「プラズマビーム」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

プラズマビームによる基体の被覆及び表面処理のための方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR COATING AND SURFACE TREATMENT OF SUBSTRATE BY MEANS OF PLASMA BEAM - 特許庁

イオンプレーティング装置およびプラズマビーム照射位置調整プログラム例文帳に追加

ION-PLATING APPARATUS, AND PROGRAM FOR REGULATING PLASMA BEAM APPLICATION POSITION - 特許庁

ハース５１の材料ロッド５３は、プラズマビームＰＢからの電流により加熱されて昇華する。例文帳に追加

A material rod 53 in a hearth 51 is heated by the electric current from a plasma beam PB and sublimated. - 特許庁

陽極部材は、プラズマビームを下方に導く主陽極であるハースを有する。例文帳に追加

The anode member has a hearth serving as the main anode for introducing a plasma beam downward. - 特許庁

プラズマガン１１により真空チャンバ１２内に向けてプラズマビーム２２を生成する。例文帳に追加

Plasma beams 22 are generated by a plasma gun 11 toward the inside of a vacuum chamber 12. - 特許庁

プラズマガン１１により真空チャンバ１２内に向けてプラズマビーム２２を生成する。例文帳に追加

A plasma beam 22 is formed toward the inside of a vacuum chamber 12 by a plasma gun 11. - 特許庁

ハース本体３３に収納された蒸発物質は、プラズマビームにより加熱されて蒸発する。例文帳に追加

An evaporation substance stored in a hearth body 33 is heated by the plasma beam and evaporated. - 特許庁

プラズマビーム径以上の基板全面の領域に渡り均一に膜を形成すること。例文帳に追加

To deposit a film uniformly over the region in the whole face of a substrate having a diameter equal to or larger than that of a plasma beam. - 特許庁

スイッチ２５をオン・オフすることにより、プラズマビームの放電電圧が可変制御される。例文帳に追加

By making the switch 25 on-off, the discharge voltage of a plasma beam is variably controlled. - 特許庁

陰極アーク放電によりカーボンターゲット１１を衝撃してカーボンイオンを含むプラズマビームＢを生成し、そのプラズマビームＢを成膜面４１ａに照射してカーボン膜を成膜する。例文帳に追加

Plasma beams B containing carbon ions are generated by colliding a carbon target 11 with the cathodic arc discharge, and the film deposition surface 41a is irradiated with the plasma beams B to deposit a carbon film. - 特許庁

プラズマ源１４は、圧力勾配型のプラズマガン２２と、円柱プラズマビームＣＰＢからシートプラズマビームＳＰＢを生成するシートプラズマ生成部２４とを有する。例文帳に追加

The plasma source 14 has a pressure gradient type plasma gun 22 and a sheet plasma-forming section 24 for forming a sheet plasma beam SPB from a columnar plasma beam CPB. - 特許庁

被処理物に対向して大きな平面状に形成されたプラズマビームを得ることができ、このプラズマビームを用いて被処理物に対して均一な成膜処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus in which a large and flat plasma beam opposite to a work to be processed is formed and a uniform film forming processing is performed on the work to be processed by using the plasma beam. - 特許庁

各シートプラズマ変成部２４ａ、２４ｂで円柱プラズマビームから変成された２つのシートプラズマビームＳＰＢ１、ＳＰＢ２は、シート面を並列にして真空容器１２に入射される。例文帳に追加

Two sheet plasma beams SPB1 and SPB2, deformed from columner plasma beams at respective sheet plasma deforming parts 24a and 24b, are made incident into the vacuum chamber 12 in the state that the sheet planes are in parallel. - 特許庁

プラズマビームＰＢにより加熱されハース本体５３から出射した蒸発物質は、プラズマビームＰＢによりイオン化され、メッシュ電極８０を通過して基板Ｗの下面に付着し膜が形成される。例文帳に追加

An evaporated substance heated by a plasma beam PB and emitted from a hearth body 53 is ionized by the plasma beam PB, passed through a mesh electrode 80 and deposited on a lower side of a substrate W to form the film. - 特許庁

よって、プラズマ源７から生成されたプラズマビームを主ハース２１側へ誘導することが可能となり、プラズマビームをカバー２８側へ誘導することも可能となる。例文帳に追加

Therefore, it becomes possible to induce a plasma beam produced from a plasma source 7 to the main hearth 21 side, and it also becomes possible to induce the plasma beam to the cover 28 side. - 特許庁

プラズマガン１１の出口部にこのプラズマビーム２２の周囲を取囲む電子帰還電極２が設けられている。例文帳に追加

The output part of the plasma gun 11 is provided with an electron feedback electrode 2 enclosing the circumference of the plasma beam 22. - 特許庁

この蒸気は、プラズマビームＰＢによりイオン化され、負電圧が印加された基板ＷＡの表面に付着して被膜が形成される。例文帳に追加

This vapor is ionized by the plasma beam PB and is deposited on the surface of a substrate W applied with negative voltage to form a coating film. - 特許庁

この蒸気は、プラズマビームＰＢによりイオン化され、負電圧が印加された基板ＷＡの表面に付着し被膜が形成される。例文帳に追加

This vapor is ionized by the plasma beam PB and deposits on the surface of a substrate WA applied with negative voltage to form a coating film. - 特許庁

電極部材４２は、蒸着材料Ｒを保持すると共に、蒸着材料Ｒにプラズマビーム或いは電子ビームを導く。例文帳に追加

The electrode member 42 holds the material R for vapor deposition and guides a plasma beam or electronic beam to the material R for vapor deposition. - 特許庁

プラズマガン１３の陰極１４と真空容器１１内のハース３１との間で放電が生じ、これによりプラズマビームＰＢが生成される。例文帳に追加

Discharge is generated between a cathode 14 of a plasma gun 13 and a hearth 31 in a vacuum container 11 to generate plasma beam PB. - 特許庁

高い放電パワー及び処理速度で、温度の影響を受けやすい材料の真空でのプラズマビームの処理を行なう。例文帳に追加

To carry out the plasma beam processing in vacuum status for the material sensitive to the influence of temperature at a high discharge power and high processing speed. - 特許庁

この蒸発粒子は、プラズマビームによりイオン化され、負電圧が印加された基板Ｗの表面に付着し被膜が形成される。例文帳に追加

The evaporated particles are ionized by the plasma beam, deposited on the surface of a substrate W to which negative voltage is applied, and a film is formed. - 特許庁

真空成膜装置１０のプラズマガン１１により真空チャンバ１２内に向けてプラズマビーム２２を生成する。例文帳に追加

A plasma beam 22 is generated toward the inside of a vacuum chamber 12 by a plasma gun 11 in a vacuum film forming device 10. - 特許庁

この蒸発物質は、プラズマビームＰＢによりイオン化され、基板Ｗの下面に付着し膜が形成される。例文帳に追加

This evaporation substance is ionized by the plasma beam PB, and deposited on a lower surface of a substrate W to form a film. - 特許庁

この蒸気は、プラズマビームＰＢによりイオン化され、例えば負電圧が印加された基板Ｗの表面に付着して被膜を形成する。例文帳に追加

The vapor is ionized by the plasma beam PB and allowed to adhere, e.g. to the surface of the wafer W to which negative voltage is applied and forms a film. - 特許庁

この蒸気は、プラズマビームＰＢによりイオン化され、基板Ｗの表面に付着して被膜を形成する。例文帳に追加

The resultant vapor is ionized by the plasma beam PB and allowed to adhere to the surface of a wafer W to form a film. - 特許庁

プラズマビームをカバー２８へ誘導することで、カバー２８に付着した成膜材料を加熱して、再昇華させることができる。例文帳に追加

By inducing the plasma beam to the cover 28, the film-forming material adhering to the cover 28 can be heated and sublimated again. - 特許庁

蒸着材料２１表面の磁束密度を変化させることで、プラズマビーム１７の形態が変化する。例文帳に追加

By changing the magnetic flux density of the surface in the vapor deposition material 21, the form of the plasma beam 17 changes. - 特許庁

プラズマビーム２２を蒸着性材料２０の表面に導き、真空チャンバー１２内の被成膜体１３上に薄膜２０ａを形成する。例文帳に追加

The plasma beam 22 is guided to a surface of the vapor deposition material 20 to deposit a thin film 20a on the object 13 in the vacuum chamber 12. - 特許庁

陰極アーク放電によりターゲットから発生したプラズマビームＰＢを基板４１上に照射して薄膜を成膜する際に、基板面の法線をプラズマビームＰＢのビーム方向に対して角度αだけ傾けるようにした。例文帳に追加

When irradiating a substrate 41 with a plasma beam PB generated from a target by cathode arc discharge to deposit a thin film, the normal to the substrate surface is tilted by an angle α relatively to the beam direction of the plasma beam PB. - 特許庁

グラファイトをカソードとするアーク放電によって炭素プラズマビームを発生させ、磁場によって軌道を曲げ、前記炭素プラズマビームを液晶表示素子を形成する一対の基板のいづれかに、基板の面に対して斜めの方向から照射することにより、カーボン膜を形成する。例文帳に追加

The carbon layer is formed by: generating a carbon plasma beam with arc discharge using graphite as a cathode; bending the orbit with a magnetic field; and irradiating either of a pair of substrates forming a liquid crystal display element with the carbon plasma beam from a direction inclined with respect to the substrate surface. - 特許庁

プラズマ加速装置は、一端部を開放する出口を有するチャンネルと、チャンネル内にガスを供給するガス供給部と、チャンネル内のガスにイオン化エネルギーを供給してプラズマビームを生成するプラズマ生成部、チャンネル内に所定の間隔を隔てて横方向に配置され、生成されたプラズマビームを電場によって出口に向かって加速する複数の格子からなるプラズマ加速部とを含む。例文帳に追加

The plasma accelerator comprises a channel having an exit releasing one end, a gas supplier which supplies gas into the channel, a plasma generator which supplies ionization energy to the gas in the channel to generate a plasma beam, and a plasma accelerator composed of a plurality of grids arranged in the lateral direction at set intervals in the channel to accelerate the generated plasma beam toward the exit with an electric field. - 特許庁

プラズマビームＰｂを用いて基板に膜を生成する成膜装置１において、材料ロッドＭを保持するハース２５のガイド部３１は、上端縁部３７の外径が下端部３２側の外径よりも小さく、プラズマビームＰｂの入射範囲Ａは、上端縁部３７の外周内に合わせられている。例文帳に追加

In the film deposition apparatus 1 for depositing a film on a substrate by using plasma beams Pb, the outside diameter of an upper edge 37 of a guide part 31 of a hearth 25 for holding a material rod M is smaller than the outside diameter on a lower end 32 side, and the range A of incidence of the plasma beams Pb is set within an outer circumference of the upper edge 37. - 特許庁

陰極アーク放電によりカーボンターゲット１１を衝撃してカーボンイオンを含むプラズマビームＢを生成し、そのプラズマビームＢを基板４１に照射してカーボン膜を成膜するカソーディックアーク成膜方法に関するものであって、成膜中に水素ガス供給装置４４から成膜チャンバ４内へと水素ガスを導入する。例文帳に追加

This method relates to a cathodic-arc film deposition method where a carbon target 11 is collided by cathode-arc discharge to form a plasma beam B containing carbon ions and a substrate 41 is irradiated with the plasma beam B to deposit a carbon film, and gaseous hydrogen is introduced during film deposition from a gaseous hydrogen feeding device 44 into a film deposition chamber 4. - 特許庁

陰極物質のプラズマビーム７０を成膜基板３１まで導いて膜を形成する真空アーク蒸着処理において、外部の制御装置１００からの制御信号１０１に基づいて、磁場を印加してプラズマビーム７０を走査し、成膜基板３１の基板面内に描くビームの軌跡が回転対称となるようにした。例文帳に追加

In vacuum arc deposition treatment where a plasma beam 70 of a cathode substance is introduced into a film depositing substrate 31 to deposit a film, based on a control signal 101 from an outside control system 100, a magnetic field is applied to scan the plasma beam 70, and the loci of of the beam drawn inside the substrate face of the film depositing substrate 31 are made rotatively symmetrical. - 特許庁

開口５１ｃから吐出される混合ガスにより、プラズマビームＰＢを安定して形成することができ、基板Ｗ上に均質な膜を再現性よく形成することができる。例文帳に追加

Owing to the gaseous mixture discharged through the opening 51c, a plasma beam PB can stably be formed, and a homogeneous film can be deposited on the wafer W with superior reproducibility. - 特許庁

堆積する給送ガスがプラズマビームに注入される間、イオンソース給送ガスが導入される、陰となったギャップを有する、液冷のアノードと特徴とする、グリッドのないホール電流イオンソースが提供される。例文帳に追加

A gridless Hall-Current ion source which features a fluid-cooled anode with a shadowed gap through which ion source feed gases are introduced while depositing feed gases are injected into the plasma beam is provided. - 特許庁

圧力勾配型プラズマガンから出射されたプラズマビームをハースに載置された蒸着材料に導くためのハース用マグネットが、マグネトロン構造である。例文帳に追加

A magnet for a hearth for introducing a plasma beam emitted from a pressure-gradient type plasma gun to a vapor deposition material placed on a hearth has a magnetron structure. - 特許庁

ハース５１上部のハースライナー５３は、プラズマビームＰＢにより加熱され、ハースライナー５３に収容された蒸発金属が溶融して金属の蒸気が安定して出射する。例文帳に追加

A hearth liner 53 on a hearth 51 is heated by a plasma beam PB, an evaporation metal accommodated in the hearth liner 53 is melted, and the metal vapor is consistently emitted. - 特許庁

プラズマビーム２２によりるつぼ１９内の成膜材料２０が蒸発し、蒸発した成膜材料２０により基板１３上に薄膜が形成される。例文帳に追加

A film forming material 20 in a crucible 19 is evaporated by a plasma beam 22, and, from the evaporated film forming material 20, a thin film is formed on a substrate 13. - 特許庁

この蒸発ビームは、プラズマビームＰＢによりイオン化され、成膜面を上側にした基板ＷＡの表面に付着して被膜が形成される。例文帳に追加

This evaporation beam is ionized by the plasma beam PB and adheres on the surface of the substrate WA with the film deposition face as the upper side to deposit a film. - 特許庁

プラズマを、その発光領域におけるプラズマの流線に垂直な断面積を、樹脂製コンタクトレンズの表面積よりも小さくした大気圧プラズマビームとする。例文帳に追加

Plasma is formed into an atmospheric pressure plasma beam of which the cross-sectional area perpendicular to a flow line of the plasma in a light emitting area thereof is made smaller than a surface area of the resin contact lens. - 特許庁

ハース５１に供給した材料タブレット５３は、プラズマビームＰＢからの電流により加熱され、材料タブレット５３の先端が昇華してここから膜材料の蒸気が安定して出射する。例文帳に追加

A material table 53 fed into a hearth 51 is heated by the electric current from a plasma beam PB and the top of the material table 53 is sublimated to stably emit film material vapor. - 特許庁

その結果として、ガイド部３１の上端縁部３７に集中的にプラズマビームＰｂが入射するようになり、ガイド部３１の上端縁部３７の温度を局所的に高めやすくなる。例文帳に追加

As a result, the plasma beams Pb are incident on the upper edge 37 of the guide part 31 in a focused manner, and the temperature of the upper edge 37 of the guide part 31 can be locally raised. - 特許庁

プラズマビームの移動速度を効率よく高められるのみならず、作製及び構成が簡単なプラズマ加速装置及び該装置を備えるプラズマ処理システムを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma accelerator which can not only efficiently accelerate travelling speed of a plasma beam but is easy to produce and compose, and a plasma processing system equipped with the plasma accelerator. - 特許庁