「タルタン」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

前記第２の導電層は、クロム、タンタル、タングステン、モリブデン、チタン、ニッケルまたはこれらの窒化物のいずれか一又は複数からなることを特徴とする。例文帳に追加

The second conductive layer contains at least one of chromium, tantalum, tungsten, molybdenum, titanium, silicon, nickel, and a nitride of each of them. - 特許庁

岩石や鉱物などの試料中の微量元素であるハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、タンタル、タングステンなどを、効率的に濃縮するための前処理方法を提供することが本発明の課題である。例文帳に追加

To provide a pretreatment method for effectively concentrating a trace element such as hafnium, zirconium, niobium, molybdenum, tantalum and tungsten contained in the samples of rock, mineral or the like. - 特許庁

環状部材２３２、支持部材２３３、Ｘ線遮蔽部材２３は、タンタル、タングステン、モリブデンなどのＸ線を遮蔽する金属を用いて一体成形により形成する。例文帳に追加

The annular member 232, the supporting members 233 and the X-ray shielding member 23 are formed through integral moulding by using X-ray shielding metals such as tantalum, tungsten and molybdenum. - 特許庁

酸化膜２の表面上、配線溝３及び接続孔４の内壁にタンタル／タンタルナイトライドの積層膜からなるバリアメタル５を形成する。例文帳に追加

A barrier metal 5 formed of a laminated film of tantalum/tantalum nitride is formed on the wiring groove 3 and the inner wall of the connection hole 4. - 特許庁

ニオブ材料としては、ニオブ、ニオブ合金及びニオブ化合物から選択される少なくとも１種が、タンタル材料としてはタンタル、タンタル合金及びタンタル化合物から選択される少なくとも１種が用いられる。例文帳に追加

As a niobium material, at least one is used that is selected from niobium, niobium alloy, and niobium compound, and as a tantalum material, at least one is used that is selected from tantalum, tantalum alloy, and tantalum compound. - 特許庁

モリブデン、ニオビウム、タンタル、タングステンなどの高融点金属またはこれらの合金の表面上に、等軸晶のMoSi_2結晶粒界にSiC粒子が分布された微細組織を有するMoSi_2-SiCナノ複合被覆層を構成する。例文帳に追加

The MoSi_2-SiC nanocomposite coating layer having a microstructure in which SiC particles are distributed in an equiaxed MoSi_2 grain boundary is constituted on a surface of refractory metals such as Mo, Nb, Ta, W and their alloys. - 特許庁

たとえば、OECDのデュー・ディリジェンス・ガイダンスを使用する発行人は、錫、タンタル、タングステンについて金とは異なるデュー・ディリジェンスのプロセスを用いるかもしれない。例文帳に追加

For example, an issuer using the OECD due diligence guidance may use different due diligence processes for tin, tantalum, and tungsten as compared with that for gold. - 経済産業省

再生利用金属は、錫、タンタル、タングステンおよび金のいずれかまたは両方の製造過程における再生利用に適した精製または加工された金属であり、金属素材の余剰品、陳腐化した品、不良品、断片などを含む。例文帳に追加

Recycled metal includes excess, obsolete, defective, and scrap metal materials that contain refined or processed metals that are appropriate to recycle in the production of tin, tantalum, tungsten and/or gold. - 経済産業省

この浸炭されたゾーンの利点は、部品がタンタル、タングステン、モリブデン、レニウム、チタン、クロム、ハフニウムおよびジルコニウムなどのような耐火金属の１種以上を比較的高レベルで含有する超合金である場合に特に顕著である。例文帳に追加

The advantageous of the carburized zone 28 are particularly remarkable in the case the parts are composed of a superalloy contg. one or more kinds of fire resistant metals such as tantalum, tungsten, molybdenum, rhenium, titanium, chromium, hafnium and zirconium at a relatively high level. - 特許庁

また、OECDの定義に基づき、最終規則には、再生利用された金属は錫、タンタル、タングステンおよび金のいずれかまたは両方の製造過程における再生利用に適した精製または加工された金属であり、金属素材の余剰品、陳腐化した品、不良品、断片などを含むと規定されている。例文帳に追加

Also, based on the OECD definition, the final rule states that recycled metal includes excess, obsolete, defective, and scrap metal materials that contain refined or processed metals that are appropriate to recycle in the production of tin, tantalum, tungsten and/or gold. - 経済産業省

本発明に係るプロピレンの製造方法は、ニッケル、チタン、バナジウム、クロム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウムおよび白金からなる群より選択される少なくとも１つの元素が非規則性メソポーラス多孔体、無定形シリカまたはゼオライトに含有されてなる触媒に、エチレンを接触させて、プロピレンを製造するものである。例文帳に追加

This method for producing propylene is provided by making ethylene in contact with a catalyst obtained by containing at least one element selected from the group consisting of nickel, titanium, vanadium, chromium, zirconium, niobium, molybdenum, ruthenium, rhodium, palladium, tantalum, tungsten, rhenium, osmium, iridium and platinum in an irregular mesoporous material, amorphous silica or zeolite. - 特許庁

一酸化炭素と含窒素化合物の混合ガスをエッチングガスとして使用し磁性材料をドライエッチングする際のマスク用材料において、当該材料が窒化物あるいは炭化物に変化したときに融点又は沸点が上昇する金属（タンタル、タングステン、ジルコニウム、ハフニウムのいずれか）からなることを特徴とするドライエッチング用マスク材によって課題を解決した。例文帳に追加

The mask material used in dry etching magnetic materials with mixed gas of carbon monoxide and a compound including nitrogen is characterized in consisting of a metal (either of tantalum, tungsten, zirconium, or hafnium) of which the melting point or the boiling point rises when the material changes into a nitride or a carbide. - 特許庁

銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるＣＭＰ用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。例文帳に追加

To provide a polishing medium for CMP capable of suppressing the occurrence of dishing, thinning and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and a method for polishing a substrate by using the same. - 特許庁

金属用研磨液を研磨定盤上の研磨パッドに供給し、被研磨面と接触させて被研磨面と研磨パッドを相対運動させて研磨する研磨方法において、上記の金属用研磨液を用いて、タンタル、窒化タンタル、タンタル合金、その他のタンタル化合物からなるバリア層を研磨する研磨方法。例文帳に追加

In the polishing method of polishing a target surface to be polished by supplying the metal polishing solution to a polishing pad on a platen to bring the metal polishing solution into contact with the target surface and relatively moving the target surface and the polishing pad, the barrier layer containing tantalum, tantalum nitrides, tantalum alloys, and other tantalum compounds is polished using the metal polishing solution. - 特許庁

ＤＵＶ光に対し比較的反射率が高い多層膜（２）上に形成される、ＤＵＶ光に対し比較的反射率が低いマスクパターン（５）が、その表面近傍部分のみ又は全体が意図的に形成された酸化タンタル、タンタル合金の酸化物、窒素タンタルの酸化物で形成されている。例文帳に追加

The reflecting type exposure mask comprises the mask pattern (5) formed on a multilayer film (2) having a relatively high reflectivity for a DUV light and having a relatively low reflectivity than that of the DUV light and formed of a tantalum oxide, an oxide of a tantalum alloy or an oxide of a nitrogen tantalum formed only on its surface vicinity part or entirely formed intentionally. - 特許庁

クロムを主成分とし、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、タングステン、モリブデンおよびボロンからなる群より選択される少なくとも一種の元素を１０〜５０原子％含み、酸素、炭素、硫黄および水素の合計含有量が３０００ｐｐｍ以下であることを特徴とする、スパッタリングターゲット。例文帳に追加

The sputtering target has a composition which contains chromium as a main component and also contains 10 to 50 atomic % of at least one element selected from the group consisting of aluminum, silicon, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, tungsten, molybdenum and boron and in which the total content of oxygen, carbon, sulfur and hydrogen is made to ≤3,000 ppm. - 特許庁

銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるＣＭＰ用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。例文帳に追加

To provide a polishing agent for CMP capable of suppressing occurrence of dishing, thinning, and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound, or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and to provide a method for polishing a substrate by using the agent. - 特許庁

アルカリ蓄電池用ニッケル電極活物質は、水酸化ニッケル系の第１成分と、スカンジウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルピウム、ツリウム、ルテチウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金および水銀からなる元素群から選択された元素を１種含む第２成分とを含んでいる。例文帳に追加

This active material for the nickel electrode of alkaline battery comprises a first component of nickel hydroxide family and a second component containing one kind of element selected from among the element group of scandium, lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, promethium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, lutetium, hafnium, tantalum, tungsten, rhenium, osmium, iridium, platinum, gold and mercury. - 特許庁

銅または銅合金のバリア層として用いられるタンタル、タンタル合金、窒化タンタル、その他のタンタル化合物の高速研磨を可能にし、低砥粒濃度で研磨キズがなく、シニングの少ない信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする金属用研磨液およびそれを用いた研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a metal polishing solution which is capable of quickly polishing tantalum, tantalum alloys, tantalum nitrides, and other tantalum compounds used as a barrier layer of copper or a copper alloy and has a low abrasive concentration to be free of polishing flaws and is capable of forming a buried metal film pattern of less thinning and high reliability, and to provide a polishing method using the same. - 特許庁

本発明に係るプロピレンの製造方法は、エチレンを、ニッケル、チタン、バナジウム、クロム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウムおよび白金からなる群より選択される少なくとも１つの元素が非規則性メソポーラス多孔体、無定形シリカまたはゼオライトに含有されてなる第１触媒に接触させた後に、酸化タングステンを含有する第２触媒にさらに接触させる、プロピレンの製造方法である。例文帳に追加

This method for producing propylene is provided by making ethylene in contact with a first catalyst obtained by containing at least one element selected from the group consisting of nickel, titanium, vanadium, chromium, zirconium, niobium, molybdenum, ruthenium, rhodium, palladium, tantalum, tungsten, rhenium, osmium, iridium and platinum in an irregular mesoporous material, amorphous silica or zeolite, and then making further contact with a second catalyst containing tungsten oxide. - 特許庁