「投影検査法」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

投影観察方法、微生物検査方法および投影検出装置例文帳に追加

PROJECTION OBSERVING METHOD, MICROORGANISM INSPECTION METHOD AND PROJECTION DETECTING APPARATUS - 特許庁

投影光学系の検査装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

INSPECTING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

投影光学系の検査装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

APPARATUS FOR EXAMINING PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

投影光学系の検査装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

INSPECTION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

投影光学系の検査方法、検査装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR TESTING PROJECTION OPTICAL SYSTEM, TESTING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME SYSTEM - 特許庁

投影光学系の検査装置及び検査方法、並びに投影光学系の製造方法例文帳に追加

INSPECTING DEVICE AND METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

写像投影型電子線式検査装置及びその方法例文帳に追加

MAPPING PROJECTION TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE, AND METHOD THEREFOR - 特許庁

検査装置、像投影装置、および基板特性測定方法例文帳に追加

INSPECTION DEVICE, IMAGE PROJECTOR, AND SUBSTRATE CHARACTERISTIC MEASURING METHOD - 特許庁

電子線投影マスクの検査方法、電子線投影マスクの位置検出方法及び電子線投影マスクの検査装置例文帳に追加

METHOD FOR INSPECTING ELECTRON BEAM PROJECTION MASK, METHOD FOR DETECTING POSITION OF ELECTRON BEAM PROJECTION MASK, AND EQUIPMENT FOR INSPECTING ELECTRON BEAM PROJECTION MASK - 特許庁

光散乱検査法、光学素子の製造方法及び投影露光装置例文帳に追加

LIGHT SCATTERING INSPECTING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, AND PROJECTION EXPOSURE EQUIPMENT - 特許庁

投影光学系の検査装置及び検査方法、露光装置、並びに、マイクロデバイスの製造方法例文帳に追加

INSPECTION DEVICE AND METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER, AND MANUFACTURE OF MICRO DEVICE - 特許庁

フッ化物単結晶の検査方法、光学部材及び投影露光装置例文帳に追加

METHOD FOR INSPECTING FLUORIDE SINGLE CRYSTAL, OPTICAL MEMBER AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁

検査対象の投影画像群を取得する方法及びＸ線装置例文帳に追加

METHOD FOR ACQUISITIONING GROUP OF PROJECTED IMAGES AND X-RAY DEVICE - 特許庁

検査用基板、検査用基板の製造方法、検査用基板の評価方法、位置検出装置の製造方法、位置検出装置及び投影露光装置例文帳に追加

SUBSTRATE FOR INSPECTION, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR INSPECTION, METHOD OF EVALUATING SUBSTRATE FOR INSPECTION, METHOD OF MANUFACTURING POSITION DETECTOR, POSITION DETECTOR, AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE - 特許庁

電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM OF PATTERN DEFECT INSPECTION BY USING ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND MIRROR ELECTRON PROJECTION TYPE OR MULTIPLE BEAM TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE - 特許庁

光学系の検査装置および検査方法並びに該検査装置を備えた位置合わせ装置および投影露光装置例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTING OPTICAL SYSTEM, ALIGNER HAVING THE INSPECTING APPARATUS AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁

投影光学系の光学特性をより正確に且つ容易に検査することができる投影光学系の検査装置、及び当該投影光学系の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide the inspecting device for a projection optical system capable of correctly and easily inspecting the optical characteristics of the projection optical system, and to provide the method of manufacturing the projection optical system. - 特許庁

像面側に液体が配置される液浸式の投影光学系の光学性能を精確且つ容易に検査することができる投影光学系の検査方法及び検査装置等を提供する。例文帳に追加

To provide a method for testing a projection optical system and a testing device or the like by which the optical performance of a liquid-immersion type projection optical system wherein a liquid is arranged on the side of an image surface can be tested accurately and easily. - 特許庁

像面側に液体が配置される液浸式の投影光学系の光学性能を正確且つ容易に検査することができる投影光学系の検査方法および検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide the inspection method and the inspecting device for projection optical system, which are capable of correctly and easily inspecting the optical performance of the liquid immersion type projection optical system, in which the liquid is arranged at the side of image surface. - 特許庁

投影光学系の検査装置及び検査方法、それに用いられる結像特性計測用マスク、並びに、露光装置及び露光方法例文帳に追加

INSPECTION DEVICE AND INSPECTION METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, MASK FOR MEASURING IMAGE FORMATION CHARACTERISTICS WHICH IS USED FOR THAT, ALIGNER AND EXPOSURE METHOD THEREOF - 特許庁

本発明は検査対象の検査領域からのコーンビーム投影データから画像を再構成する方法に関する。例文帳に追加

An image is reconstructed from cone beam projection data from the inspection area of an inspection object. - 特許庁

本発明は複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板を検査する検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate inspection method for inspecting a substrate having a measuring object formed through a plurality of projection parts. - 特許庁

複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板を検査する基板検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate inspection method for inspecting a substrate having a measuring object formed through a plurality of projection parts. - 特許庁

検査対象の異なる角度位置での投影データが得られるＸ線によるノンメディカル応用分野における検査対象の投影データを読み取るためのＣＴ方法に関する。例文帳に追加

The present invention relates to the CT method for reading a projection data of the examined object in a medical application field by an X-ray capable of obtaining the projection data in different angles of the examined object. - 特許庁

光学特性計測方法、投影光学系の調整方法、露光方法、及び露光装置の製造方法、並びにマスク検査方法例文帳に追加

OPTICAL CHARACTERISTICS MEASUREMENT METHOD, ADJUSTMENT METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE METHOD, MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION ALIGNER, AND MASK INSPECTION METHOD - 特許庁

より均一な検出精度で且つ効率良く検査可能なパターン像を、検査対象である塗装面に投影する塗装面欠陥検査用照明方法及び装置の提供。例文帳に追加

To provide a coating surface defects inspecting illuminating method and device which projects a patterned image, which can be inspected with more uniform detection accuracy and effectively on a coating surface as an inspection object. - 特許庁

条件出しができるようにした写像投影型（ＭＰＪ型（ＳＥＰＪ）型も含む））電子線検査装置並びにこれら電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステムを提供することにある。例文帳に追加

To provide a mirror electron projection type ( including an MPJ type (also including an SEPJ type)) electron beam inspection device which is made possible to optimize a condition and a pattern defect inspection method and system by using the above electron beam inspection device. - 特許庁

検査ゾーンに配置された検査されるべき対象の円錐ビーム投影データから３次元画像を再構成する方法において、検出器感応面を越えて投影データを連続させることにより更に高い画質の画像を得ることを目的とする。例文帳に追加

To provide a high-quality image by continuing projection data over a detector sensitive face, in a method for reconstructing a three-dimensional image from the cone beam projection data of a target to be inspected which is disposed in an inspection zone. - 特許庁

基準の検査対象について寸法計測を行う方向に対して回転変位量だけ傾斜した仮想直線を設定し、検査対象を仮想直線上に投影したときの距離を用いて目的の寸法を求める。例文帳に追加

A virtual straight line that is inclined by the amount of rotary displacement to a direction for measuring dimensions is set to the inspection target of the reference, and target dimensions are obtained using distance when the inspection target is projected onto the virtual straight line. - 特許庁

本発明の基板検査方法によると、複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得し、取得された投影部別位相データを用いて基板に対する投影部別高さデータを抽出する。例文帳に追加

In the substrate inspection method, phase data classified by a plurality of projection parts in relation to the substrate is acquired by successively irradiating the substrate having the measuring object formed through the plurality of projection parts with pattern illumination, and height data classified by the projection parts in relation to the substrate is extracted by using the acquired phase data classified by the projection parts. - 特許庁

校正用測定以降、特に検査実行中に帯電状態の変化に起因する焦点オフセットの変化を補正することができるようにした写像投影型電子線式検査装置及びその方法を提供することにある。例文帳に追加

To correct a change in a focal point offset resulting from a change of a charged state after measurement for calibration, in particular, during execution of inspection. - 特許庁

高価な除振装置を用いることなく、投影光学系の検査時の低周波数の振動の影響を排除可能な検査装置及び検査方法、正確な露光が可能な露光装置、さらに製品の歩留まりを向上可能なマイクロデバイスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To achieve an inspection device and method for excluding the influence of vibration with a low frequency when inspecting a projection optical system without using any expensive anti-vibration device, an aligner for accurate exposure, and further a method for manufacturing a micro device for improving a product yield. - 特許庁

液晶装置の製造方法において、表面が粗面化されたガラス基板１００（透光性の基板）を検査する際には、光源３１０から出射された検査光Ｌ１１をガラス基板１００の表面に対して斜め方向から照射して、このガラス基板１００を透過した光Ｌ１２を被投影面３２０に投影する。例文帳に追加

In the liquid crystal device manufacturing method, in the case of inspecting a glass substrate 100 (light transmitting substrate) with roughened surfaces, the surface of the glass substrate 100 is irradiated from an inclined direction with inspecting light L11 emergent from a light source 310, and light L12 transmitted through the glass substrate 100 is projected to a surface 320, an object of projection. - 特許庁

例えばバウムテストのような投影法の心理検査において、被検者に受け入れられやすい温かみのあるコメント文を、比較的迅速かつ再現性高く提供する。例文帳に追加

To enable a psychological test of a projection method such as a Baumtest to provide a warm comment sentence to be easily accepted by a subject with high comparatively quickly and highly reproducibly to the subject. - 特許庁

複数の半導体素子領域５２が形成された半導体ウエハ５０の下面５０ｂの外観異常を検査する方法であって、半導体ウエハ５０の下面５０ｂに各半導体素子領域５２を示す映像を投影した状態で、半導体ウエハ５０の下面５０ｂの外観異常箇所５６を目視で特定する検査工程を有する外観検査方法。例文帳に追加

A method for visual inspection of visual abnormality of the undersurface 50b of the semiconductor wafer 50, having a plurality of semiconductor element regions 52 formed thereto has an inspection step for visually specifying the visually abnormal place 56 of the undersurface 50b of the semiconductor wafer 50, in a state where the images showing the respective semiconductor element regions 52 are projected on the undersurface 50b of the semiconductor wafer 50. - 特許庁

放射線を発生させるステアリング放射線電子管１と、ステアリング放射線電子管１から検査対象への投射により得た複数の放射線投射像を可視像に形成し可視像の投影される可視映像面を備える映像増倍管５と、を含む放射線検査システム及びこれを用いた検査方法に関する。例文帳に追加

This radiation inspection system contains a steering radiation electron tube 1 for generating radiation and an image multiplication tube 5 having a visual image screen for forming a plurality of radiation projected images obtained by the projection from the steering radiation electron tube 1 to an object to be inspected, which has a visual image face for projecting the visual image, and the inspection method using this system is also provided. - 特許庁

検査方法を実施する装置は、フィルタロッドＦを搬送する溝付きドラム６と、搬送過程にてフィルタロッドＦに転動力を与えるロッドガイド１０と、フィルタロッドＦの転動の有無をその投影径の変動により検出する投光器２６及び受光器３０とを備えている。例文帳に追加

This apparatus for carrying out the examining method has a drum 6 with grooves for conveying filter rods F, a rod guide 10 for providing a rolling power to the filter rods F in the conveying process, and a light projector 26 and a light receiver 30 for detecting the presence or absence of the rolling of the filter rod F by the change of the projected diameter. - 特許庁

レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に走査露光する走査露光方法において、レチクルステージ及び基板ステージを露光時と同じステージ駆動状態で走査させる他の検査工程と並行してレチクルパターン面測定を行うことを特徴とする。例文帳に追加

In the scanning exposure method for scanning and exposing an image of a pattern formed in a reticle on a substrate via a projection optical system, the reticle pattern surface is measured in parallel with other inspection process which scans a reticle stage and a substrate stage in the same stage driving state as in exposure. - 特許庁

光切断法を原理とする３次元形状測定装置に関し、特に、物体に投影するスリット光パターンを液晶素子で作成することにより、紙幣のような３次元的な凹凸検査においてμｍオーダーでの高精度な計測を可能としたものである。例文帳に追加

To achieve measurement at high accuracy in the order of μm, in a three-dimensional shape measuring device using a light-plane-intersecting sectioning method as the principle, particularly in a three-dimensional irregularity inspection such as paper money performed by creating a slit light pattern to be projected on an object by a liquid crystal element. - 特許庁

現地プラント配管撮影のように、従来ＣＴで必要な完全データの取得が困難であり、非常に小さい角度範囲での不完全投影データのみから画像再構成演算を実施し、被検体内部の浅い減肉のような微小欠陥などを画像化できる高画質な断層画像を作成できる配管検査用断層撮影方法および装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a tomographic method and apparatus for a piping inspection, which implements an image reconstruction operation from imperfect projection data only in a very small angle range since it is difficult for a conventional CT to obtain required perfect data when an image of plant piping is captured in the field, visualizes a minute defect such as a thickness reduction within a specimen, and generates a high-quality tomographic image. - 特許庁