1016万例文収録!

「紫外線透過ガラス」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 紫外線透過ガラスに関連した英語例文

セーフサーチ:オフ

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

紫外線透過ガラスの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 175



例文

F_2 レーザ光を光源とする光学装置の光学部材として用いられる合成石英ガラスにおいて、波長157.6nmにおける内部透過率が85%/cm以上であって、かつF_2 レーザやXe_2 エキシマランプなどの紫外線照射による157.6nm内部透過率変動量が5%/cm以下である合成石英ガラス例文帳に追加

The synthetic quartz glass used as an optical member of an optical device using F2 laser light as a light source has ≥85%/cm internal transmittance at 157.6 nm wavelength and ≤5%/cm variation of the internal transmittance at 157.6 nm by irradiation with UV from an F2 laser, an Xe2 excimer lamp or the like. - 特許庁

少なくとも(A)アクリル系樹脂と、(B)厚さ50μmに於ける波長380nmの光線透過率が10%以下の紫外線吸収性樹脂とから構成される組成物であって、該組成物が(a)ガラス転移温度が110℃以上、(b)厚さ50μmに於ける波長500nmの光線透過率が80%以上、波長380nmの光線透過率が30%以下である、熱可塑性樹脂組成物。例文帳に追加

The thermoplastic resin composition is composed of at least (A) an acrylic resin and (B) an ultraviolet-absorbing resin having10% light transmittance at 380 nm wavelength in 50 μm thickness, and has (a) ≥110°C glass transition temperature and (b) ≥80% light transmittance at 500 nm wavelength and ≤30% light transmittance at 380 nm wavelength in 50 μm thickness. - 特許庁

波長250〜450nmの領域における紫外線透過率が50%以上であって、TMA(応力歪み測定)で測定したガラス転移温度が180℃以上である透明フィルムからなる電子ディスプレイ用の透明フィルム。例文帳に追加

The transparent film for the electronic display consists of a transparent film of50% transmittance of the UV rays in a wavelength region of a 250 to 450 nm and ≥180°C glass transition temperature measured by a TMA (stress and strain measurement). - 特許庁

可視光線を通過させることにより、明るさを確保し、かつ有害な紫外線を発電に利用することにより、シャットアウトする新しい窓ガラスに用いることができる青〜紫外光発電機能を有する可視光透過構造体を提供する。例文帳に追加

To provide a visible-ray transmitting structure having a power generating function utilizing blue to ultraviolet rays which secures brightness by transmitting visible rays, and shuts out harmful ultraviolet rays by utilizing ultraviolet rays, and further, can be used for new window glass. - 特許庁

例文

このミラーは、紫外線透過率の高いガラス上に、ジルコニウムオキサイド(ZrO_2)とシリカ(SiO_2)を交互に繰り返し蒸着した多重層構造で得られ、その上面は光変色有機化合物を含有した高分子物質でコーティングされる。例文帳に追加

The mirror consists in a multi-layer structure formed so that zirconium oxide (ZrO_2) and silica (SiO_2) are repetitively evaporated alternately on the glass having a high ultraviolet transmittance, and its oversurface is coated with a high-polymer substance containing the photochromic organic compound. - 特許庁


例文

半導体素子が、ガラス転移温度が120℃以上で、全光線透過率が厚さ3mmで90%以上である熱可塑性樹脂で封止され、さらにその封止樹脂表面が紫外線硬化性樹脂で被膜されてなることを特徴とする半導体装置。例文帳に追加

A semiconductor element is sealed with a thermoplastic resin whose glass transition temperature is 120°C or higher, and full light transmittance is 90% or more for the thickness of 3 mm, and the surface of the sealing resin is coated with ultraviolet curing resin. - 特許庁

紫外線を放射する蛍光ランプにおいて、発光管に石英ガラスを備えることで紫外光の透過率が高くて効率のよい蛍光ランプを得るとともに、蛍光体の剥離、落下などの問題がない、信頼性の高い蛍光ランプを提供すること。例文帳に追加

To provide a fluorescent lamp emitting ultraviolet light which has quartz glass in the arc tube with the high transmittance of ultraviolet light and high efficiency, and has no problem such as the separation and fall-off of a phosphor, and has high reliability. - 特許庁

各種光学材料、半導体製造用部材、液晶製造用部材に利用可能な、紫外線、可視光線、赤外線の透過率が高く、高純度で耐熱性の高く、Cuイオンの拡散速度の遅い石英ガラスを安価に提供する。例文帳に追加

To inexpensively provide quartz glass usable for various kinds of optical material, a member for manufacturing a semiconductor and a member for manufacturing a liquid crystal and having high transmittance to ultraviolet light, visible light and infrared light, high purity and high heat resistance and the low diffusion rate of Cu ion. - 特許庁

屈折率(nd)が1.70を超え1.81まで、アッベ数(νd)が48を超え55までの範囲の光学定数を有し、赤外域においても優れた光線透過性を示し、紫外線等の照射の際に発生する蛍光の強度が小さい低蛍光性光学ガラスを提供する。例文帳に追加

To provide a low fluorescent optical glass having optical constant ranging in refractive index (nd) of 1.70< and ≤1.81 and in Abbe's number (νd) of 48< and ≤ 55 and exhibiting excellent light transmissiveness in an infrared region and low in strength of fluorescence generated when an ultraviolet-ray or the like is radiated. - 特許庁

例文

基板処理装置を構成するに際し、紫外線照射ランプ5を処理室4から区分する石英ガラス板2の表面に、紫外光照射処理に伴ってレジストパターン11から発生した炭素系物質の光分解を触媒する紫外光透過性の光触媒層16を形成する。例文帳に追加

In the substrate processing apparatus, a photo-catalytic layer 16, which is transparent for ultra-violet and catalyzes photo-degradation of the carbon-based material produced from a resist pattern 11 due to ultra-violet processing, is formed on a surface of a quartz-glass plate 2 dividing an ultra-violet radiation lamp 5 from the processing chamber 4. - 特許庁

例文

通常の露光時にパターン原板15をセットするための原板ホルダ16に、自己洗浄時には、石英ガラス板の中央部に凹レンズ状の凹部22が形成された透過板20をセットし、光源11から紫外線を照射する。例文帳に追加

At the time of self-cleaning, a transparent board 20 on which a recess 22 in a concave lens form is formed at a center part of a silica glass board is set at a plate holder 16 for setting a pattern plate 15 at the time of regular exposure, and ultraviolet rays are irradiated from an optical source 11. - 特許庁

エネルギ密度が1ショットあたり100mJ/cm^2以上の紫外光パルスレーザを10^6ショット照射した後の紫外光透過率低下が0.1%/cm以下であり、かつ紫外光域の屈折率の場所による変動が10^-7以内の、密度が2.201〜2.205g/cm^3で、OH基が重量比にて50ppm以下である紫外線用石英ガラス例文帳に追加

This quartz glass has ≤0.1% ultraviolet light transmitting rate reduction after irradiating 106 shot of ultraviolet light pulse laser having100 ml/cm2 per 1 shot energy density, within 10-7 change of the positional change of the refractive index for the ultraviolet light, 2.201-2.205 g/cm3 density and ≤50 ppm OH group in weight ratio. - 特許庁

不純物の含有や泡の発生を低減せしめ、構造欠陥が少なく、高い透過率を保持して紫外光線領域の高出力レーザ光を利用する光学装置などに好適な耐紫外線特性を有する石英ガラスの製造方法を得る。例文帳に追加

To obtain a method of manufacturing quartz glass in which the inclusion of impurities or the generation of bubbles is reduced and the formation of defects in the structure is suppressed, and which has high transmittance and ultraviolet ray resistant property suitable for an optical device utilizing high power laser light in the ultraviolet ray region. - 特許庁

高い紫外線および赤外線カット性を併せ持ち、環境に有害なMnO_2の含有が無く、Seの含有が少ない建築窓用および車両窓用濃色ブロンズガラス、特に、自動車の後部窓ガラスとして、プライバシー保護用に好適な可視光光透過率を有する濃色ブロンズガラスを提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide deep bronze glass which has high ultraviolet ray- and infrared ray-cutting properties, does not contain environmentally harmful MnO_2 and contains little amount of Se, and is used for building windows and automotive windows; especially, deep bronze glass having a visible ray transmittance suitable for automotive rear window glass for privacy protection. - 特許庁

高純度の合成石英ガラスを均質化処理工程、成型工程及び除歪処理工程を経て合成石英ガラス部材に形成した後、波長260nm以下の連続紫外線を50時間以上照射し波長193.4nmに対する内部透過率を99.8%以上とすることを特徴とするArFエキシマレーザーリソグラフィー用合成石英ガラス部材の製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing the synthetic quartz glass member for ArF excimer laser lithography is carried out by forming high purity synthetic quartz glass into a synthetic quartz glass member through a homogenizing step, a molding step and a distortion-removing step and irradiating with continuous ultraviolet ray having ≤260 nm wavelength for ≥50 hr to make the internal transmittance to the 193.4 nm wavelength ≥99.8%. - 特許庁

波長350〜800nmでの可視光線の平均透過率が80%以上、波長295〜350nmでの紫外線の平均透過率が80%以上、軟化点が−20〜400℃、さらにガラス状物質の一部又はすべてに不規則網目構造を有し、着色材料又は蛍光性材料が混入されている特徴を有す。例文帳に追加

The material is characterized in that the average transmittance to visible light at wavelength between 350 and 800 nm is 80% or more, the average transmittance to ultraviolet ray at wavelength between 295 and 350 nm is 80% or more, softening point ranges from -20°C to 400°C, part of or the whole glassy material has an irregular network structure, and a coloring material or a fluorescence material is mixed therein. - 特許庁

長寿命な水銀蒸気放電蛍光ランプは、光透過ガラスエンベロープ、放電発生手段、ガラスエンベロープの内面に隣接して被覆されたアルミナを含む紫外線反射性バリア層、バリア層に隣接して被覆された蛍光体層、およびエンベロープ内に封入された水銀蒸気およびアルゴンからなる放電支持性封入ガスを備える。例文帳に追加

The mercury vapor discharge fluorescent lamp with long operation life is equipped with a light transmitting glass envelope, a discharge generating means, an ultraviolet ray reflective barrier layer containing alumina coated adjacent to the inner surface of the glass envelope, a phosphor layer coated adjacent to the barrier layer and with discharge-sustaining enclosed gas composed of mercury vapor and argon enclosed in the envelope. - 特許庁

紫外線吸収性に優れた粘着剤層を形成するための粘着剤組成物であって、この粘着剤組成物から得られた粘着剤層が透明な二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に積層された粘着テープを作成したとき、この粘着テープのガラスに対する180゜粘着力が4N/25mm以上であり、かつ、波長380nmにおける透過率が10%以下であることを特徴とする紫外線吸収性粘着剤組成物である。例文帳に追加

The adhesive composition for forming the adhesive layer having excellent ultraviolet absorption provides an adhesive tape having ≥4 N/25 mm 180° adhesive force and ≤10% transmittance of light having 380 nm wavelength when the adhesive tape is obtained by laminating the adhesive layer obtained from the adhesive composition on one surface of a transparent bi-axially oriented polyethylene terephthalate film. - 特許庁

電鋳型1は、紫外線透過するガラス基板2とその一表面上に形成された透明導電膜3と遮光性を有する金属層4と型の外形形状となる硬化した厚膜フォトレジスト5から構成されており、電鋳時に透明導電膜3と金属層4により導通がとれるようになっている例文帳に追加

The electroforming mold 1 comprises: a glass substrate 2 that transmits ultraviolet rays; a transparent conductive film 3 formed on one surface of the glass substrate; a metal layer 4 having light-shielding property; and a cured thick film photoresist 5 assuming an external shape, whereby the electric conduction is applied by the transparent conductive film 3 and the metal layer 4 upon the electroforming. - 特許庁

電鋳型1は、紫外線透過するガラス基板2とその一表面上に形成された透明導電膜3、貫通孔6の底部に形成された金属膜4と傾斜部を有する硬化した厚膜フォトレジスト5から構成されており、電鋳時に透明導電膜3により導通がとれるようになっている例文帳に追加

The electroforming mold 1 is composed of a glass substrate 2 that transmits ultraviolet rays, a transparent conductive film 3 formed on one surface of the glass substrate, a metallic film 4 formed on the bottom part of a through-hole 6 and a cured thick film photoresist 5 having an inclination part, wherein electroconduction is provided by means of the transparent conductive film 3 upon electroforming. - 特許庁

本発明におけるシャドウマスク用ハードマスクは、紫外線透過性の青板ガラス11上のシャドウマスク開孔部に相当する部分が突出したパターンとなり、この突出パターンは遮光性のNi−P層となっており、その上層には粒3〜5μmのシリコーン粒子14a を含有するゼラチン層14b が設けられた構造となっている。例文帳に追加

This hard mask for a shadow mask is so constructed that a pattern is formed on an ultraviolet-transmissive blue plate glass 11 so as to project in portions corresponding to opening parts of a shadow mask, that the projecting pattern is a light-screening Ni-P layer, and that a gelatin layer 14b containing silicone particles 14a having a grain size of 3 to 5 μm is provided thereon. - 特許庁

光ファイバを挟みつける整列基板5と固定基板7の少なくとも一方がガラスで出来ている光ファイバアレイ1A、1Bと、光学素子2とを、光学的に接続し、接続された光ファイバアレイ1A、1B及び光学素子2の外周に紫外線透過を妨げる材料による被覆8を設けた。例文帳に追加

This optical module is provided with optical fiber arrays 1A, 1B that at least one side between an arrangement substrate 5 and a fixed substrate 7 holding an optical fiber between them is made of glass and an optical element 2 are optically connected to each other, and a coating 8 by material preventing the transmission of the ultraviolet rays on the outer periphery of the optical element 2. - 特許庁

植物栽培室3は、日照時間の調整機能手段5としての光偏光器内蔵ガラス5a等の光透過可変機能を有する部材と、紫外線ランプ6や各種センサ7及びそれらの配線、更には水分補給のための通水管125等を設置又は引回すための仕切壁8とにより外部と仕切られている。例文帳に追加

The vegetable culture chamber 3 is separated from the outer environment by a member having a variable light transmission function such as a glass 5a containing a light polarizer as a means 5 for controlling the sunshine duration and a partition wall 8 for holding or laying an ultraviolet lamp 6, various sensors 7, their distribution cables, water pipe 125 for water supply, etc. - 特許庁

OH基含有量が20ppm以下、H_2分子の含有量が1×10^17個/cm^3以下、Cl含有量が10ppm以下及び金属不純物含有量の総和が1ppm以下に制御した合成石英ガラスは、紫外線吸収性及び可視光透過性に優れかつ、耐失透性及び耐熱性に優れている。例文帳に追加

The synthetic quartz glass controlled so as to have an OH group content of at most 20 ppm, an H_2 molecule content of at most10^17 molecules/cm^3, a Cl content of at most 10 ppm, and a total metal impurity content of at most 1 ppm is excellent in ultraviolet absorptivity and visible light transmittance and excellent in devitrification resistance and heat resistance. - 特許庁

例文

光信号を導波する光路の途中に、当該光路に沿ってブラッグ回折格子が形成され、その格子の回折による透過ピークあるいは反射ピークを利用する回折格子型光機能素子であって、平面基板上の高屈折率ガラス材料層に対する紫外線照射と、510〜850℃で10分〜24時間の熱処理により回折格子を形成する。例文帳に追加

The diffraction grating type optical function element has a Bragg diffraction grating formed halfway in an optical path guiding a light signal along the optical path and uses the transmission peak or reflection peak by the diffraction of the grating, and the diffraction grating is formed by irradiating a high-refractive-index glass material layer on a plane substrate with ultraviolet rays and performing a heat treatment at 510 to 850°C for 10 minutes to 24 hours. - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS