「"texture processing"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

TEXTURE PROCESSING SLURRY AND METHOD例文帳に追加

テクスチャ加工スラリー及び方法 - 特許庁

TEXTURE PROCESSING LUBRICANT COMPOSITION例文帳に追加

テクスチャ加工用潤滑液組成物 - 特許庁

TEXTURE PICTURE PROCESSOR AND TEXTURE PROCESSING METHOD例文帳に追加

テクスチャ画像処理装置および方法 - 特許庁

TEXTURE PROCESSING DEVICE, METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

テクスチャ処理装置、方法およびプログラム - 特許庁

POLISHING SLURRY FOR TEXTURE PROCESSING AND METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

テクスチャ加工用研磨スラリー及び方法 - 特許庁

TEXTURE PROCESSING METHOD FOR MAGNETIC HARD DISK SUBSTRATE例文帳に追加

磁気ハードディスク基板のテクスチャ加工方法 - 特許庁

PULSE SIGNAL GENERATION CIRCUIT FOR LASER TEXTURE PROCESSING例文帳に追加

レーザテクスチャ加工用パルス信号発生回路 - 特許庁

To provide a texture processing device capable of detecting abnormality of surface oscillation of a substrate not only before and after the texture processing but also in the texture processing state in the texture processing of the substrate surface of a magnetic recording medium.例文帳に追加

磁気記録媒体の基板表面のテクスチャ加工において、テクスチャ加工の前後ばかりでなく、テクスチャ加工状態における基板の面振れの異常も検出することができるテクスチャ加工装置を提供する。 - 特許庁

DRAWING PROCESSING DEVICE, TEXTURE PROCESSING DEVICE, AND TESSELLATION METHOD例文帳に追加

描画処理装置、テクスチャ処理装置、およびテセレーション方法 - 特許庁

Polishing slurry is used for texture processing of the surface of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の表面をテクスチャ加工するための研磨スラリー。 - 特許庁

WATER-SOLUBLE PROCESSING OIL SOLUTION COMPOSITION FOR MAGNETIC DISK AND TEXTURE PROCESSING METHOD例文帳に追加

磁気ディスク用水溶性加工油剤組成物及びテクスチャ加工方法 - 特許庁

The texture processing part 18 draws a picture corresponding to the received picture data.例文帳に追加

テクスチャ処理部１８は、受信した画像データに応じた画像を描画する。 - 特許庁

PROCESS CHAMBER COMPONENT HAVING INTERNAL SURFACE ON SUBJECTED TO TEXTURE PROCESSING, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

テクスチャー加工された内面を有するプロセスチャンバコンポーネント及び製造方法 - 特許庁

DISPLACEMENT EXPANDING MECHANISM OF PIEZOELECTRIC ELEMENT, AND SURFACE TEXTURE PROCESSING APPARATUS UTILIZING THE SAME例文帳に追加

圧電素子変位拡大機構及びそれを利用する表面テクスチャ加工装置 - 特許庁

To precisely perform a texture processing in a short time by using a high power laser beam.例文帳に追加

高出力のレーザ光を用いて、短時間で精度良くテクスチャ加工を行う。 - 特許庁

POLISHING SLURRY USED FOR APPLYING TEXTURE PROCESSING ON SURFACE OF GLASS SUBSTRATE AND METHOD例文帳に追加

ガラス基板の表面をテクスチャ加工するために用いられる研磨スラリー及び方法 - 特許庁

Further preferably alkali treatment by an alkaline aqueous solution is performed after the texture processing.例文帳に追加

さらに、テクスチャー加工後に、アルカリ性水溶液によるアルカリ処理を行うことが好ましい。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DIRECT AND INDIRECT TEXTURE PROCESSING IN GRAPHICS SYSTEM例文帳に追加

グラフィクスシステムにおいて直接および間接テクスチャを処理するための方法および装置 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium by which treatment efficiency of texture processing is good, texture processing time can be shortened and manufacturing cost can be reduced.例文帳に追加

テクスチャー加工の処理効率が良く、テクスチャー加工時間を短縮できて、製造コストを低減させることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

For data on a plurality of pixels selected, by a processing object selection part 53, a texture processing part 54 performs texture processing using colors of the pixels by the same brush movement pattern.例文帳に追加

テクスチャ処理部５４は、処理対象選択部５３によって選択された複数の画素のデータについて、同一の筆運びパターンでその画素の色を用いたテクスチャ処理を施す。 - 特許庁

The method includes the wetting improving liquid application step 40 of applying a wetting improving liquid for improving the wetting of a slurry containing abrasive grains on the surface of a substrate to be subjected to texture processing before the texture processing is executed, and the texture processing step 50 of executing the texture processing by rotating the substrate wet by the wetting improving liquid to supply a slurry to the surface.例文帳に追加

テクスチャー加工を施すべき基板の表面に砥粒を含むスラリーの濡れ性を改善するための濡れ性改善液をテクスチャー加工を施す前に塗布する濡れ性改善液塗布工程４０と、濡れ性改善液で濡れた状態の基板を回転してその表面にスラリーを供給しながらテクスチャー加工を施すテクスチャー加工工程５０とを備える。 - 特許庁

A substrate is subjected to the texture processing of 0.1 to 1 nm Ra having ≥10 pieces/μm groove density.例文帳に追加

また、基板は溝の密度が１０本／μｍ以上、Ｒａ０．１〜１ｎｍのテクスチャ加工が施される。 - 特許庁

In a step of subjecting the magnetic layer to be disposed on the substrate to texture processing in order to impart the magnetic anisotropy thereto, foreign substances, such as particles and organic materials, included in a tape used for texture processing are previously removed and thereafter the tape is subjected to texture processing by rotating the glass substrate while the tape is pressed to the surface of the glass substrate.例文帳に追加

基板上に設ける磁性層に磁気異方性を付与するためのテクスチャ加工を施す工程において、テクスチャ加工に用いるテープに混入しているパーティクルや有機物等の異物を予め除去した後、このテープをガラス基板の表面に押し付けながらガラス基板を回転させてテクスチャ加工を行う。 - 特許庁

The plasma spray coating includes the surface on which the rough texture processing, having average strain which is a negative value is performed.例文帳に追加

プラズマスプレーコーティングは、負値である平均歪度を有する粗さのテクスチャー加工された表面を含む。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SLURRY FOR TEXTURE PROCESSING, AND MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC INFORMATION RECORDING MEDIUM USING SLURRY例文帳に追加

テクスチャー加工用スラリーの製造方法、および該スラリーを用いた磁気情報記録媒体の製造方法 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate for a magnetic recording medium comprises: a slurry selection process 40 for selecting slurry whose surface tension is controlled so as to make a contact angle with the surface of a substrate to be subjected to texture processing have a value within a specific range; and a texture processing process 50 for applying texture processing the surface of the substrate by using the selected slurry.例文帳に追加

テクスチャ加工を施すべき基板の表面に対する接触角が所定範囲内の値をとるように表面張力を制御したスラリーを選定するスラリー選定工程４０と、この選定されたスラリーを用いて基板の表面にテクスチャ加工を施すテクスチャ加工工程５０とを備える。 - 特許庁

A small-sized processing target selecting section 56, a small-sized drawing direction determining section 57 and a small-sized texture processing section 58 also perform second texture processing similar to the first processing only in the vicinity of an edge of the image.例文帳に追加

サイズ小処理対象選択部５６、サイズ小描画方向決定部５７、及びサイズ小テクスチャ処理部５８も、画像のエッジ部分近傍のみに、１回目と同様の２回目のテクスチャ処理を実行する。 - 特許庁

A client device 1 is connected to a network and includes a communication packet receiving part 13 and a texture processing part 18.例文帳に追加

クライアント装置１は、ネットワークに接続され、通信パケット受信部１３とテクスチャ処理部１８とを有する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium wherein at least a non-magnetic underlayer, a magnetic layer and a protective layer are sequentially layered on the surface of the disk substrate 1 on which the texture processing is performed after the texture processing is performed, when the texture processing is performed, a polishing slurry S including an abrasive formed by sintering and pulverizing cluster diamond is used.例文帳に追加

ディスク基板１の表面にテクスチャ加工を施した後に、このテクスチャ加工が施されたディスク基板１の表面上に、少なくとも非磁性下地層、磁性層、及び保護層を順次積層する磁気記録媒体の製造方法であって、前記テクスチャ加工を施す際に、クラスターダイヤを焼結し、粉砕してなる砥粒を含む研磨スラリーＳを用いる。 - 特許庁

The molten substance is formed adjacently to a part where texture processing of the crucible is effected in prior to the lower boundary of a solidifying material.例文帳に追加

溶解物は、凝固材料の下側境界に先んじてルツボのテクスチャ加工した部分に隣接して形成される。 - 特許庁

After the texture processing, acid treatment is performed and thereby the abrasive and the glass ground chip are removed due to etching action.例文帳に追加

テクスチャー加工後に酸処理を行うことにより、エッチング作用に基づいて研磨材やガラスの削り屑が除去される。 - 特許庁

A large-sized processing target selecting section 53 selects data of a plurality of pixels subjected to texture processing for YUV components of a source image.例文帳に追加

サイズ大処理対象選択部５３は、原画像のYUV成分について、テクスチャ処理の対象になる複数の画素のデータを選択する。 - 特許庁

To uniformly processing a substrate surface and to suppress the formation of abnormal projections by improving slurry wetting on the surface of a substrate to be subjected to texture processing, and uniformly spreading a slurry to be supplied to the surface of the substrate during the texture processing to the surface of the substrate.例文帳に追加

テクスチャー加工を施すべき基板の表面のスラリーの濡れ性を改善し、テクスチャー加工時に基板の表面に供給するスラリーが基板の表面に均一に広がるようにすることにより、基板表面の均一な加工を可能とし、異常突起の形成を抑制する。 - 特許庁

A large-sized texture processing section 55 applies first texture processing using colors of the pixels to the data of the plurality of pixels selected by the large-sized processing target selecting section 53 while using a drawing pattern of the drawing direction determined by the large-sized drawing direction determining section 54.例文帳に追加

サイズ大テクスチャ処理部５５は、サイズ大描画方向決定部５４により決定された描画方向の筆運びパターンで、サイズ大処理対象選択部５３によって選択された複数の画素のデータについて、その画素の色を用いた１回目のテクスチャ処理を施す。 - 特許庁

To impart magnetic anisotropy in a circumferential direction without subjecting a substrate to texture processing, regarding a magnetic recording medium and a magnetic anisotropy imparting method.例文帳に追加

磁気記録媒体及び磁気異方性付与方法に関し、基板をテクスチャ処理することなく円周方向に磁気異方性を付与する。 - 特許庁

Texture processing for imparting magnetic orientation in the circumferential direction onto a substrate 50 is applied to the magnetic disk, so that the magnetic disk has magnetic anisotropy in the circumferential direction.例文帳に追加

磁気ディスクは、基板５０上に周方向の磁気的配向性をつけるテクスチャー加工が施され周方向の磁気的異方性を有している。 - 特許庁

A texture processing means applies anti-alias processing to the prescribed texture included in the texture data, and generates a processing texture including the anti-iris part and the main texture part.例文帳に追加

テクスチャ処理手段は、前記テクスチャデータに含まれる所定のテクスチャに対してアンチエイリアス処理を施し、アンチエイリアス部及びメインテクスチャ部を含む処理テクスチャを生成する。 - 特許庁

To provide a method for processing one or both surfaces of magnetic disk substrates to give a homogeneous and fine texture, and a processing fluid for this texture processing.例文帳に追加

磁気ディスク基板の両面又は片面をより均一で微細にテクスチャ加工できる方法及びこのテクスチャ加工に使用する加工液を提供することである。 - 特許庁

To provide a texture processing method capable of forming, on a surface of a substrate of a magnetic hard disk, a texture streak having a concave part with adequate depth and a convex part with adequate height.例文帳に追加

磁気ハードディスクの基板の表面に、適度な深さの凹部と適度な高さの凸部を有するテクスチャ条痕を形成できるテクスチャ加工方法を提供する。 - 特許庁

In the graphics processing system, when a fragment reaches a texture processing stage, it is determined whether the texture to be applied is a static or dynamic texture (step 24).例文帳に追加

グラフィックス処理システムでは、フラグメントがテクスチャ処理ステージに達したときに、適用すべきテクスチャが静的テクスチャであるか動的テクスチャであるかが判定される(ステップ24)。 - 特許庁

A synthetic part 56 executes synthetic processing for synthesizing the data on the image to be output from the hatching processing part 55 with the data on the image to be output from the texture processing part 54.例文帳に追加

合成部５６は、ハッチング処理部５５から出力される画像のデータと、テクスチャ処理部５４から出力される画像のデータとを合成する合成処理を実行する。 - 特許庁

Texture processing is performed by supplying the surface of the rotating magnetic hard disk substrate 17 with the polishing slurry, pressing a polishing tape 12 on it and running it.例文帳に追加

テクスチャ加工は、回転する磁気ハードディスク基板１７の表面に研磨スラリーを供給し、その上に研磨テープ１２を押し付け、走行させることによって行われる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a magnetic recording medium by which a minute texture streak can be formed even when texture processing is performed on a surface of a disk substrate such as a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板などのディスク基板の表面にテクスチャ加工を施した場合でも、微細なテクスチャ条痕を形成することを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the texture processing, 25 to 60 nearly concentric grooves per μm are preferably formed and depth of the grooves is preferably 3 to 5 nm.例文帳に追加

テクスチャ加工は、１μｍ平方あたり２５本以上、６０本以下の略同心円状の溝であることが好ましく、溝の深さは、３ｎｍ以上、５ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The grooves in the circumferential direction are formed by mechanical texture processing carried out through a processing solution where very small diamond abrasive grains are dispersed between a process tape and the rotating glass substrate surface.例文帳に追加

周方向の溝は加工テープと回転するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を分散させた加工液を介在させて行なうメカニカルテクスチャ加工によって形成されている。 - 特許庁