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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 走査透過電顕に関連した英語例文

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走査透過電顕の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 82



例文

走査透過微鏡を用いて簡易に歪の分布解析を行う結晶材料の格子歪評価方法、評価システムを提供する。例文帳に追加

To provide a lattice strain evaluation method of a crystal material for easily performing strain distribution analysis by using a scanning transmission electron microscope, and an evaluation system. - 特許庁

5次球面収差C5の補正を簡単かつ高精度に行う機能を備えた走査透過微鏡、及び収差補正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a scanning transmission electron microscope including a function capable of correcting easily and highly precisely a quintic spherical aberration C5, and an aberration correction method. - 特許庁

エネルギーアナライザを備える走査透過型の微鏡であって、アニュラ検出器を備えるものを提供する。例文帳に追加

To provide a scanning transmission electron microscope comprising an energy analyzer, which is provided with an annular detector. - 特許庁

本発明は環状暗視野走査像検出器に対する散乱子ビームの入射軸調整方法及び走査透過微鏡に関し、環状暗視野走査像検出器に対する散乱子ビームの入射軸合わせ容易に行うようにすることを目的としている。例文帳に追加

To easily carry out incident axis adjusting method of a scattered electron beam against an annular dark field scanning image detector regarding an incident axis adjusting method of a scattered electron beam against an annular dark field scanning image detector and a scanning transmission electron microscope. - 特許庁

例文

絶縁物等の試料表面上のチャージアップを有効に中和させることができる走査微鏡、透過微鏡等の微鏡を実現する。例文帳に追加

To provide an electron microscope such as a scanning electron microscope and a transmission type electron microscope capable of effectively neutralizing charge-up on a sample surface such as an insulator. - 特許庁


例文

走査型又は透過微鏡、オージェ子分光装置等の表面分析装置、子線露光機、特に、子ビームの加速圧が1kV以下の低加速で用いられる走査微鏡、CD SEM、DRSEM等の半導体ウェハ検査装置に用いられる子源を提供する。例文帳に追加

To provide an electron source which is used for a semiconductor wafer inspection device such as a scanning or transmission electron microscope, a surface analyzer like an Auger electron spectroscopic analyzer, an electron beam exposure apparatus, especially a scanning electron microscope using an electron beam accelerated with low voltage of 1 kV or less, a CD SEM, or a DRSEM. - 特許庁

試料を傾斜させて得られた透過像から3次元像を構築する透過型および走査透過微鏡において、試料の厚さの変化情報を維持したまま、取得した画像の明るさ補正を行い、画像の明るさに含まれる情報の劣化の少ないトモグラフィ像を取得する。例文帳に追加

To enable achievement of a tomographic image having little deteriorated image contained in brightness of an achieved image by correcting the brightness of the image with keeping variation information of the thickness of a sample in a transmission type and scan transmission type electron microscope for constructing a three-dimensional image from a transmission image achieved by inclining the sample. - 特許庁

リソグラフィ装置、走査微鏡(SEM)、透過微鏡(TEM)などの子ビーム利用装置のための熱陰極の寿命を延ばすとともに子光学的性能を改善する。例文帳に追加

To elongate life of and improve electrooptic performance of a thermionic cathode for a device using electron beams such as a lithography device, a scanning electron microscope (SEM), and a transmission electron microscope (TEM). - 特許庁

透過微鏡や走査微鏡などにおける試料観察を短時間に行える試料作製方法および試料作製装置、ならびにその作製された試料を短時間に観察できる試料観察装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sample preparation method and a sample preparation device, capable of performing sample observation in a short time in a transmission electron microscope, a scanning electron microscope or the like, and a sample observation device capable of observing the prepared sample in a short time. - 特許庁

例文

走査透過型の微鏡に子線エネルギー分析装置(エネルギーフィルタ)11を備え、子線エネルギー損失スペクトルや元素分布像を観察する。例文帳に追加

An electron beam energy analyzer (energy filter) 11 is installed to a scanning transmission type electron microscope to observe an electron beam energy loss spectrum and an element distribution image. - 特許庁

例文

このように、本発明の微鏡においては、視野探しの時に子線を走査させて透過子像を得ており、視野探しから撮影にかけて集束レンズの励磁状態は変化しない。例文帳に追加

In this way, since a transmission electron image is obtained by the electron beam scanning at searching for the visual field as for this invention of the electron microscope, the magnetized state remains unchanged from searching for the visual field up to the photographing time. - 特許庁

インレンズ形対物レンズを有する高分解能走査微鏡において、散乱角の大きな透過子を検出できるようにし、試料や目的に応じた高コントラストのSTEM像を観察する。例文帳に追加

To enable to detect a transmitted electron with a large scattering angle and to observe an STEM image of a high contrast according to a testpiece and a purpose, in a high-resolution scanning electron microscope having an in-lens type objective lens. - 特許庁

光学微鏡で観測した平均繊維長(L1)が10μm以上40μm以下であって、透過微鏡によるフィラー端面観察においてグラフェンシートが閉じており、走査微鏡での観察表面が実質的に平坦であるピッチ系炭素短繊維フィラー。例文帳に追加

The pitch-based carbon short fiber filler has >10 to40 μm average fiber diameter (L1) observed under an optical microscope, a closed graphene sheet in observation of a filler end face under a transmission type electron microscope, and a substantially flat surface observed under a scanning electron microscope. - 特許庁

光学微鏡で観測した平均繊維長(L1)が40μm以上80μm未満であって、透過微鏡によるフィラー端面観察においてグラフェンシートが閉じており、走査微鏡での観察表面が実質的に平坦であるピッチ系炭素短繊維フィラー。例文帳に追加

The pitch-based carbon short fiber filler has a mean fiber length (L1) of 40 μm or more but less than 80 μm observed with an optical microscope, a closed graphene sheet by filler end face observation with a transmission electron microscope, and a substantially flat surface observed with a scanning electron microscope. - 特許庁

高導性および高光透過性を有するとともに、高いプラズモン発光効率を得ることのできる、新しい走査型トンネル微鏡用探針およびその作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a new probe for a scanning tunneling microscope and a method of fabrication having high conductivity and high optical transmission, and capable of obtaining high plasmon luminous efficiency. - 特許庁

デフォーカス及び非点収差を観察中に補正可能で、且つ原子分解能が得られる走査透過微鏡の収差補正装置及び収差補正方法を提供する。例文帳に追加

To provide an aberration correction device of a scanning transmission electron microscope, which can correct defocus and astigmatism during observation and can obtain atomic resolution; and to provide an aberration correction method thereof. - 特許庁

共焦点走査透過微鏡装置及び3次元断層像観察方法に関し、薄層状試料における異なった深さにおける原子配列を一画像で観察可能にする。例文帳に追加

To provide a confocal scanning transmission type electron microscope device and a three-dimensional tomographic observation method such that atom arrays of a thin-layer sample at different depths are observed through one image. - 特許庁

試料が傾斜した状態で、共焦点暗視野STEM像、3次元断層像を得られる試料ホルダおよび走査透過微鏡を提供することを提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a sample holder capable of obtaining a confocal dark field STEM image and a three-dimensional tomogram, and to provide a scanning transmission electron microscope. - 特許庁

半導体デバイスの多層構造の検査に用いて好適であり、取り扱いが容易な走査透過微鏡用薄膜試料作製方法および薄膜試料の観察方法を実現する。例文帳に追加

To realize a method of manufacturing a membrane sample for a scanning transmission electron microscope which is suitable for being used in the inspection of a multilayer structure in a semiconductor device and which is handled easily, and to realize an observation method for the membrane sam ple. - 特許庁

走査型又は透過微鏡、オージェ子分光装置等の表面分析装置、子線露光機、特に、子ビームの加速圧が1kV以下の低加速で用いられる走査微鏡、CD SEM、DRSEM等の半導体ウェハ検査装置に用いられる子源を提供する。例文帳に追加

To provide an electron source used for a scanning or transmission electron microscope, a surface analyzer such as an Auger electron spectroscope, an electron beam exposure machine, in particular, a scanning electron microscope used at low acceleration where an acceleration voltage of an electron beam is not higer than 1kV, or a semiconductor wafer inspection device such as a CD SEM or a DRSEM. - 特許庁

透過微鏡によるフィラー端面観察においてグラフェンシートが閉じており、走査微鏡での観察表面が実質的に平坦であるピッチ系炭素短繊維フィラーであり、個数平均繊維長が80μm以上500μm以下であることをピッチ系炭素短繊維フィラー。例文帳に追加

In the pitch-based carbon short fiber filler, a graphene sheet is closed at a filler end face when observed by a transmission electron microscope, while a surface observed by a scanning electron microscope is substantially flat, and the number average fiber length is 80 to 500 μm. - 特許庁

更に、半導体デバイスの特定箇所の断面を走査微鏡で観察した後、同一観察断面を透過微鏡で観察すべく作製される観察試料において、前記観察断面上に非晶質構造の保護膜を有することを特徴とする。例文帳に追加

Furthermore, after the cross section of the specific place of the semiconductor device is observed by the scanning microscope, the protective film of the amorphous structure is provided on the observation cross section in an observation sample formed in order to observe the same observation cross section by the transmission electron microscope. - 特許庁

界放射型子銃と、界放射型子銃から放射された子線を試料に収束する収束手段と、試料を照射する収束子線を走査する偏向手段と、試料像を投影する投影手段と、試料厚さ測定手段とを備える走査透過微鏡観察装置を用いて観察を行う。例文帳に追加

The observation is performed by a scanning transmission electron microscope observation equipment equipped with a field emission electron gun, a convergence means to converge an electron ray emitted from the field emission electron gun onto a sample, a deflecting means to scan a convergence electron ray irradiating the sample, a projecting means to project a sample image, and a measuring means for a sample thickness. - 特許庁

子銃窓35に加速子を透過し大気に耐える金属膜、炭素膜、ダイヤモンド膜、ダイヤモンドライクカーボン膜を設け、密封容器33内が真空に保たれる子銃2を備える走査微鏡装置1とする。例文帳に追加

The scanning electron microscope 1 is provided with an electron gun 2 in which a metal film, a carbon film, a diamond film, and a diamond-like carbon film which transmit accelerating electrons and can endure the atmosphere are provided at the electron gun window 35, and a sealed container 33 is maintained in vacuum. - 特許庁

散乱子線検出器の取り込み角度範囲の設定と独立にエネルギー分光器の取りこみ角度範囲が設定でき、散乱子線検出器の取り込み角度範囲の変化に対してエネルギー分光器の条件を変更する必要がない走査透過微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a scanning transmission electron microscope capable of independently setting capturing angle ranges of a scattered electron beam detector and an energy spectrometer, and not requiring to change a condition of the energy spectrometer for the change of the capturing angle range of the scattered electron beam detector. - 特許庁

これにより、微鏡の対物レンズ内で試料ホルダ21を支持することができ、該開口20bを通過した子線が試料ホルダ21内の試料9に到達し、これにより試料9から発生する走査透過子の信号を検出できる。例文帳に追加

Thereby, the sample holder 21 can be supported in an objective lens of the electron microscope, the electron beam having passed through the opening 20b can reach the sample 9 in the sample holder 21, and thereby signals of scanning transmission electrons generated from the sample 9 can be detected. - 特許庁

微鏡用試料ホルダ20においては、走査微鏡の試料台に本体部21が取り付けられた状態で、グリッド28によって支持された試料Sを透過し且つ絞り部材31を通過した子線が2次子発生面32に照射され、それにより、2次子発生面32から2次子が発生させられる。例文帳に追加

On a sample holder 20 for an electron microscope, the electron beam that transmits through a sample S supported by a grid 28 and passes through an aperture member 31 with a main body portion 21 attached to a sample stand of a scanning electron microscope is irradiated on a secondary electron generating surface 32, resulting in a secondary electron being generated from the secondary electron generating surface 32. - 特許庁

走査透過微鏡12を用い、収束した子線を試料に入射させ、試料についての収束子回折像を取得するステップと、取得された収束子回折像に基づいて、試料における格子歪み量を算出するステップと、算出された格子歪み量を、試料の微鏡像に対応させて表示するステップとを有している。例文帳に追加

This method has a step for allowing focused electron beams to enter a sample and acquiring a convergent electron diffraction image on the sample by using a scanning transmission electron microscope 12, a step for calculating the lattice strain quantity in the sample based on the acquired convergent electron diffraction image, and a step for displaying the calculated lattice strain quantity corresponding to an electron microscope image of the sample. - 特許庁

該分析方法は、透過微鏡、走査微鏡、子プローブマイクロアナリシス、オージエ子分光、2次イオン質量分析、アトムプローブ、赤外分光、レーザーラマン分光、誘導結合プラズマ、液体クロマトグラフ、ガスクロマトグラフからなる群より選択される少なくとも一つの方法である。例文帳に追加

The analysis method is at least one method selected from the group consisting of transmission electron microscope, scanning electron microscope, electron probe microanalysis, Auger electron spectroscopy, atom probe, infrared spectroscopy, laser Raman spectroscopy, inductive coupled plasma spectroscopy, liquid chromatography, and gas chromatography. - 特許庁

走査透過微鏡に依る観察方法及び観察装置に関し、STEMに於ける焦点ずれ量の最適化や虚像の消去を可能にする計算手段を実現し、そして、計算像を得る為の時間を大幅に短縮して微鏡像を観察直後に計算像と比較して条件をフィードバックできるようにする。例文帳に追加

To realize a computing means which can optimize an amount of focal gap in STEM and which can erase a virtual image and receive a feedback of a condition by substantially shortening the period of time to obtain a computed image and by comparing an image of an electron microscope to the computed image right after observation in an observation method and an observation equipment by a scanning transmission electron microscope. - 特許庁

また、半導体デバイスの断面を観察する観察方法において、前記半導体デバイスの特定箇所の断面を走査微鏡で観察する工程と;前記断面に非晶質構造の保護膜を形成し、当該保護膜を透して透過微鏡によって前記断面を更に観察する工程とを含むことを特徴とする。例文帳に追加

Further, the observation method for observing the cross section of the semiconductor device includes a process for observing the cross section of the specific place of the semiconductor device by a scanning microscope and a process for forming the protective film of an amorphous structure to the cross section and further observing the cross section by the transmission type electron microscope through the protective film. - 特許庁

例文

走査透過微鏡像をデジタル化しコンピュータに取り込み、デジタル2次元フーリエ変換をすることによって回折パターンを形成し、回折パターン中の一又は複数の回折スポット位置を求め、理想的な結晶構造の場合の回折点の位置と比較することで、結晶格子の歪みを検出する。例文帳に追加

Scanning transmission type electronography is digitalized to be taken in a computer and subjected to digital two-dimensional Fourier transform to form a diffraction pattern and one or a plurality of diffraction spot positions in the diffraction pattern are calculated to be compared with the position of a diffraction point in the case of an ideal crystal structure to detect the strain of a crystal lattice. - 特許庁

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