加されると判定された場合に、付加される地紋画像データに影響する画像処理を制限する。 - 特許庁

The sub chip region 3 has a design pattern identical to that of the main chip region 2.例文帳に追加

サブチップ領域３は、メインチップ領域２と同じ設計パターンを有している。 - 特許庁

Then points on the contour line of the pattern figure in the design pattern data are corrected.例文帳に追加

次に、設計パターンデータのパターン図形の輪郭線上の各点を補正する。 - 特許庁

The fourth difference pattern and the design pattern are processed to create a simulation pattern.例文帳に追加

第４差分パターンと設計パターンとを処理してシミュレーションパターンを作成する。 - 特許庁

Specifically, the direction of the deviation of the OPC pattern with respect to the design pattern is compared with the direction of the deviation of the simulated transfer image of the design pattern with respect to the design pattern and the portion where the directions of the deviation coincide is determined as an error.例文帳に追加

具体的には、設計パターンに対するＯＰＣパターンのズレ方向と、設計パターンの転写イメージのシミュレーション像の設計パターンに対するズレ方向とを比較して、各ズレ方向が同じ方向になる箇所をエラーとして出力する。 - 特許庁

To provide an optical structure having a design pattern which is visible in a default state that does not use backlight, wherein the design pattern does not interfere with viewing of a design pattern appearing with the backlight, and to provide an optical display device.例文帳に追加

バックライトを使用しないデフォルト状態で目視可能な意匠パターンを有するとともに、その意匠パターンがバックライトで浮かび上がる意匠パターンの目視の妨げにならないような光学構造体及び光学表示装置を提供すること。 - 特許庁

Reference image data corresponding to an optical image is created on the basis of design pattern data.例文帳に追加

設計パターンデータから光学画像に対応する参照画像データを作成する。 - 特許庁

According to the decision, drawing of the design pattern at the time of the watermark design printing is performed (S3303), or drawing of the design pattern at the time of the overlap design printing is performed (S3306).例文帳に追加

この決定に応じて、透かし地紋印刷時の地紋パターン描画を行い(Ｓ３３０３)、または、重ね地紋印刷時の地紋パターン描画を行う(Ｓ３３０６)。 - 特許庁

On a rear side of a display plate 67 is printed a design pattern, and a center portion and a peripheral portion of the design pattern are imaged by a camera unit 30 to find a best focus position.例文帳に追加

表示プレート６７の背面に図柄パターンがプリントされ、この図柄パターンの中央部と周辺部とをカメラユニット３０で撮像してベストピント位置を求める。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN DATA FOR SEMICONDUCTOR CIRCUIT, PHOTOMASK USING THE CORRECTED DESIGN PATTERN DATA, METHOD OF INSPECTING THE PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN DATA FOR PHOTOMASK INSPECTION例文帳に追加

半導体回路の設計パタンデータ補正方法と、補正された設計パタンデータを用いたフォトマスク、該フォトマスクの検査方法およびフォトマスク検査用パタンデータ作製方法 - 特許庁

A sheet 1 is a sheet made of a synthetic resin which is previously colored and executed with a design pattern.例文帳に追加

シート１は、予め色、柄模様が施されている合成樹脂製シートである。 - 特許庁

One embodiment of the method includes acquiring a field image in a reticle design pattern.例文帳に追加

１つの方法は、レティクル設計パターン内のフィールドの像を獲得することを含む。 - 特許庁

The display filter includes a plurality of design pattern filters 111, 112, and a blindfold filter 113.例文帳に追加

複数の意匠パターンフィルタ１１１，１１２と、目隠しフィルタ１１３とを備える。 - 特許庁