「臭素添加」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

冷却水系の防食のために使用されるホスホン酸やアゾール化合物が、スライムコントロール剤として水系に添加される次亜臭素酸塩などにより酸化分解され、性能が低下することを、効果的に防止することができる冷却水系の水処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a water treatment method for a cooling water system capable of effectively preventing such a phenomenon that phosphonic acid or an azole compound used for preventing the corrosion of the cooling water system is oxidatively decomposed by hydrobromide or the like, which is added to an aqueous system as a slime control agent, to be lowered in its capacity. - 特許庁

次亜塩素酸またはその塩を含有する水溶液と臭化塩を含有する水溶液とを予め混合して得られる遊離臭素濃度として６０，０００〜７０，０００ｍｇ／リットルの次亜臭素酸またはその塩を含有する水溶液を、連続的または間欠的に用廃水系に添加して、当該水系の微生物による汚染を防除することを特徴とする用廃水系の汚染防除方法により、上記の課題を解決する。例文帳に追加

A contamination preventing method for preventing the industrial/waste water system from being contaminated comprises the step of continuously or intermittently adding to the system an aqueous solution containing hypochlorous acid or its salt having a concentration of 60,000-70,000 mg/liter of free bromine prepared by mixing an aqueous solution containing hypochlorous acid or its salt and an aqueous solution containing bromide beforehand. - 特許庁

塩素ガス、臭素ガス及びヨウ素ガスからなる群より選ばれる一種以上のハロゲンガスを含有するガスを炭酸水素塩の粉体又は粒体に接触させて前記ハロゲンガスを除去する方法において、塩化水素、フッ化水素、臭化水素及びヨウ化水素からなる群より選ばれる一種以上の酸性ガスを、前記ハロゲンガスに対して１〜１００体積％添加する。例文帳に追加

The method comprises the step of bringing a gas containing a halogen gas selected from the group consisting of chlorine gas, bromine gas, and iodine gas into contact with a powder or a granule of a hydrogen carbonate to remove the halogen gas, and in the method, adding one or more acidic gases selected from hydrogen chloride, hydrogen fluoride, hydrogen bromide, and hydrogen iodide in 1-100% by volume to the halogen gas. - 特許庁

スチレン系単量体１００重量部に対し，有機臭素化合物０．４〜６重量部及び脂肪族カルボン酸金属塩０．０００１〜０．１重量部の存在下で上記スチレン系単量体を懸濁重合させ，重合中または重合工程完了後に発泡剤を１〜２０重量部添加することを特徴とするスチレン系発泡性樹脂粒子の製造方法である。例文帳に追加

In this method, 100 pts.wt. styrene monomer is suspension polymerized in the presence of 0.4-6 pts.wt. organic bromine compound and 0.0001-0.1 pt.wt. aliphatic carboxylic acid provided 1-20 pts.wt. blowing agent is added to the polymerization system during or after the polymerization. - 特許庁

コバルト／マンガン／臭素触媒の存在下で酢酸を溶媒として用いる液相反応系で、アルキル芳香族化合物およびその部分酸化中間体を酸素含有気体で酸化させて芳香族カルボン酸を製造する方法において、ニッケル金属と二酸化炭素を添加することを特徴とする芳香族カルボン酸の製造方法。例文帳に追加

This method for producing an aromatic carboxylic acid is characterized by adding nickel metal and carbon dioxide to the reaction system in the method for producing the aromatic carboxylic acid by oxidizing the alkylaromatic acid and partially oxidized intermediate with an oxide-containing gas in a liquid phase reaction system using acetic acid in the presence of cobalt/ manganese/boron catalyst. - 特許庁

画像形成装置に用いられる無端ベルト状の導電性エンドレスベルトにおいて、熱可塑性ポリエステル樹脂を主成分として含み、臭素系難燃剤および四酸化アンチモンを添加してなり、前記四酸化アンチモンの平均粒径が２μｍ以下であり、かつ、最大粒径が５μｍ以下であることを特徴とする導電性エンドレスベルトである。例文帳に追加

There is provided the electroconductive endless belt of endless belt shape used in an image forming apparatus, wherein a thermoplastic polyester resin is contained as a principal component and a bromine-based flame retardant and antimony tetroxide are added, wherein the antimony tetroxide has an average particle size of ≤2 μm and a maximum particle size of ≤5 μm. - 特許庁

酸化剤として、過酸化水、有機過酸化物、有機次亜塩素酸化合物及び有機次亜臭素酸化合物からなる群の中から選択される少なくとも一種の酸化剤を、前記有機硫黄化合物中の硫黄原子の酸化に必要な化学量論量以上添加し、酸化触媒を用いて、酸化反応を行ない、さらにその酸化硫黄化合物を吸着等により除去することを特徴とする。例文帳に追加

As the oxidant, at least one kind of oxidant selected from among peroxide water, organic peroxide, organic hypochlorite compound and organic hypobromite compound is added to the liquid by stoichiometric quantity or more necessary for oxidation of sulfur atom in the organic sulfur compound, the oxidation reaction is performed by using the oxidation catalyst and, further, the oxidized sulfur compound is removed by adsorption etc. - 特許庁

流体用流れ促進剤（例えば、次式の成分を含む界面活性剤 （式中、Ｒ１はオレイル基で、Ｒ２はメチル基で、Ｘは２の整数で、Ｙは２の整数で、Ａは塩素又は臭素を表わす。））にモリブデン酸塩又は亜硝酸塩を含有する防錆剤を添加混合してなることを特徴とする冷温水用腐食抑制性流れ促進剤。例文帳に追加

The corrosion-resistant flow accelerator for cold and hot water is prepared by adding an anticorrosive containing a molybdate or a nitrite to a flow accelerator for fluids [e.g. a surfactant containing a component of formula I R1 is an oleyl group; R2 is a methyl group; X is an integer of 2; Y is an integer of 2; and A is chlorine or bromine)] and mixing these. - 特許庁

難燃性増強剤（ｂ）としてハロゲン不含芳香族リン酸エステルまたはホスファゼン化合物を使用し、臭素化ビスフェノール化合物のビス（２，３−ジブロモプロピル）エーテル、リン酸、シアヌル酸またはイソシアヌル酸のハロゲン化アルキルエステルよりなる含ハロゲン有機化合物（ａ）と組合わせた配合難燃剤をスチレン系樹脂に添加する。例文帳に追加

The flame-retardant styrenic resin composition is obtained by adding a blended flame retardant obtained by combining a halogen-free aromatic phosphate or phosphazene compound used as the flame-retardant enhancing agent (b) with a halogen-containing organic compound (a) comprising bis(2,3-dibromopropyl) ether of brominated bisphenol compound, phosphoric acid and a halogenated alkyl ester of cyanuric acid or isocyanuric acid to a styrene-based resin. - 特許庁

この発明は、塩素要求量が高い用廃水系において、銅系金属や鉄系金属等の腐食因子を極力系中に添加することなく、塩素要求量により消費される次亜臭素酸を最小限とし、微生物に起因する障害を効率的に防止する用廃水系の水処理方法を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a water treatment method for a waste water system of high chlorine demand which minimizes hypobromous acid consumed by chlorine demand without adding corrosion factors such as copper-based metal and iron-based metal into the system to efficiently prevent a trouble caused by microorganisms. - 特許庁

本発明は、加工時や燃焼時に臭素系や塩素系の毒性ガスを発生することがなく、人体に対する安全性が確保され、しかも取扱いが簡便で、シートや成形体等に塗布し乾燥させるだけで難燃化することができ、ポリオ−ルとイソシアネート等の混合物に添加するだけでポリウレタン発泡体を難燃化することができる水性難燃剤を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an aqueous flame retarder, that assures safety to human body without generating a bromine- or chlorine-based toxic gas at the time of processing or burning, moreover is easy to handle, and can be used to make a sheet or molded article flame resistible by simply applying and drying, or to make a polyurethane foam flame resistible by simply adding to a mixture of a polyol and an isocyanate. - 特許庁

本発明にかかる半導体装置の製造方法は、塩化ニトロシル、塩化ニトロイルまたは臭化ニトロシルのいずれかをエッチングガスとして用いたうえで、あるいはまた、一酸化窒素、一酸化二窒素、二酸化窒素、三酸化窒素、三酸化二窒素、四酸化二窒素、五酸化二窒素またはフッ化ニトロシルのいずれかを添加含有させてなる塩素系または臭素系のエッチングガスを用いたうえでポリシリコンまたはシリコンをエッチングすることを特徴としている。例文帳に追加

The manufacturing method of a semiconductor device is to etch a polysilicon or silicon using either one out of nitrosyl chloride, nitrile chloride or nitrosyl bromide or using chlorine or bromic base etching gas additionally containing either one out of nitrogen oxide, dinitrogen oxide, nitrogen dioxide, nitrogen trioxide, dinitrogen trioxide, dinitrogen tetroxide, dinitrogen pentoxide. - 特許庁