「をグラフにする」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

アレイに配置された回路素子を有する電子回路とこれを用いてリソグラフィーを行う方法例文帳に追加

ELECTRONIC CIRCUIT HAVING CIRCUIT ELEMENT ARRANGED IN ARRAY AND METHOD OF EFFECTING LITHOGRAPHY USING THE SAME - 特許庁

部品数を減らして、クロノグラフウォッチの組立てを経済的に行える配置構成を提供する。例文帳に追加

To provide an arrangement configuration that economically assembles a chronograph watch by reducing the number of parts. - 特許庁

フォトマスクを使用せずに光パターンを与える光リソグラフィーシステムを提供する。例文帳に追加

To provide an optical lithography system for providing an optical pattern without using a photomask. - 特許庁

属性を考慮した分析を行うのに適した所望のグラフを直観的な操作で表示する。例文帳に追加

To display a desired graph suitable to perform an analysis with attributes taken into consideration with an intuitive operation. - 特許庁

基板を囲む周囲構造を設けリソグラフィ装置で基板の縁部を照明可能にする。例文帳に追加

A surrounding structure that encloses a substrate is provided in order to enable illumination at the end part of the substrate by the lithography equipment. - 特許庁

方法はコンピュータ構成情報を使用してコンポーネント階層グラフを構築するステップと、コンポーネント階層グラフのノードを冗長性属性でラベリングするステップと、コンポーネント階層グラフをトラバースするステップと、コンポーネント階層グラフ内の冗長性属性を検査することによって、デバイスがアクセスパスを喪失するか否かを判断するステップとを含む。例文帳に追加

The method includes; a step which constructs a component hierarchical graph by using computer configuration information; a step which labels a node of the component hierarchical graph with a redundancy attribute; a step which traverses the component hierarchical graph; and a step which determines whether a device loses an access path by inspecting the redundancy attribute in the component hierarchical graph. - 特許庁

入射するレーザー光の斜入射成分のみを選択的に使用する液浸露光タイプのリソグラフィーに用いるのに最適な、斜入射光の光透過率がリソグラフィー操作にとって許容できる範囲を拡げたリソグラフィー用ペリクルを提供する。例文帳に追加

To provide a pellicle for lithography that is suitable to be used for liquid immersion exposure type lithography selectively using only an oblique incident light component of incident laser beam and that has a transmittance for oblique incident light having an increased allowable range for lithographic operation. - 特許庁

シリコンウェハー上にフォトリソグラフィーによるマスキングおよびエッチングにより穴を形成する。例文帳に追加

On a silicon wafer, holes are formed by masking by photolithography and by etching. - 特許庁

グラファイトシート１０の表面の所定の位置に多数の筋１１を互いに平行に形成する。例文帳に追加

A member of streaks 11 are formed in parallel with each other on the prescribed of the graphite sheet 10. - 特許庁

いずれにせよ、ＳＬＭは、ビットマップをホログラフィック物体ビームに符号化するのに用いられる。例文帳に追加

In any case, the SLM is used to encode bit maps into a holographic object beam. - 特許庁

この結晶により、例えば、図１のグラフに示すように、熱輻射をコントロールすることができる。例文帳に追加

With this crystal, heat radiation can be controlled, for example, as shown by the graphs in the figure. - 特許庁

次に、熱抽出処理により得られた熱抽出物をガスクロマトグラフＧＣにより分離する。例文帳に追加

Next, the thermally extracted matter obtained by the thermal extraction treatment is separated by a gas chromatograph GC. - 特許庁

本発明は、熱音響装置に関し、特にグラフェンを利用した熱音響装置に関するものである。例文帳に追加

To provide a thermoacoustic device, and particularly a thermoacoustic device using graphene. - 特許庁

浸漬リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。例文帳に追加

To realize good forming of the shape of a resist pattern obtained by an immersion lithography. - 特許庁

基板１８の上にフォトリソグラフィ法によって電鋳を通気溝のパターンに合わせて構成する。例文帳に追加

Electro-casting is constituted by a photolithographic method on the substrate 18 to a pattern of a vent groove. - 特許庁

液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。例文帳に追加

To enable a shape of a resist pattern obtained by immersion lithography to be excellently formed. - 特許庁

液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。例文帳に追加

To improve the profile of a resist pattern obtained by means of immersion lithography. - 特許庁

液浸リソグラフィにおいて、レジストパターンに生じる形状不良を防止できるようにする。例文帳に追加

To prevent occurrence of defective shapes in a resist pattern, in immersion lithography. - 特許庁

液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。例文帳に追加

To excellently form a shape of a resist pattern obtained by immersion lithography. - 特許庁

絶縁部材２の両端部におけるパンタグラフの摺動面には収集凹部２ａを形成する。例文帳に追加

A collecting recess 2a is formed on a slide face of the pantograph at both ends of the insulating member 2. - 特許庁

液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。例文帳に追加

To make the shape of a resist pattern, obtained by immersion lithography, excellent. - 特許庁

液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。例文帳に追加

To realize making of the good shape of a resist pattern obtained by a liquid immersion lithography. - 特許庁

表示装置に蓄積された複数のデータ系列のうち、表示装置でグラフ表示するように定められた特定のデータ系列をクライアント装置でグラフ表示する際の表現力を比較的容易に向上可能で、しかも、高速にグラフ表示を切り換え可能なクライアント装置を実現する。例文帳に追加

To provide a client device for switching a graphic display at a high speed by relatively easily improving the power of expression when graphically displaying a specific data system determined so as to be graphically displayed by a display device by the client device among a plurality of data systems stored in the display device. - 特許庁

多数の投影を用いてリソグラフィ・クラスタにおいて画像解像度を増強するリソグラフィ方法、及び解像度が増強された像を形成するために多数のパターンを投影して組み合わされた像を形成するのに用いられるリソグラフィ・クラスタ。例文帳に追加

A method of lithography, capable of enhancing an image resolution in a lithographic cluster using multiple projections, and to provide a lithographic cluster to be employed for an image to be formed by projecting a multitude of patterns and combining the projected patterns in order to form an image having an enhanced resolution. - 特許庁

中空組織接合装置１００は、ステープルを保持するステープルホルダー２００と、冠動脈５０を保持する冠動脈支持機構３００と、グラフト６０を保持するグラフト支持機構４００と、冠動脈５０とグラフト６０を切開する切開機構７００とを有している。例文帳に追加

The hollow tissue bonding device 100 includes a staple holder 200 for holding a staple, a coronary artery support mechanism 300 for holding the coronary artery 50, a graft support mechanism 400 for holding a graft 60, and an incision mechanism 700 for incising the coronary artery 50 and the graft 60. - 特許庁

ATIのグラフィックカードを設定するより多くの情報については、HardwareAccelerationGuide(日本語訳)をお読みください。例文帳に追加

Please read the Hardware AccelerationGuide for more information on configuring your ATI graphics card.  - Gentoo Linux

方法は、ユーザによって作成されるグラフィカル・エレメント・アイコンを認識する工程を含む。例文帳に追加

This method comprises a process for recognizing a graphical element icon created by the user. - 特許庁

ＤＦＧ再構成部６２は、置換されたノードをもとにデータフローグラフを再構成する。例文帳に追加

A DFG reconfiguration part 62 reconfigures the data flow graph based on the substituted node. - 特許庁

ＴＥＯＳ膜２上にＫｒＦリソグラフィ技術を用いてレジストパターン３を形成する。例文帳に追加

A resist pattern 3 is formed on a TEOS (tetraethylorthosilicate) film 2 using the KrF lithography technique. - 特許庁

炉内を焼成して、グラファイトによる多孔質焼結体を作製する（ステップＳ３０２）。例文帳に追加

A porous sintered compact of graphite is manufactured by baking the graphite in the furnace (step D302). - 特許庁

そして前記薄膜２にフォトリソグラフィ−およびエッチングを介して所望のパタ−ンを形成する。例文帳に追加

A desired pattern is formed on the thin film 2 through photolithography and etching. - 特許庁

炉内を焼成して、グラファイトによる多孔質焼結体を作製する（ステップＳ３０２）。例文帳に追加

A porous sintered compact of the graphite is produced by burning in the furnace (step S302). - 特許庁

また、ニトロセルロースに、グラファイトを１〜１５質量％含むことを特徴とする。例文帳に追加

Further, in the nitrocellulose , 1-15 mass% of graphite is contained. - 特許庁

炉内を焼成して、グラファイトによる多孔質焼結体を作製する（ステップＳ３０２）。例文帳に追加

The furnace is fired to prepare a porous sintered compact composed of the graphite (step S302). - 特許庁

炉内を焼成して、グラファイトによる多孔質焼結体を作製する（ステップＳ３０２）。例文帳に追加

The inside of the furnace is fired to form a porous sintered body of the graphite (Step S302). - 特許庁

グラフィックメニューバーを操作する方法及び装置、並びにこれらを用いる記録媒体例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR OPERATING GRAPHIC MENU BAR AND RECORDING MEDIUM USING THE SAME - 特許庁

この改質ふっ素樹脂に対し、スルホニルフルオライド基を含有するパーフルオロビニルエーテルをグラフトし（Ｓ１０２）、このグラフトによるグラフト体のスルホニルフルオライド基をケン化によりスルホン酸基に変換し、変性ふっ素樹脂を得る（Ｓ１０３、Ｓ１０４）。例文帳に追加

Perfluorovinylether containing a sulfonylfluoride group is grafted to the modified fluorine plastic (S102), and the sulfonylfluoride group of the graft polymer is converted into a sulfonic group by saponification to produce denatured fluorine plastic (S103, S104). - 特許庁

描画調停部１０５はグラフィックスコントローラ４０９からＲＥＱ２を受けてその描画優先レベルが最も高いので、グラフィックスコントローラ４０５に対するＯＥＮ０を“１”レベルにし、グラフィックスコントローラ４０９に対するＯＥＮ２を“０”レベルにする。例文帳に追加

A drawing arbitration section 105 receives a REQ 2 from the graphics controller 409 and since the drawing priority level thereof is highest, the drawing arbitration section maintains an OEN 0 to the graphics controller 405 at a "1" level and an OEN 2 to the graphics controller 409 at a "0" level. - 特許庁

処理部８２は、画像データに所定の処理を施した後、グラフィックチップ８１に供給する。例文帳に追加

The image data are supplied to a graphic chip 81 after performing a specified processing to the image data by the processing part 82. - 特許庁

リソグラフィー処理により、１層目のレジストパターン２ａで基板１上に凸部を形成する。例文帳に追加

A protruded part is formed on the base 1 with a first layer resist pattern 2a by a lithographic processing. - 特許庁

リソグラフィー処理により、１層目のレジストパターン２で基板１上に凸部を形成する。例文帳に追加

A protruded part is formed on the base 1 with the first layer resist pattern 2 by a lithographic processing. - 特許庁

半導体基板に対する２重露光によるリソグラフィ分解能を増強させること。例文帳に追加

To reinforce lithographic resolution by double exposure for a semiconductor substrate. - 特許庁

外金属層上にディジタル・リソグラフィによって第２エッチング・マスクを形成する。例文帳に追加

A second etching mask is formed on an external metal layer through digital lithography. - 特許庁

輝度表示行ｌｒｏｗに沿った輝度値をグラフ化してモニタに表示する。例文帳に追加

Luminance values along the luminance display row (lrow) are graphed and displayed on a monitor. - 特許庁

図２（ａ）に示す楕円形のグラフにおいて、制御点は円周上を移動する。例文帳に追加

In the elliptical graph shown in Fig.2(a), a control point moves on the circumference of the ellipse. - 特許庁