「機構上の欠陥」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

移動機構・駆動源・検出部などをガラス基板の下側に配置してガラス基板の上面のみに存在する異物または欠陥の個数、位置、大きさについて、異物または欠陥の種類別に検出する光散乱方式ガラス基板検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a light scattering type glass substrate inspecting apparatus for detecting the number, position and size of the foreign matter or flaw present only on the upper surface of a glass substrate by the kind of the foreign matter or flaw, by arranging a moving mechanism, a drive source or a detection part under the glass substrate. - 特許庁

このインク塗布機構では、塗布針をスライド機構２２のスライド部４０に固定し、レール部４１を基板に垂直な方向に移動させて、塗布針の先端部に付着したインクを基板上の欠陥に塗布する。例文帳に追加

In the ink coating mechanism, ink attached to the distal end of the coating needle is applied on the defect of a substrate by fixing the coating needle on a slide part 40 of the slide mechanism 22 and transferring a rail part 41 to the perpendicular direction to the substrate. - 特許庁

テーブルが傾斜した状態で締結ボルトが締結されることになっても、構造上の欠陥ができることがなく、また、締結ボルトが無理に曲げられたり損傷したりしない、テーブル支持機構を提供する。例文帳に追加

To prevent the occurrence of a defect in terms of structure and prevent unreasonable bending and the damage of a fastening bolt even when the fastening bolt is fastened with a table inclined. - 特許庁

駆動部制御部７は、パターン欠陥位置情報２７ｂや、上記各回路１１・１３・１４から入力される情報に基づいて、駆動部６の駆動を制御することによって、パターン修正機構２および画像検出機構３の動作を制御する。例文帳に追加

The drive-part control part 7 controls the driving of the drive part 6, based on a pattern defect position information 27b and information are inputted from the circuits 11, 13, and 14, to control the action of the pattern correcting mechanism 2 and the image detecting mechanism 3. - 特許庁

またパターン修正装置は、カラーフィルタ６０上に形成されたパターンを修正するパターン修正装置であって、カラーフィルタ６０上におけるパターンの欠陥部分１５に塗布されたインクを輻射熱Ｈにより局所的に加熱するための焼成機構３を備えている。例文帳に追加

The pattern correction apparatus for correcting the pattern formed on the color filter 60 is provided with a baking mechanism 3 for locally heating the ink applied to the defective portion 15 of the pattern on the color filter 60 by using the radiant heat H. - 特許庁

原子炉容器の下部計装管台の溶接部のような複雑な形状、狭隘な部位においても、被検査体への密着性、および倣い性が良好な探触子の保持機構を提供することによって、探傷性能の安定性、欠陥の検出性を向上する探傷装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a flaw detector capable of enhancing stability of flaw detection performance, and detectability of a defect, by providing a holding mechanism for a probe excellent in close contactness and followability onto an inspected object, even in a complicated shape or a narrow portion such as a welded part of a lower instrumentation pipe block in a nuclear reactor. - 特許庁

同国は、全体的な監督枠組みの改善を継続すること、この目的において東カリブ諸国機構との協働を含む、資金洗浄・テロ資金供与対策上の欠陥に対応するためのアクションプランの履行に継続して取り組むべきである。例文帳に追加

Antigua and Barbuda should continue to work on implementing its action plan to address these deficiencies, including by continuing to improve the overall supervisory framework and to work with the Organisation of Eastern Caribbean States to this end.  - 財務省

移動機構を廃し、応答速度向上および消費電力の削減を行ない、また、容易に導入可能な画像入力方法およびその装置、さらには表面の微小凹凸を検出可能な表面欠陥検出装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an easily introducible image input method and its device eliminating the existence of a moving mechanism, improving the speed of response and reducing power consumption, and a surface defect detecting device for detecting minute irregularities on a surface. - 特許庁

小口径管推進工法用先導掘進機による切羽の掘削により調整した掘削土砂泥濃を、間欠的に排土することで切羽の崩壊を防止する排土バルブが、小口径管の寸法上から内装不能となる欠陥を、特異な開閉機構部の内装配設により解消可能とする。例文帳に追加

To cancel defects where a sludge valve for preventing a face from being damaged cannot be interior decoration due to the dimensions in a small-aperture pipe by arranging the interior decoration of a specific opening/closing mechanism section by intermittently discharging excavated earth and sand mud concentration being adjusted by the excavating of a face using a leading advancing machine for small-aperture advancing construction method. - 特許庁

被塗布基材上に、乾燥膜厚が、５００ｎｍ以下の薄膜であっても、均一な表面状態の塗布膜を得る方法であり、前記各種方式で発生するセルパターンや、泳ぎ、スジ、段ムラなどの塗布欠陥が無く、しかも乾燥機構による乾燥ムラもない均一薄膜を得る塗布方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a coating method which obtains a coating film having a uniform surface condition on a base material to be coated even when a dry film thickness is not more than 500 nm and is free from coating faults such as mottling, streaks, and unevenness caused by various methods and further obtains a uniformly thin film free from uneven drying by drying mechanism. - 特許庁