「マスクケース」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

フォトマスクケースの支持体によって付着するパーティクルは洗浄後も残留しやすい傾向があり、傷については洗浄しても除去することは不可能であるため、フォトマスクの表裏面とフォトマスクケースの支持体が接触しないようなフォトマスクケースを提供すること。例文帳に追加

To provide a photomask case preventing top and back surfaces of a photomask from coming into contact with a support body of the photomask case, because particles derived from a support body of a photomask case and depositing on a mask are apt to remain even after a cleaning process, and because scratches on a mask can not be eliminated by cleaning. - 特許庁

マスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法例文帳に追加

MASK CASE, MASK CASSETTE, PATTERN TRANSFER METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY APPARATUS - 特許庁

マスクケースの合せ目の外表面を平滑にして、粘着テープ等により気密性を高める。例文帳に追加

To improve airtightness with an adhesive tape or the like by making external surfaces at a joint of a mask case smooth. - 特許庁

ベルヌーイチャックを従来から使用されているフォトマスクケースに装着することにより、フォトマスク及びフォトマスクブランクを非接触に懸垂し、安定して保持することができるフォトマスクケース。例文帳に追加

In the photomask case, a Bernoulli chuck is fitted to a photomask case used as heretofore and, thereby, the photomask and photomask blank are suspended in non-contact with the case and are stably retained. - 特許庁

フォトマスクの搬送、保管に使用されるフォトマスクケース起因によるフォトマスクの曇りを確実に防止するフォトマスクケースを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a photomask case that can reliably prevent fogging of a photomask caused by a photomask case used for conveying or storing a photomask. - 特許庁

マスク及びそのマスクを収納したマスクケースが大型化しても、省スペース化を実現しつつマスクやマスクケースをライブラリなどに円滑に搬送できる搬送手段を備えた露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device provided with a transportation means which can convey a mask and a mask case smoothly to a library or the like while realizing space saving, even if the mask and the mask case for storing the mask grow in size. - 特許庁

フォトマスクの搬送、保管に使用するフォトマスクケースであって、前記フォトマスクケース作成時の材料に含まれる有機硫黄系物質の合計が５ｎｇ以下、前記フォトマスクケース作成時の材料に含まれる有機リン系物質の合計が５ｎｇ以下、前記フォトマスクケース作成時の材料に含まれる揮発性有機物質の総量が１００ｎｇ以下になっていることを特徴とするフォトマスクケース。例文帳に追加

The photomask case to be used for conveying or storing a photomask is characterized in that: the total amount of organic sulfur substances included in materials when making the photomask case is ≤5 ng; the total amount of organic phosphorous substances included in materials during making the photomask case is ≤5 ng; and the entire amount of volatile organic substances included in materials when making the photomask case is ≤100 ng. - 特許庁

更にマスク準備室１０４を設け、この中にマスクケース１０３に収納されたままのマスク１０２を搬送し、窒素パージを行なう。例文帳に追加

The device is further provided with a mask preparing chamber 104 into which the mask 102 still housed in the mask case 103 is transferred for performing nitrogen purge. - 特許庁

粘着テープ、筐体及びその搬送・保管方法、フォトマスクケース及びその搬送・保管方法例文帳に追加

ADHESIVE TAPE, HOUSING AND METHOD FOR TRANSPORTING/STORING THE SAME, PHOTOMASK CASE AND METHOD FOR TRANSPORTING/STORING THE SAME - 特許庁

マスクがマスクケースと接触することによって発生する静電気をマスクのクロム膜から充分に放出でき、マスクパターンが静電破壊を起こさずに良好にマスクを運搬することのできるマスクケースを提供する。例文帳に追加

To provide a mask case which is capable of sufficiently releasing the static electricity generated by contact of a mask with the mask case from the chromium film of the mask and is capable of well transporting the mask without allowing mask patterns to give rise to electrostatic discharge damage. - 特許庁

露光装置ＥＸは、マスクＭのパターンを基板Ｐに露光する露光部Ｓと、露光部Ｓで用いるマスクＭを収納するマスクケースＣを保管可能なライブラリＬＢと、マスクＭとマスクケースＣとのそれぞれを保持可能であるとともに、ライブラリＬＢに対して搬送するアーム部２０を有する搬送系Ｈ１とを備えている。例文帳に追加

The exposure device EX is provided with an exposure part S for exposing a pattern of mask M to a substrate P, a library LB which can keep a mask case C for storing the mask M used by the exposure part S, and a conveyance system H1 having an arm 20 for conveying to library LB while being able to hold each of the mask M and the mask case C. - 特許庁

工程内のフォトマスクの搬送、保管用ケース及びフォトマスクのシッピング用ケースなどフォトマスクを搬送、保管するためのフォトマスケースであって、フォトマスクケースの内壁部にガスバリア層を設けており、前記ガスバリア層が酸化ケイ素膜もしくは酸化ケイ素膜と導電薄膜とからなるフォトマスクケース。例文帳に追加

The photomask case to be used for conveying or storing the photomask such as the case for conveying or storing the photomask in a manufacturing process, the case for shipping the photomask, has a gas barrier layer arranged on an inside wall portion thereof, wherein the gas barrier layer is composed of a silicon oxide film or a silicon oxide film and a conductive thin film. - 特許庁

フォトマスクを保持するためのフォトマスクケースにおいて、フォトマスクの周囲を覆う外装容器に支持棒挿入穴を有し、その支持棒挿入穴から挿入された支持棒によりフォトマスクの側面を保持し、その支持棒がフォトマスクの側面部と接する側の先端部に弾性を有する支持体を設けていることを特徴とするフォトマスクケースとする。例文帳に追加

The photomask case for keeping a photomask is characterized in that: an outer container covering the periphery of a photomask has a support rod insertion hole; the side face of the photomask is held by a support rod inserted through the support rod insertion hole; and the support rod has a support body having elasticity at the top end of the rod to come into contact with the side face of the photomask. - 特許庁

１種類のマスクケースを用いて、複数の露光ユニットのマスクストッカに挿入方向を間違うことなくマスクを供給することができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device that can supply masks to mask stockers of a plurality of exposure units while keeping a right insertion direction by using one kind of mask case. - 特許庁

フォトマスク基板にパーティクルが付着する危険性を低減することができるとともに、小型化を図ることの可能なマスクケースの提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a mask case which can reduce the possibility of particle sticking to the photomask substrate and miniaturize its own dimensions. - 特許庁

本発明のマスクケースは、マスク１０を収容する内ケース上部１及び内ケース下部２と、この内ケースを運搬中に振動を防止するための上緩衝材３，下緩衝材４と、全体を収納する出荷ケース上部５及び出荷ケース下部６と、を備えて構成する。例文帳に追加

The mask case includes an inner case upper part 1 and an inner case lower part 2 which contain the mask 10, an upper buffer material 3 and a lower buffer material 4 for preventing vibrations during transportation of the inner case, and a shipping case upper part 5 and a shipping case lower part 6 which store the whole. - 特許庁

所定の中心軸線周りに円筒面状にパターン面が設けられたマスクを収容するマスクケースであって、マスクを収容する収容空間を形成し、収容空間に収容されたマスクのパターン面に対向する窓部が設けられたケース本体と、パターン面がケース本体に接触しないようにマスクの移動を制限する制限部と、を備える。例文帳に追加

A mask case that accommodates a mask on which a cylindrical pattern face is formed around a certain center axis includes a case body that forms a storage space for storing the mask and includes a window facing the pattern face of the mask stored in the storage space, and a regulation part that regulates a movement of the mask to prevent the pattern face from contacting the case body. - 特許庁

マスクケース１は、フォトマスク基板１０を支持する支持用保持手段４と、フォトマスク基板１０と線接触して位置決めする、厚さ方向位置決め用保持手段５及びサイド方向位置決め用保持手段６と、これらが設けられた基部２と、この基部２に着脱自在に取り付けられ、フォトマスク基板１０を覆う蓋部３とを備えた構成としてある。例文帳に追加

This mask case 1 has a holder 4 for supporting the photomask substrate 10, a support 5 in linear contact with the photomask substrate 10 to position it in the thickness direction, a support 6 to position the photomask substrate 10 in the lateral direction, a base 2 where those supports are provided, and a lid 3 movably attached to this base 2 and covers the photomask substrate 10. - 特許庁

樹脂製マスクケースやクリーンルーム環境中に存在するアウトガス成分に対して清浄で露光装置内部を汚染することのなく、微細なパターン形成ができる、反射型フォトマスク用ブランク及びその製造方法並びに反射型フォトマスク及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a blank for a reflective photomask and a manufacturing method thereof, and a reflective photomask and a manufacturing method thereof, in and by which the blank and the photomask are clean against an outgas component present in a resin-made mask case and a clean room environment, cause no contamination of the inside of an exposure device and allow a fine pattern to be formed. - 特許庁

露光装置１は、マスクを個別に収納するマスクケースを複数収納するケース容器３と、ケース容器３を保管する保管部４と、ケース容器３を保管部４からライブラリ５に移送する移送装置６と、ライブラリ５に配されたケース容器３からマスクＭの取り出しを行うマスク搬送装置７とを備えている。例文帳に追加

An exposure system 1 is equipped with case containers 3 which houses mask cases that keep masks separately, a storage section 4 which stores the case containers 3, a transfer device 6 which transfers the case container 3 from the storage section 4 to a library 5, and a mask transport device 7 which takes out a mask M from the case container 3 arranged in the library 5. - 特許庁