「えっこう」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

超微細構造体のＸ線迅速構造解析方法例文帳に追加

RAPID X-RAY STRUCTURE ANALYSIS METHOD FOR ULTRAFINE STRUCTURE - 特許庁

ダイエット効果のある健康食品および製剤例文帳に追加

HEALTHY FOOD AND PREPARATION HAVING DIET EFFECT - 特許庁

ＸＹステージ機構及び露光装置例文帳に追加

XY STAGE MECHANISM AND EXPOSING DEVICE - 特許庁

Ｘ線検出素子における入射面の法線方向（ｚ´軸方向）は、Ｘ線６の照射方向（ｚ軸方向）と搬送方向（ｘ軸方向）とに平行なｚｘ平面内で、ｚ軸方向に対して傾斜させる。例文帳に追加

The normal line direction (z'-axis direction) of the incident surface in the X-ray detection element is inclined with respect to a z-axis direction within the zx plane parallel to the irradiation direction (z-axis direction) of the X rays and the feed direction (x-axis direction). - 特許庁

Ｘ線レンズ及び放射光を用いた加工方法例文帳に追加

X-RAY LENS AND MACHINING METHOD USING RADIATION - 特許庁

端部エッジ加工装置及び加工状態検査方法例文帳に追加

APPARATUS FOR MACHINING EDGE OF END PORTION, AND METHOD FOR INSPECTING ITS MACHINING STATE - 特許庁

高抵抗ＳＩＭＯＸウェーハの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HIGH-RESISTANCE SIMOX WAFER - 特許庁

処理対象のＸＭＬ文書を構成するＸＭＬイベント列を入力するＸＭＬパーサ１０と、ストリーミング処理によるＸＰａｔｈの評価を実行するＸＰａｔｈ評価部２０とを備える。例文帳に追加

This device comprises an XML parser 10 for inputting an XML event string constituting the XML document of a processing object, an XPath evaluation part 20 for executing the evaluation of XPath by streaming. - 特許庁

本発明の課題は、ＸＸＸ型トリグリセリド及びＸＸ型ジグリセリド含量が低く、ＸＵＸ型トリグリセリドに富んだ油脂の、効率的で工業化に適した製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing oils and fats which are poor in the content of an XXX-type triglyceride and that of an XX-type diglyceride and are rich in the content of an XUX-type triglyceride, as is efficient and suitable for the industrialization. - 特許庁

但し、Ｘ方向；水平面上の１方向、Ｙ方向；水平面上のＸ方向と垂直の方向、Ｚ方向；垂直方向とする。例文帳に追加

In the method, X direction is a direction in the horizontal plane, Y direction is a direction vertical to the X direction in the horizontal plane, and Z direction is a vertical direction. - 特許庁

改良ケミカルエッチウェーハ：エッチング工程において、アルカリエッチングのあと酸エッチングを行い、その際、アルカリエッチングのエッチング代を酸エッチングのエッチング代よりも大きくしたウェーハ。例文帳に追加

Acid etching is carried out following to alkaline etching in the etching process while setting a larger etching margin for the alkaline etching than for the acid etching thus obtaining an improved chemically etched wafer. - 特許庁

前記仮数部の変形としてはその上位の例えば７桁までは入力値ｘ_ｉ のそれと一致させ、８桁目以降を“ｘｘｘ ｘｘｘｘ １０００ ００００ ００００ ００００”としてもよい。例文帳に追加

When the mantissa is transformed, figures on and after 8 digits of the mantissa may be set to "xxx xxxx 1000 0000 0000 0000" while matching the figures up to an upper digit, e.g., 7 digits to those of the input value x_i. - 特許庁

Ｘ線用透過型回折格子、Ｘ線タルボ干渉計およびＸ線撮像装置例文帳に追加

TRANSMISSION TYPE DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY, X-RAY TALBOT INTERFEROMETER AND X-RAY IMAGING APPARATUS - 特許庁

Ｘ線ＣＴ装置およびそのＸ線ＣＴ画像再構成方法、Ｘ線ＣＴ画像撮影方法。例文帳に追加

X-RAY CT SYSTEM, ITS X-RAY CT IMAGE RECONSTITUTION METHOD AND X-RAY CT IMAGE PHOTOGRAPHING METHOD - 特許庁

蛍光体は、一般式（Ｓｃ_１—ｘＴｍ_ｘ）Ｃａ_４Ｏ（ＢＯ_３）_３（０＜ｘ≦１）で表される。例文帳に追加

This fluorophor is represented by the general formula: (Sc_1-xTm_x)Ca_4O(BO_3)_3 (0<x≤1). - 特許庁

蛍光体は、一般式（Ｙ_１—ｘＴｂ_ｘ）Ｃａ_４Ｏ（ＢＯ_３）_３（０＜ｘ＜１）で表される。例文帳に追加

The phosphor is represented by general formula: (Y_1-xTb_x)Ca_4O(BO_3)_3 (wherein 0<x<1). - 特許庁

蛍光体は、一般式（Ｙ_１—ｘＥｕ_ｘ）Ｃａ_４Ｏ（ＢＯ_３）_３（０＜ｘ＜１）で表される。例文帳に追加

The phosphor is represented by general formula: (Y_1-xEu_x)Ca_4O(BO_3)_3 (wherein 0<x<1). - 特許庁

蛍光体は、一般式（Ｙ_１—ｘＣｅ_ｘ）Ｃａ_４Ｏ（ＢＯ_３）_３（０＜ｘ＜０．６）で表される。例文帳に追加

The phosphor is represented by the formula (Y_1-xCe_x)Ca_4O(BO_3)_3 (0<x<0.6). - 特許庁

ＸＹテーブルでチップをＸ方向へ移動し、移動後座標（Ｘ１，Ｙ１）を記憶する（Ｓ４）。例文帳に追加

The chip 4 is moved in the X direction by means of an XY table and the after movement coordinate (X1, Y1) is stored (S4). - 特許庁

また、表面をエッチングする工程をウエットエッチングにより行なうことができる。例文帳に追加

Wet etching can be employed in the step for etching the surface. - 特許庁

エッチング終了検出用構造体、エッチングの終了検出方法、およびエッチング方法例文帳に追加

STRUCTURE FOR DETECTING ETCHING COMPLETION, ETCHING COMPLETION DETECTING METHOD, AND ETCHING METHOD - 特許庁

Ｘ線シャッタ機構とそれを備えたＸ線撮影装置及びそのＸ線撮影方法例文帳に追加

X-RAY SHUTTER MECHANISM, X-RAY PHOTOGRAPHING DEVICE EQUIPPED WITH IT AND X-RAY PHOTOGRAPHING METHOD - 特許庁

Ｘ線発生装置及びこれを有するＸ線露光装置及びＸ線の発生方法例文帳に追加

X-RAY GENERATOR, X-RAY EXPOSURE DEVICE HAVING IT, AND X-RAY GENERATING METHOD - 特許庁

Ｘ線管部２をＸ線照射軸ｘに沿って移動させる移動機構７を備える。例文帳に追加

This radiographic apparatus is provided with a moving mechanism 7 moving the X-ray tube section 2 along an X-ray irradiation axis (x). - 特許庁

六方晶系Ｉｎ_ＸＧａ_１−ＸＮのｍ面が所定の軸Ａｘの方向に向いている。例文帳に追加

An m surface of the hexagonal In_XGa_1-XN faces towards the predetermined Ax axis. - 特許庁

Ｘ線発生装置及びこれを有するＸ線露光装置及びＸ線の発生方法例文帳に追加

X-RAY GENERATOR, X-RAY EXPOSURE EQUIPMENT, AND X-RAY GENERATING METHOD - 特許庁

六方晶系Ｉｎ_ＸＧａ_１−ＸＮのａ面が所定の軸Ａｘの方向に向いている。例文帳に追加

An (a) plane of the hexagonal In_XGa_1-XN faces towards the predetermined Ax axis. - 特許庁

Ｘ軸ガイド４内でＸ軸方向に移動可能にＸ軸移動部７が配設される。例文帳に追加

An X-axis moving portion 7 is provided in such a way as to be movable in an X-axis direction inside the X-axis guide 4. - 特許庁

Ｘ線ＣＴ装置およびそのＸ線ＣＴ画像再構成方法、Ｘ線ＣＴ画像撮影方法例文帳に追加

X-RAY CT EQUIPMENT AND ITS X-RAY CT IMAGE RECONSTRUCTION METHOD, AND X-RAY CT IMAGE PHOTOGRAPHIC METHOD - 特許庁

Ｘ線分析を行うのに好適なＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供する。例文帳に追加

To provide an X-ray analyzer and an X-ray analysis method appropriate for performing X-ray analysis. - 特許庁

この特徴ある構成は、エッチング工程が酸エッチングする第１エッチング工程１３ａとこの第１エッチング工程の後にアルカリエッチングする第２エッチング工程１３ｂとを含み、第１エッチング工程と第２エッチング工程との間に第１エッチング工程で形成されたウェーハ裏面の凹凸の一部を研磨する裏面軽研磨工程１４を含む。例文帳に追加

This characteristic constitution includes a first etching process 13a wherein acid etching is performed in the etching process and a second etching process 13b wherein alkaline etching is performed after the first etching process, and includes a back light polishing process 14 for polishing the uneven part of the back of the wafer which is formed by the first etching process, between the first etching process and the second etching process. - 特許庁

第１、第２水平方向ホール素子ｈｈ１、ｈｈ２は、第１、第２水平方向位置検出用磁石と第２方向で対向する位置関係に、第１、第２鉛直方向ホール素子ｈｖ１、ｈｖ２は、第１、第２鉛直方向位置検出用磁石と第１方向で対向する位置関係にある。例文帳に追加

Then, 1st and 2nd horizontal direction Hall elements hh1 and hh2 are set in positional relation facing the 1st and the 2nd horizontal direction position detecting magnets in the 2nd direction, and 1st and 2nd vertical direction Hall elements hv1 and hv2 are set at positional relation facing the 1st and the 2nd vertical direction position detecting magnets in the 1st direction. - 特許庁

彼は不幸に逢ってかえって世間の同情を得た例文帳に追加

He gained public sympathy by meeting with a misfortune―（他動詞構文にすれば）―His misfortune gained him public sympathy.  - 斎藤和英大辞典

結果、かえって非常に高度な染色技を駆使した染め物となった。例文帳に追加

As a result, it turned out to be a highly skilled dyeing technique.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

ウシのＣｈｅｄｉａｋ—Ｈｉｇａｓｈｉ症候群の遺伝子診断法例文帳に追加

GENE DIAGNOSIS OF BOVINE CHEDIAK-HIGASHI SYNDROME - 特許庁

ＮＯ_Ｘ触媒全体をＮＯ_Ｘ浄化のために有効に利用する。例文帳に追加

To effectively utilize an entire NOX catalyst for purifying NOX. - 特許庁

ＮＯｘ吸蔵触媒からＮＯｘを良好に放出させる。例文帳に追加

To excellently discharge NOx from an NOx storage catalyst. - 特許庁

ｈｉｇｈ−ｋ／メタル構造を備えた半導体素子のプラズマ処理方法例文帳に追加

METHOD FOR PLASMA PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICE WITH HIGH-K/METAL STRUCTURE - 特許庁

装置ケース１２にＸ方向用電磁石２２ｘを設ける。例文帳に追加

The device case 12 is provided with an electromagnet 22x for X direction. - 特許庁

ＴｉＷ膜を選択的にエッチングし、そのエッチング速度を向上させる。例文帳に追加

To selectively etch TiW films and improve its etching speed. - 特許庁

Ｘ／Ｙステージのレーザ光線測定方法及びＸ／Ｙステージ例文帳に追加

MEASURING METHOD FOR LASER BEAM BY X/Y STAGE, AND X/Y STAGE - 特許庁

温度係数τｆ＝０を考慮すると、ｘは１．０≦ｘ≦２．０である。例文帳に追加

Considering that the temperature coefficient τf=0, x is in the range: 1.0≤x≤2.0. - 特許庁

温度勾配デバイスを有するＸ線管とＸ線システム例文帳に追加

X-RAY TUBE HAVING TEMPERATURE GRADIENT DEVICE AND X-RAY SYSTEM - 特許庁

髄膜炎菌表面抗原ＮｈｈＡの保存領域を含むタンパク質例文帳に追加

PROTEINS COMPRISING CONSERVED REGIONS OF NEISSERIA MENINGITIDIS SURFACE ANTIGEN NhhA - 特許庁

ウエットエッチング方法及び音叉型圧電素子片の加工方法例文帳に追加

WET ETCHING METHOD AND METHOD FOR PROCESSING TUNING FORK TYPE PIEZOELECTRIC ELEMENT STRIP - 特許庁