「えっこう」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

赤外発光蛍光体は、化学式が（Ｌｕ_１−ｘ−ｙＹｂ_ｘＮｄ_ｙ）_２Ｏ_２Ｓで表される蛍光体であって、ｘは、０．０１≦ｘ≦０．０７であり、ｙは、０．００３≦ｙ≦０．０６であり、かつ（ｙ／ｘ）は、１／６≦（ｙ／ｘ）≦５／３である。例文帳に追加

The infrared light-emitting fluorescent material is represented by chemical formula: (Lu_1-x-yYb_xNd_y)_2O_2S, wherein, x is ≥0.01 and ≤0.07; y is ≥0.003 and ≤0.06; and (y/x) is ≥1/6 and ≤5/3. - 特許庁

赤外発光蛍光体は、化学式が（Ｌａ_１−ｘ−ｙＹｂ_ｘＮｄ_ｙ）ＯＣｌで表される蛍光体であって、ｘは、０．０１≦ｘ≦０．０７であり、ｙは、０．１５ｘ≦ｙ≦ｘである。例文帳に追加

This infrared ray-emitting phosphor is one expressed by a chemical formula: (La_1-x-yYb_xNd_y)OCl, wherein x and y are defined as 0.01≤x≤0.07 and 0.15x≤y≤x, respectively. - 特許庁

その計算の際、ｈ（０）・ｘ（４）とｈ（２）・ｘ（２）との２つの項に現れる数値ｘ（４）とｘ（２）とを他の項に現れる数値よりも１クロック分先行して対応計算部に入力する。例文帳に追加

In the case of that calculation, numerical values x(4) and x(2) which appear in two terms of h(0).x(4) and h(2).x(2) are inputted to a correspondent calculation part preceding to numerical values which appear in the other terms for one clock. - 特許庁

拡張受信シンボルＲ_-を含む受信語Ｒよりシンドローム多項式Ｓ(ｘ)を求め（202）、多項式Ｅ(ｘ)，Ｓ(ｘ)より修正シンドローム多項式Ｓm(ｘ)を求め(203）、このＳm(ｘ)より誤り評価多項式ω(ｘ)、誤り位置多項式σ(ｘ)を求める（204）。例文帳に追加

A syndrome polynomial S(x) is obtained by a received word R including an extended reception symbol R (202), a corrected syndrome polynomial Sm(x) is found, based on the polynomials E(x), S(x) (203), and an error evaluation polynomial ω(x) and an error position polynomial σ(x) are found, based on the polynomial Sm(x) (204). - 特許庁

Ｘ軸スライダ２０に対してＸ軸方向の動きが規制されてＸ軸スライダ２０がＸ軸方向に移動するとそれに伴ってＸ軸方向に移動し、Ｘ軸スライダ２０に対してＹ軸方向の動きが許容されて、Ｘ軸スライダ２０に対してＹ軸方向に移動できるようにする。例文帳に追加

Also, the y-axial movement of the y-axis slider, relative to the x-axis slider 20, is admitted so that the y-axis slider is enabled travel in the direction of the y-axis, relative to the x-axis slider 20. - 特許庁

基板Ｂの搬送方向をＸ軸方向、Ｘ軸方向に略直交する方向をＹ軸方向とする。例文帳に追加

The transferring direction of the substrate B is defined as X-axis direction, and the direction approximately orthogonal to the X-axis direction is defined as Y-axis direction. - 特許庁

ＸＹ方向移動機構３０ｃは、２つのモータＭａ，Ｍｂ、Ｙ方向移動機構３８０およびＸ方向移動機構３９０を有する。例文帳に追加

The XY-direction moving mechanism 30c has two motors Ma, Mb, a Y-direction moving mechanism 380 and an X-direction moving mechanism 390. - 特許庁

このため渋滞走行によりＮＯｘ吸蔵量ｅｑｎｏｘｃｎｔがＮＯｘ吸蔵量判定値（ｅｎｏｘｍｘ・α）に近い状態が高頻度に生じたとしても実際にはＮＯｘ吸蔵量ｅｑｎｏｘｃｎｔは通常走行時よりもＮＯｘ吸蔵容量からは十分に離れた状態となっている。例文帳に追加

Therefore, even when a state where an NOx storage amount eqnoxcnt is close to the NOx storage determination value (enoxmx xα) occurs often, the NOx storage amount eqnoxcnt actually, sufficiently separates from the NOx storage amount than that of the case of normal running. - 特許庁

白色脂肪組織交感神経、褐色脂肪組織交感神経や副腎交感神経を興奮させることによって、香気によってもダイエット効果を有することができるダイエット効果付与剤及び該付与剤を含むダイエット香料組成物、更にはダイエット香粧品又はダイエット飲食品を提供する。例文帳に追加

To provide a diet effect imparting agent having a diet effect, also by flavor, through exciting the white adipose tissue sympathetic nerve, brown adipose tissue sympathetic nerve and adrenal gland sympathetic nerve, a diet perfume composition containing the diet effect imparting agent, a diet cosmetic and diet food and drink. - 特許庁

一方、前記超格子層は、ＩｎＮ層とＩｎ_ｘＧａ_１−ｘＮ（０≦ｘ＜１）層が交互に積層された構造である。例文帳に追加

The superlattice layer is the structure where the InN layer and In_xGa_1-xN (0≤x<1) layer are alternately laminated. - 特許庁

一方、低消費傾向が設定されている場合には、閾値Ｘを高消費傾向用のＸ２よりも大きいＸ１に設定する。例文帳に追加

When the low consumption trend is set, the threshold X is set to X1 larger than X2 for the high consumption trend. - 特許庁

Ｘ線光電子分光装置及び全反射Ｘ線光電子分光装置並びに角度分解Ｘ線光電子分光装置例文帳に追加

X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROMETER, TOTAL REFLECTION X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROMETER AND ANGLE-RESOLVED X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROMETER - 特許庁

高エッチングレートで、しかも、高異方性形状のエッチングを可能にした高誘電体膜のエッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for etching a high dielectric film into a shape having a high anisotropy at a high etching rate. - 特許庁

ＸＭＬ構文解析システム、ＸＭＬ構文解析方法、ＸＭＬ構文解析プログラム、電子機器及びＷｅｂサービス例文帳に追加

SYSTEM, METHOD AND PROGRAM FOR XML PARSING, ELECTRONIC DEVICE, AND WEB SERVICE - 特許庁

簡単な構成及び工程で高精度エッチングを実現可能なグレーズエッチング装置及びグレーズエッチング方法を得る。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method of high precision graze etching in a simple constitution and process. - 特許庁

画面には赤発光をする画素ＰＸ１、緑発光をする画素ＰＸ２、青発光をする画素ＰＸ３がマトリクス状に配列されている。例文帳に追加

A pixel PX1 for emitting red light, a pixel PX2 for emitting green light and a pixel PX3 for emitting blue light are arranged like a matrix on a screen. - 特許庁

高密度エッジ領域抽出部１４は，画像からエッジが高密度に存在する高密度エッジ領域を抽出する。例文帳に追加

A high density edge area extraction section 14 extracts a high density edge area in which edges exist in high density, from the image. - 特許庁

第２のグリッド１４は、ｙ方向に延伸したＸ線吸収部１４ａ及びＸ線透過部１４ｂがｘ方向に交互に配設されてなる。例文帳に追加

In a second grid 14, X-ray absorbing portions 14a and X-ray transparent portions 14b extending in a y direction are alternately arranged in an x direction. - 特許庁

移動機３０は、このＸＳＬＴデータに基づいて、保持している更新前のＸＭＬデータを更新し、更新後のＸＭＬデータを保持する。例文帳に追加

The mobile apparatus 30 updates the held XML data to be updated based on the XSLT data, and holds the updated XML data. - 特許庁

全反射蛍光Ｘ線分析方法、全反射蛍光Ｘ線分析前処理装置及び全反射蛍光Ｘ線分析装置例文帳に追加

TOTAL REFLECTION FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS METHOD, TOTAL REFLECTION FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS PRETREATMENT DEVICE, AND TOTAL REFLECTION FLUORESCENT X-RAY ANALYZER - 特許庁

全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板および全反射蛍光Ｘ線分析装置ならびに全反射蛍光Ｘ線分析方法例文帳に追加

SPECIMEN DRIP SUBSTRATE FOR TOTAL-REFLECTION FLUORESCENCE X-RAY ANALYSIS, TOTAL REFLECTION FLUORESCENT X-RAY ANALYZER, AND TOTAL REFLECTION FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS METHOD - 特許庁

ここで、軸が一致することには、例えば、＋ｘ軸方向、−ｘ軸方向、±ｘ軸方向への制御態様がある。例文帳に追加

In this case, in the matching of axes, there are control forms to a +x axis direction, a -x axis direction and ±x axis directions for instance. - 特許庁

Ｘ線反射光学素子及びその製造方法、該Ｘ線反射光学素子を有するＸ線縮小投影露光装置例文帳に追加

X-RAY CATOPTRIC ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING IT AND X-RAY REDUCTION PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH IT - 特許庁

エッチング処理における加工品質を良好に維持してエッチング効率を高めたエッチング液を製造する。例文帳に追加

To produce an etching soln. increased in etching efficiency in such a manner that working quality in etching treatment is satisfactorily maintained. - 特許庁

Ｘテーブルの切削（Ｘ方向）送りでワークＷ１，Ｗ２のＸ方向ストリート６０を切削加工する。例文帳に追加

The X-direction streets 60 for the workpieces W1, W2 are cut during the X-direction travelling of the X-table. - 特許庁

ＸＭＬデータ構造の復元システム、ＸＭＬデータ構造の復元方法、およびＸＭＬデータ構造の復元プログラム例文帳に追加

SYSTEM, METHOD AND PROGRAM FOR RESTORING XML DATA STRUCTURE - 特許庁

０．４５ｎｍ〜０．７ｎｍの範囲内のＸ線を用いて高解像度のパターンが得られるＸ線露光装置やＸ線露光方法を得ること例文帳に追加

To obtain an apparatus a method for X-ray beam exposure system, with which a pattern of high resolution can be obtained, using X rays within a range of 0.45 to 0.7 nm. - 特許庁

また、前記ダイエット効果付与剤又はダイエット香料組成物を含有することで、ダイエット効果を有するダイエット香粧品やダイエット飲食品が得られる。例文帳に追加

A diet cosmetic and diet food and drink having diet effect can be produced by using the diet effect imparting agent or the diet perfume composition as a component. - 特許庁

エッチング工程（１Ａ）がエッチング液の液温が６０℃以上の第一エッチング工程と、エッチング液の液温が２５℃以下の第二エッチング工程とで構成されていること。例文帳に追加

The etching process (1A) is composed of a first etching stage in which the solution temperature of an etching solution is controlled to 60°C or more and a second etching stage in which the solution temperature of an etching solution is controlled to 25°C or less. - 特許庁

続いて、SiドープIn_ｘ３(Al_ｚ３Ga_１−ｚ３)_１−ｘ３N光導波層８、In_ｘ３Ga_１−ｘ３N(5nm)/In_ｘ４Ga_１−ｘ４N（2.5nm)多重量子井戸活性層９、MgドープIn_ｘ３(Al_ｚ３Ga__１−ｚ３)_１−ｘ３N光導波層10、MgドープIn_ｘ２(Al_ｚ２Ga_１−ｚ２)_１−ｘ２N(2.5nm)/In_ｘ３(Al_ｚ３Ga_１−ｚ３)_１−ｘ３N(2.5nm)の超格子クラッド層11、MgドープIn_ｘ１Ga_１−ｘ１Nコンタクト層12を形成する。例文帳に追加

The clad layer may be in ultra-lattice structure and the amount of distortion of itself is preferably in a composition within ±0.01. - 特許庁

６方向指向装置１は、ＸＹＺ直交座標系内に設置される。例文帳に追加

A six direction orientation device 1 is installed in XYZ orthogonal coordinate system. - 特許庁

露光方法、露光装置、Ｘ線マスク、微細構造体および半導体装置例文帳に追加

EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, X-RAY MASK, FINE STRUCTURE AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

偏光子１２の透過軸方向をｘ軸方向に設定する。例文帳に追加

A transmission axis direction x of a polarizer 12 is set to an x axis direction. - 特許庁

保持機構が、加工対象物を保持してＸ方向にある速さで送る。例文帳に追加

A holding mechanism holds a workpiece and moves it in the X direction at a specified speed. - 特許庁

この構成により、Ｘ線の照射方向を変更することができる。例文帳に追加

By this configuration, the X-ray irradiation direction is changeable. - 特許庁

エッチング加工用無方向性電磁鋼板とモータコアの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING NON-ORIENTED ELECTRICAL STEEL SHEET FOR ETCHING-PROCESS, AND METHOD FOR MANUFACTURING MOTOR CORE - 特許庁

高速・高精度な蛍光Ｘ線分析装置を提供する。例文帳に追加

To provide a high-speed and highly accurate X-ray fluorescence analysis apparatus. - 特許庁

回転刃１１２は、Ｘ１方向に移動したあと、Ｙ２方向に下降する。例文帳に追加

After moving in an X1-direction, the rotary blade 112 descends in a Y2-direction. - 特許庁

Ｘ線マスク構造体、該Ｘ線マスク構造体を用いたＸ線露光方法、前記Ｘ線マスク構造体を用いたＸ線露光装置、前記Ｘ線マスク構造体を用いた半導体デバイスの製造方法、および該製造方法によって製造された半導体デバイス例文帳に追加

X-RAY MASK BODY STRUCTURE, METHOD AND DEVICE FOR X-RAY ALIGNER USING THE X-RAY MASK BODY STRUCTURE AND PRODUCING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE X-RAY MASK BODY STRUCTURE - 特許庁

ついで制御部７は、濃淡画像上のエッジを抽出しつつ、抽出されたエッジにつき仮中心とエッジとの距離、ならびにエッジにおける濃度勾配の方向に直交する方向とエッジから仮中心を見た方向とのなす角度に基づき、円周の構成点となるエッジを特定する。例文帳に追加

The control part 7 extracts the edges on the gray level image and specifies edges being the constitution points of a circumference based on a distance between the temporary center and the edge on the extracted edge and on an angle formed between a direction orthogonal to the direction of concentration inclination in the edge and a direction viewing the temporary center from the edge. - 特許庁

エッチング工程では、レーザマークの深さｘ（μｍ）がｘ≦６０のときｙ≧４を満たし、ｘ＞６０のときｙ≧０．００１ｘ^２−０．１１８６ｘ＋８．０６４３を満たすようにそのエッチング量ｙ（μｍ）が制御される。例文帳に追加

In the etching process, the etching amount y (μm) is controlled so as to satisfy y≥4 when the depth of the laser mark x (μm) is x≤60, and satisfy y≥0.001x^2-0.1186x+8.0643 when x>60. - 特許庁

補間回路４１ａは、入力されたｆ（ｘ_l），C^hat_1（ｘ_l），C^hat_2（ｘ_l），ｘ_r、およびｘ_drに基づいて２次補間演算を実行し、その結果としての２次補間値ｆ^hat（ｘ_l＋ｘ_r）＝ｆ_ss（ｖ）を減算器８０に出力する。例文帳に追加

An interpolation circuit 41a executes a secondary interpolation arithmetic operation based on input f(x_l), C^hat_1(x_l), C^hat_2(x_l), x_r and x_dr, and outputs a secondary interpolation value f^hat(x_l+x_r)=f_ss(v) as a result to the subtracter 80. - 特許庁

式ｆ−Ｍｅｔ−Ｌｅｕ−Ｘ〔式中、ＸはＴｙｒ、Ｔｙｒ−Ｐｈｅ、Ｐｈｅ−Ｐｈｅ及びＰｈｅ−Ｔｙｒから成る群から選択される〕を有するペプチドを抗線維形成有効量で哺乳動物に投与する。例文帳に追加

An antifibrotic effective amount of a peptide having the formula f-Met-Leu-X [wherein, X is selected from the group consisting of Tyr, Tyr-Phe, Phe-Phe and Phe-Tyr] is administered to the mammal. - 特許庁

第１エッチング工程において、バッファード弗酸を主成分として含有する第１エッチング組成物を用いて水晶材料の表面をウエットエッチングし、広い範囲で必要なエッチング量だけエッチング加工する。例文帳に追加

In a first etching process, the surface of a crystal material is wet-etched using a first etching composite containing a buffered hydrofluoric acid as a main component to perform an etching process over a wide area by a required etching quantity. - 特許庁

第３の変更機能は、第４のコーナーのＸ座標と第６のコーナーのＸ座標とを比較して、ＳＸ_１＞ＰＸ_１の場合にＳＸ_１をＰＸ_１に変更する。例文帳に追加

A third change function compares an X coordinate of a fourth corner with an X coordinate of a sixth corner and changes SX_1 into PX_1 in the case of SX_1>PX_1. - 特許庁