| 例文 |
"semiconductor processing"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 281件
This method for treating a semiconductor processing component includes exposing the semiconductor processing component to a halogen gas at an elevated temperature, oxidizing the semiconductor processing component to form an oxide layer, and removing the oxide layer.例文帳に追加
半導体加工用部品を処理する方法は、この半導体加工用部品を高温度においてハロゲン気体に曝露することと、酸化物層を形成するために半導体加工用部品を酸化させることと、この酸化物層を除去することとを含む。 - 特許庁
To provide a device and a method for distributing gas in a semiconductor processing chamber.例文帳に追加
半導体プロセスチャンバ内にガスを分配するための装置及び方法の提供。 - 特許庁
To provide a semiconductor processing apparatus and a semiconductor processing system capable of externally monitoring whether or not correct operation is performed even if an on-chip debugger is not correctly operated.例文帳に追加
オンチップデバッガが正常に動作しない場合でも、外部から正しく動作しているかどうかの監視が可能な半導体処理装置および半導体処理システムを提供する。 - 特許庁
PROTECTIVE SHEET FOR SEMICONDUCTOR, SHEET FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING, AND METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
半導体用保護シート、半導体加工用シートおよび半導体ウエハの加工方法 - 特許庁
To provide a semiconductor processing apparatus which is improved in operating efficiency and capable of realizing its period of service nearly equal to the original service life of a case, and to provide a semiconductor processing method.例文帳に追加
装置の稼働率を向上させ、且つ、容器の本来の寿命に近い使用期間を実現できる半導体処理装置、半導体処理方法を提供する。 - 特許庁
To detect the timing of cleaning that is carried out in a semiconductor processing chamber with high accuracy.例文帳に追加
半導体処理室におけるクリーニング処理のタイミングを正確に検出する。 - 特許庁
METHOD FOR TREATING SEMICONDUCTOR PROCESSING COMPONENT AND COMPONENT FORMED BY THE SAME例文帳に追加
半導体加工用部品を処理する方法とこの方法によって形成される部品 - 特許庁
To provide a strong bonding material suitable for combining semiconductor processing chamber components.例文帳に追加
半導体処理チャンバコンポーネントの結合に適した堅牢な接合材を提供すること。 - 特許庁
EXHAUST GAS PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
半導体処理装置用排ガス処理装置および半導体処理装置の排ガス処理方法 - 特許庁
To provide a technique for facilitating substrate transfer between modules of a semiconductor processing system.例文帳に追加
半導体処理システムのモジュール間の基板搬送を容易にする技術を提供する。 - 特許庁
CONTROL METHOD FOR POSITIONING STAGE AND SEMICONDUCTOR PROCESSING EQUIPMENT USING THE POSITIONING STAGE例文帳に追加
位置決めステージの制御方法及びその位置決めステージを用いた半導体製造装置 - 特許庁
SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS PROVIDED WITH POSITION DETECTOR FOR SUBSTRATE TRANSFER ROBOT, AND METHOD THEREOF例文帳に追加
基板搬送ロボット用の位置検出装置を備えた半導体処理装置及びその方法 - 特許庁
DISCHARGE ELECTRODE, HIGH-FREQUENCY PLASMA GENERATION SYSTEM, POWER FEED METHOD, AND SEMICONDUCTOR PROCESSING METHOD例文帳に追加
放電電極、高周波プラズマ発生装置、給電方法および半導体製造方法 - 特許庁
To enable an accurater measurement of a pressure and an accurater control of the pressure in a semiconductor processing process.例文帳に追加
半導体の加工工程でより正確な圧力測定と制御を可能にする。 - 特許庁
To provide a semiconductor processing apparatus which eliminates a defect caused from a reaction product produced in a reaction pipe, and controls deterioration of processing performance; and to provide a semiconductor processing method.例文帳に追加
処理性能の低下を抑制しつつ、反応管内に生じた反応生成物による不具合を解消する半導体処理装置および半導体処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device and a method for sealing, in which a seal component, capable of keeping a first portion of a semiconductor processing chamber at a first pressure while keeping a second portion of the semiconductor processing chamber at a second pressure, is applied to joining members having different thermal expansion coefficients.例文帳に追加
半導体処理チャンバにおいて、第1の部分を第1の圧力に、第2の部分を第2の圧力にするシール部材を熱膨張係数の異なる部材間に適用。 - 特許庁
This semiconductor processing component is formed of SiC, and an outer surface portion of the semiconductor processing component has a surface impurity level that is not greater than 10 times an internal impurity level.例文帳に追加
半導体加工用部品はSiCで形成され、および、この半導体加工用部品の外側表面部分が、内部不純物レベルの10倍以下である表面不純物レベルを有する。 - 特許庁
To provide a semiconductor processing system, which generates an uniform accumulated film by a uniform gas flow pattern.例文帳に追加
均一なガスフローパターンにより均一な堆積フィルムを生じる半導体処理システムを提供する。 - 特許庁
A method for controlling the water vapor level in a semiconductor processing chamber is also provided.例文帳に追加
また、半導体プロセスチャンバー内部の水蒸気レベルを制御するための方法が提供される。 - 特許庁
SENSITIZED CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST FOR USE IN PHOTOMASK FABRICATION AND SEMICONDUCTOR PROCESSING例文帳に追加
フォトマスク加工及び半導体処理において使用する増感され化学的に増幅されたフォトレジスト - 特許庁
SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS HAVING IMPROVED THERMAL CHARACTERISTIC AND METHOD OF PROVIDING THE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
改善された熱特性を具えた半導体処理装置およびその処理装置を提供する方法 - 特許庁
GAS-HEATING DEVICE, SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING GAS-HEATING DEVICE例文帳に追加
ガス加熱装置、これを利用した半導体処理装置およびガス加熱装置の製造方法 - 特許庁
The method for curing low dielectric constant materials in a process chamber during semiconductor processing is given.例文帳に追加
低誘電率材料を半導体処理中に処理チャンバ内でキュアする方法が与えられる。 - 特許庁
To ensure loading from a transporting container to a semiconductor processing apparatus under clean room conditions.例文帳に追加
搬送コンテナから半導体加工装置への装填をクリーン・ルーム条件下で保証すること。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR PROCESSING METHOD FOR FORMING CONTACT PEDESTAL FOR STORAGE NODE OF CAPACITOR OF INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加
集積回路のキャパシタの記憶ノード用接点ペデスタルを形成するための半導体処理方法 - 特許庁
To provide on-the-fly automatic detect classification (ADC) system and method in semiconductor processing.例文帳に追加
半導体処理中のオンザフライ自動検出分類(ADC)システムおよび方法を提供する。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR PROCESSING COMPONENTS HAVING APERTURES WITH DEPOSITED COATINGS, AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
堆積されたコーティングを有するアパーチャを備えた半導体処理部品、及びその形成方法。 - 特許庁
To provide a thermal insulator for a semiconductor processing furnace which is of high purity and small in high temperature deformation.例文帳に追加
高純度で高温での変形が少ない半導体処理炉用断熱体を提供する。 - 特許庁
The methods may advantageously be used in, for example, semiconductor processing.例文帳に追加
本発明の実施形態にかかる方法は、例えば半導体製造工程に好都合に用いてもよい。 - 特許庁
Semiconductor processing apparatus is disclosed which provides for movement of a scanning arm 60 of the wafer holder 180, in two orthogonal directions (X and Y directions).例文帳に追加
ウエハホルダー180の走査アーム60は直交する二方向(XY方向)に移動される。 - 特許庁
To provide a method and system for processing a workpiece in a vacuum-based semiconductor processing system.例文帳に追加
真空下の半導体処理システムにおいて加工中の製品を処理する方法及びシステムに関する。 - 特許庁
To provide various semiconductor processing components, and a method for forming the same.例文帳に追加
様々な半導体加工用部品とこうした半導体加工用部品を形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a lithography apparatus for semiconductor processing for generating a mask-less pattern using a MDI process technique.例文帳に追加
MDIプロセス技法を使用してマスクレス・パターン生成用の半導体処理リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and a device for supplying liquid precursor to a semiconductor processing device.例文帳に追加
本発明は液体前駆物質を半導体処理装置に供給する方法と装置を提供する。 - 特許庁
The polishing agent for semiconductor processing contains a compound having a glucose skeleton, abrasive grains and water.例文帳に追加
半導体加工用研磨剤は、グルコース骨格を有する化合物と、砥粒と、水とを含有したものである。 - 特許庁
To provide a ceramic article resistant to erosion by a halogen-containing plasma used in semiconductor processing.例文帳に追加
半導体処理に用いるハロゲン含有プラズマによる侵食に耐性のあるセラミック物品を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus skid where a piping of an auxiliary device or the like fro supporting a semiconductor processing tool can be installed easily.例文帳に追加
半導体処理ツールを支持するための補助機器等の配管が簡単に取り付けるられる機器スキッド。 - 特許庁
To provide a highly thermally stable metal silicide, and to provide method that utilizing the metal silicide in semiconductor processing.例文帳に追加
高熱安定性金属シリサイド、及び当該金属シリサイドを半導体の加工に使用する方法を提供する。 - 特許庁
The methods are scalable and fully compatible with existing semiconductor processing technology.例文帳に追加
本発明の実施形態にかかる方法は、拡張可能で既存の半導体製造技術と完全に両立する。 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING SEMICONDUCTOR PROCESSING PROCESS, MEDIUM RECORDING PROCESSING PROCESS例文帳に追加
半導体処理工程制御システム、半導体処理工程制御方法、及び、そのための処理を記録した記録媒体 - 特許庁
To provide a method of optimizing a set of steps in a semiconductor processing system comprising a software control program.例文帳に追加
ソフトウェア制御プログラムを備える半導体処理システムの工程のセットを最適化する方法を提供する。 - 特許庁
A method and device are provided for protecting a device, such as a pump from a processing chamber of a semiconductor processing system.例文帳に追加
半導体処理システムの処理チャンバーからポンプのような装置を保護するための方法及び装置である。 - 特許庁
To provide a method for forming a small hole on an organic compound containing insulating layer in semiconductor processing.例文帳に追加
半導体加工において有機化合物含有絶縁層に小さな穴を形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor processing components having apertures with deposited coatings, and to provide a method for forming the same.例文帳に追加
保護材料でコーティングされた開口を有する半導体処理装置部品及びその形成方法を提供する。 - 特許庁
A wireless illumination sensing assembly for sensing a property of illumination within a semiconductor processing environment is provided.例文帳に追加
半導体加工環境内で照明の特徴を検出するためのワイヤレス照明検出アセンブリを提供する。 - 特許庁
FILM-SHAPED SEMICONDUCTOR CHIP ADHESIVE AGENT, SEMICONDUCTOR PROCESSING ADHESIVE SHEET, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
半導体チップ用フィルム状接着剤、半導体加工用接着シートおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁
To provide a quartz glass ingot of ultra low contamination and defect levels for use in semiconductor processing applications.例文帳に追加
半導体加工用途で使用するための不純物レベル及び欠陥濃度の低い石英ガラスインゴットの提供。 - 特許庁
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