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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > えっこうに関連した英語例文

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えっこうの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 49976



例文

第1の変更機能は、第3のコーナーのX座標と第5のコーナーのX座標とを比較して、SX_0<PX_0の場合にSX_0をPX_0に変更する。例文帳に追加

A first change function compares an X coordinate of a third corner with an X coordinate of a fifth corner and changes SX_0 into PX_0 in the case of SX_0<PX_0. - 特許庁

組成式Fe_xNi_yB_z[但し、x+y+z=1、0.2x≦y≦4x、0.1(x+y)≦z≦0.4(x+y)]を主成分とし、膜面に垂直方向の磁気異方性を有する磁性層を有する記憶素子を構成する。例文帳に追加

The storage element includes: a magnetic layer which is made principally of composition Fe_xNi_yB_z satisfying x+y+z=1, 0.2x≤y≤4x, and 0.1(x+y)≤z≤0.4(x+y) - 特許庁

半導体発光素子1は、発光領域3と、第1のAl_X1Ga_1−X1N半導体(0≦X1≦1)層5と、第2のAl_X2Ga_1−X2N半導体(0≦X2≦1)層7とを備える。例文帳に追加

The semiconductor light emitting element 1 is provided with a light emitting region 3, a first Al_X1Ga_1-X1N semiconductor (0≤X1≤1) layer 5, and a second Al_X2Ga_1-X2N semiconductor (0≤X2≤1) layer 7. - 特許庁

半導体発光素子1は、発光領域3と、第1のAl_X1Ga_1−X1N半導体(0≦X1≦1)層5と、第2のAl_X2Ga_1−X2N半導体(0≦X2≦1)層7とを備える。例文帳に追加

The semiconductor light emitting device 1 includes: a light emitting region 3; a first Al_X1Ga_1-X1N semiconductor (0≤X1≤1) layer 5; and a second Al_X2Ga_1-X2N semiconductor (0≤X2≤1) layer 7. - 特許庁

例文

ロック機構60は、支持機構50に支持してあるロックシャフト61と、本体31の側板33X1,33X2に形成してある凹部62X1,62X2、63X1,63X2とよりなる。例文帳に追加

The lock mechanism 60 comprises a lock shaft 61 which is installed to the lock mechanism 50, and concave portions 62X1, 62X2, 63X1, and 63X2 which are formed on the side plates 33X1 and 33X2 of the main body 31. - 特許庁


例文

こうした規則を厳密で細かにし過ぎると, かえって自縄自縛に陥ることがしばしばだ.例文帳に追加

Our freedom of action is very often hampered precisely because we make these rules and regulations too rigid and minute.  - 研究社 新和英中辞典

が、参謀西郷隆盛・林通顕らがかえって甲陽鎮撫隊による抗戦を厳しく咎めた。例文帳に追加

However, staff officers Takamori SAIGO and Michiaki HAYASHI severely rebuked the petition, because of the battle with the "Koyo Chinbutai" army unit.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

x電極およびy電極は、全体がx方向に延び、かつ、y方向にインタリーブする。例文帳に追加

X-electrodes and y-electrodes generally extend in the x-direction and are interleaved in the y-direction. - 特許庁

klothoタンパク質および抗klothoタンパク質抗体ならびにそれらの用途例文帳に追加

KLOTHO PROTEIN AND ANTI-KLOTHO PROTEIN ANTIBODY AND USE OF THEM - 特許庁

例文

X線光電子分光分析方法、その装置及びX線光電子分光分析用試料保持具例文帳に追加

X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPIC METHOD, APPARATUS THEREOF, SAMPLE HOLDER FOR X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPIC ANALYSIS - 特許庁

例文

エッチング速度を与える高供給低衝撃プラズマによる誘電エッチング法例文帳に追加

DIELECTRIC ETCHING METHOD BY HIGH SUPPLY LOW IMPACT PLASMA GIVING HIGH ETCHING RATE - 特許庁

メサエッチング工程の際、プラズマ発光強度の変化に基づいてプラズマエッチングを停止する。例文帳に追加

In etching the mesa portions, the plasma etching is stopped based on variation in the plasma emission intensity. - 特許庁

石英ガラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方法例文帳に追加

MASK FOR QUARTZ GLASS ETCHING AND METHOD FOR QUARTZ GLASS ETCHING - 特許庁

X線CT画像再構成方法及びX線CT画像再構成プログラム例文帳に追加

X-RAY CT IMAGE RECONSTRUCTION METHOD AND X-RAY CT IMAGE RECONSTRUCTING PROGRAM - 特許庁

貴金属触媒のNOx保持機能を有効利用しつつ良好なNOx浄化作用を確保する。例文帳に追加

To secure good NOx conversion action while effectively utilizing NOx retention function of noble metal catalyst. - 特許庁

シリンドリカルレンズ30のx方向のピッチはx方向の画素ピッチと同様である。例文帳に追加

The pitch of the cylindrical lens 30 in the x-direction is the same as a pixel pitch in the x-direction. - 特許庁

第一実区間多項式P(X)を第二実区間多項式F(X)で割った剰余を求める。例文帳に追加

A remainder obtained by dividing the first real interval polynomial P(X) by the second real interval polynomial F(X) is calculated. - 特許庁

アノード線Y1〜Y4に交差する方向にカソード線X1〜X4が配置されている。例文帳に追加

Cathode lines X1-X4 are arranged in the direction intersecting anode lines Y1-Y4. - 特許庁

その後、工程(3)のエッチング処理工程にて、マスク層3を選択エッチング処理にて除去する。例文帳に追加

In an etching processing process in a process (3), the mask layer 3 is removed by selection etching. - 特許庁

エッジ方向検出演算部2は、抽出ベイヤーデータBAYからエッジ最小方向を検出する。例文帳に追加

An edge direction detection operating section 2 detects an edge minimum direction from extraction Bayer data BAY. - 特許庁

第1画素回路PIXSと第2画素回路PIXRを水平方向に交互に配列する。例文帳に追加

First pixel circuits PIXS and second pixel circuits PIXR are alternately arrayed horizontally. - 特許庁

抗TXA2化合物をシンドロームX症候群の予防および/または治療剤として用いる。例文帳に追加

Anti-TXA2 compound is used as the prophylactic and/or the therapeutic agent for syndrome X. - 特許庁

x方向の長さ{x2+(L/2)}、y方向の長さ{y2+(L/2)}の端子16及び17が配置される。例文帳に追加

Terminals 16 and 17 having x-directional length (x2+(L/2)) and y-directional length (y2+(L/2)) are arranged. - 特許庁

プラズマエッチング法、プラズマエッチング装置、光学素子用成形金型及び光学素子例文帳に追加

PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING SYSTEM, MOLDING DIE FOR OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL ELEMENT - 特許庁

蛍光X線分析用基板および蛍光X線分析用標準試料例文帳に追加

SUBSTRATE FOR FLUORESCENCE X-RAY ANALYSIS AND STANDARD SAMPLE FOR FLUORESCENCE X-RAY ANALYSIS - 特許庁

車速演算部380はX方向加速度の時間積分によりX方向速度を算出する。例文帳に追加

A vehicle speed computing part 380 calculates an x-direction speed by time integration of the x-direction acceleration. - 特許庁

多層膜反射鏡、その製造方法、軟X線露光装置及び軟X線光学系例文帳に追加

MULTILAYER FILM REFLECTOR, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SOFT X-RAY EXPOSING DEVICE, AND SOFT X-RAY OPTICAL SYSTEM - 特許庁

エッチングマスク、エッチングマスク付き基材、微細加工品および微細加工品の製造方法例文帳に追加

ETCHING MASK, BASE MATERIAL WITH ETCHING MASK, FINE WORKPIECE, METHOD OF MANUFACTURING FINE WORKPIECE - 特許庁

エッチング方法、金属膜構造体の製造方法およびエッチング構造体例文帳に追加

ETCHING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF METAL FILM STRUCTURE AND ETCHING STRUCTURE - 特許庁

簡易な構成にて効率良く吸蔵還元型NOx触媒のNOx還元を行うこと。例文帳に追加

To efficiently perform the NOx reduction of a storage/reduction type NOx catalyst by a simple structure. - 特許庁

エッジ勾配検出方法、シミ欠陥検出方法、エッジ勾配検出装置、シミ欠陥検出装置例文帳に追加

EDGE GRADIENT DETECTION METHOD, STAIN DEFECT DETECTION METHOD, EDGE GRADIENT DETECTION DEVICE AND STAIN DEFECT DETECTION DEVICE - 特許庁

蛍光X線分析における試料マスク径の判別方法および蛍光X線分析装置例文帳に追加

DISCRIMINATION METHOD FOR DIAMETER OF SAMPLE MASK IN X-RAY FLUORESCENCE ANALYSIS AND X-RAY FLUORESCENCE ANALYZER - 特許庁

検知器10内にはX方向検知素子20xとY方向検知素子20yが設けられている。例文帳に追加

An X-direction detection element 20x and a Y-direction detection element 20y are provided in the detector 10. - 特許庁

高速・高収率のプラズマエッチング方法、およびプラズマエッチング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma etching method and a plasma etching apparatus of high speed/high yield. - 特許庁

これらの抗体はhIGF−1またはhIGF−2とわずかしか、または全く交差反応しない。例文帳に追加

These antibodies slightly or never cross-react with hIGF-1 or hIGF-2. - 特許庁

信頼性が高く、かつ、構造のシンプルな高出力X線管を備えたX線装置を提供する。例文帳に追加

To provide an X-ray device with a highly-reliable, simply-structured, and high power X-ray tube. - 特許庁

一対の基台4は、延長線AXに平行なX軸方向において互いに離間する。例文帳に追加

The pair of bases 4 are separated from each other in an X-axis direction parallel to the extended line AX. - 特許庁

蛍光X線分析用試料保持具ならびにそれを用いる蛍光X線分析方法および装置例文帳に追加

SAMPLE HOLDER FOR FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS, AND METHOD AND DEVICE FOR FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS USING THE SAME - 特許庁

蛍光X線分析用試料採取治具およびそれを用いる蛍光X線分析装置例文帳に追加

SAMPLING TOOL FOR FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS, AND FLUORESCENT X-RAY SPECTROMETER USING THE SAME - 特許庁

窓枠は、X線が通過できる開口であるX線開口を区画形成する。例文帳に追加

The window frame partitions and forms an X-ray opening through which X-rays can pass. - 特許庁

色を使用した健康チエック方法とこれに使用するための健康チエック器具例文帳に追加

HEALTH CHECK METHOD USING COLOR AND HEALTH CHECK APPARATUS USED THEREFOR - 特許庁

ダイエット加工食品原料及びその原料を用いたダイエット加工食品例文帳に追加

DIET PROCESSED FOOD RAW MATERIAL AND DIET PROCESSED FOOD USING THE SAME - 特許庁

フライアイミラー、それを有するX線露光装置及びX線露光方法例文帳に追加

FLY-EYE MIRROR, AND X-RAY EXPOSURE DEVICE THEREWITH AND X-RAY EXPOSURE METHOD - 特許庁

X方向移動装置5は、ベース24のX方向中央部に設置される。例文帳に追加

The X-direction moving device 5 is installed at the center in the X direction of a base 24. - 特許庁

エッチング公差判定用パターン付プリント基板及びプリント基板のエッチング公差判定方法例文帳に追加

PRINTED CIRCUIT BOARD WITH PATTERN FOR ETCHING TOLERANCE DETERMINATION, AND ETCHING TOLERANCE DETERMINATION METHOD OF PRINTED CIRCUIT BOARD - 特許庁

(a)は移動シリンダ19をX方向に向け、重量物をX方向に移動する。例文帳に追加

(a) moves the heavy object in X-direction with the movable cylinder 19 being directed in X-direction. - 特許庁

X線投影露光装置、X線投影露光方法及び半導体デバイスの製造方法例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR X-RAY PROJECTION AND EXPOSURE AND PRODUCING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

高Eh水供給による水系の生物棲息活性化技術並びに高Eh水供給装置例文帳に追加

TECHNIQUE FOR ACTIVATING INHABITATION OF AQUATIC ORGANISM BY FEEDING HIGH Eh WATER, AND APPARATUS FOR FEEDING HIGH Eh WATER - 特許庁

蛍光X線分析用試料前処理装置およびそれを備えた蛍光X線分析装置例文帳に追加

SAMPLE PRETREATMENT DEVICE FOR FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS, AND FLUORESCENCE X-RAY SPECTROMETER PROVIDED THEREWITH - 特許庁

例文

第1のマスクパターンをエッチングマスクとして、磁気抵抗効果膜をエッチングする。例文帳に追加

The magnetic resistance effect film is etched using the first mask pattern as an etching mask. - 特許庁

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