「酸アジド」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

(A) 特定一般式の繰返し単位を含むポリアミド(100重量部) 、および(B) 特定一般式で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-4- スルフォン酸エステルおよび/ または1,2-ナフトキノンジアジド-5- スルフォン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤 (1 〜50重量部) よりなる感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition comprises (A) 100 pts.wt. polyamide containing repeating units of a specified formula and (B) 1-50 pts.wt. quinonediazido sensitizer containing 1,2-naphthoquinonediazido-4-sulfonic ester and/or 1,2-naphthoquinonediazido-5-sulfonic ester of a polyhydroxy compound of a specified formula. - 特許庁

α位炭素原子に置換基を有してもよいアクリル酸又はその酸無水物と、アジド化合物とを反応させるアクリロイルアジド類の製造方法。例文帳に追加

The method for producing the acryloyl azide is to react the acrylic acid which may have a substituent on the α-carbon atom or its acid anhydride with an azide compound. - 特許庁

１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スルホン酸塩を容易且つ低コストで製造できる１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−６−スルホン酸塩の製造方法及び選択的分離方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a 1,2-naphthoquinone-2-diazide-6- sulfonate, by which the 1,2-naphthoquinone-2-diazide-6-sulfonate can easily produced at a low cost, and to provide a method for selectively separating the 1,2-naphthoquinone-2-diazide-6-sulfonate. - 特許庁

キノンジアジド基を有する感光剤として１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルフォニル化合物を用いれば、この化合物は酸発生剤としても機能するため、上記（ｃ）成分を省略することができる。例文帳に追加

When a 1, 2-naphthoquinone diazide-4-sulfonyl compound is used as the photosensitive agent having a quinone diazide group, this compound also functions as an acid generating agent and thereby, the component (c) can be omitted. - 特許庁

下記のようなフェノール化合物の少なくとも１種のキノンジアジドスルホン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤、及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition contains a quinonediazido photosensitive agent including at least one quinonediazido sulfonate of a phenolic compound like a formula (5) and an alkaline soluble resin. - 特許庁

4-トランス置換-シクロヘキサンカルボン酸誘導体のカルボキシル基をアジドリン酸ジフェニルと反応させ、4-トランス置換-シクロヘキサンカルボン酸アジドを得、得られた4-トランス置換-シクロヘキサンカルボン酸アジドを、4-トランス置換-シクロヘキシルイソシアナートに変換し、得られた4-トランス置換-シクロヘキシルイソシアナートをアルコールと反応させ、4-トランス置換-シクロヘキシルアミン誘導体を製造する方法。例文帳に追加

In the method, a carboxyl group in a 4-trans-substituted-cyclohexanecarboxylic acid derivative is reacted with diphenyl azidophosphate to obtain 4-trans-substituted-cyclohexanecarboxylic azide which is subsequently converted to 4-trans-substituted-cyclohexyl isocyanate which is subsequently reacted with an alcohol to prepare the 4-trans-substituted-cyclohexylamine derivative. - 特許庁

感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］フェノール性水酸基および／またはカルボキシル基を含有する重合体と、［Ｂ］１，２−キノンジアジド−６−スルホン酸エステル化合物、１，２−キノンジアジド−７−スルホン酸エステル化合物、および１，２−キノンジアジド−８−スルホン酸エステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を含有する。例文帳に追加

The radiation-sensitive resin composition comprises [A] a polymer containing a phenolic hydroxyl group and/or a carboxyl group and [B] at least one compound selected from the group consisting of a 1,2- quinonediazide-6-sulfonate ester compound, a 1,2-quinonediazide-7-sulfonic ester compound and a 1,2-quinonediazide-8-sulfonic ester compound. - 特許庁

３−プロピルオキシランカルボン酸シクロプロピルアミドを、金属アジドと反応させ、３−アジド−２−ヒドロキシヘキサン酸シクロプロピルアミドを得た後、これを還元し、３−アミノ−２−ヒドロキシヘキサン酸シクロプロピルアミドを製造する。例文帳に追加

This method for producing the 3-amino-2-hydroxyhexanoic acid cyclopropylamide includes reacting 3-propyloxiranecarboxylic acid cyclopropylamide with a metal azide to obtain 3-amino-2-hydroxyhexanoic acid cyclopropylamide, and then reducing the compound to obtain the 3-amino-2-hydroxyhexanoic acid cyclopropylamide. - 特許庁

ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、それを用いたポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置例文帳に追加

NAPHTHOQUINONE DIAZIDE SULFONIC ACID ESTER, POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING IT, AND SEMICONDUCTOR UNIT - 特許庁

ガス発生剤は、アジドメチル基および水酸基を有する脂肪族ポリエーテルと、バインダーとを含有する。例文帳に追加

The gas generating agent contains: an aliphatic polyether including an azidomethyl group and a hydroxy group; and a binder. - 特許庁

リファンピシン及びイソニアジドは、放出後、胃の酸性胃内容物において、液状で、相互に接触しない。例文帳に追加

The rifampicin and the isoniazid do not contact with each other in a liquid shape after the release in acidic gastric contents of the stomach. - 特許庁

一般式（Ｉ）で表されるフェノール化合物のキノンジアジドスルフォン酸エステル及びポリベンゾオキサゾール前駆体を含有する。例文帳に追加

The photosensitive resin composition contains a quinonediazidosulfonic ester of a phenol compound represented by formula (I) and a polybenzoxazole precursor. - 特許庁

フェノールノボラック樹脂、ナフトキノンジアジドエステル及び２価以上の脂肪族カルボン酸を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition contains a phenol novolac resin, a naphthoquinonediazido ester and a divalent or higher valence aliphatic carboxylic acid. - 特許庁

ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、それを用いたポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置又は表示素子。例文帳に追加

NAPHTHOQUINONEDIAZIDE SULFONIC ACID ESTER, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR DEVICE OR DISPLAY DEVICE - 特許庁

新規キノンジアジドスルホン酸エステル化合物、ポジ型レジスト用感エネルギー線剤及びこれを用いたポジ型レジスト組成物例文帳に追加

NEW QUINONEDIAZIDOSULFONIC ESTER COMPOUND, ENERGY BEAM SENSITIVE AGENT FOR POSITIVE RESIST AND POSITIVE RESIST COMPOSITION USING THE SAME - 特許庁

１，２（または２，１）−ナフトキノンジアジド−４−（又は５−）スルホン酸と式Ｉの化合物とのエステル。例文帳に追加

An ester of 1,2(or 2,1)-naphthoquinonediazide-4-(or 5-)sulfonic acid and a compound of formula (I) is provided. - 特許庁

一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポリマーと、フェノール性水酸基を有する化合物と、キノンジアジド化合物を含有する。例文帳に追加

The composition contains a polymer essentially comprising a structural unit expressed by general formula (1), a compound having a phenolic hydroxyl group, and a quinone diazide compound. - 特許庁

活性エネルギー線照射によりガスを発生する化合物が、キノンジアジドスルホン酸エステルである上記剥離性接着剤組成物。例文帳に追加

The compound which generates the gas by the irradiation of the active energy rays preferably comprises a quinonediazidosulfonic acid ester in the releasable adhesive composition. - 特許庁

ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、それを用いたポジ型感光性樹脂組成物、半導体装置及び表示素子例文帳に追加

NAPHTHOQUINONEDIAZIDOSULFONIC ACID ESTER, POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION GIVEN BY USING THE SAME, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND DISPLAY ELEMENT - 特許庁

（Ａ）アルカリ溶解性ポリイミド及び／又はポリイミド前駆体、（Ｂ）芳香族性水酸基を有するホスファゼン化合物の水酸基の一部の水素原子がキノンジアジド構造を有する官能基で置換されているキノンジアジド化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition contains: (A) an alkali-soluble polyimide and/or polyimide precursor; and (B) a quinone diazide compound prepared by substituting a functional group having a quinonediazide structure for a part of hydrogen atoms in hydroxyl groups of a phosphazene compound having aromatic hydroxyl groups. - 特許庁

α位炭素原子に置換基を有してもよいアクリル酸又はその酸無水物から容易に、効率よくアクリロイルアジド類を製造する方法、更に、得られたアクリロイルアジド類から容易に、効率よくＮ−ビニルイソシアネート類並びにＮ−ビニルカルバメート類を製造する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for easily and efficiently producing an acryloyl azide from acrylic acid which may have a substituent at an α-carbon atom or its acid anhydride, and a method for easily and efficiently producing an N-vinylisocyanate and an N-vinylcarbamate from the acryloyl azide. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、一般式（１）で示されるフェノール化合物の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル及び／又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エステル（Ｂ）１〜５０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive type photosensitive resin composition comprises (B) 1-50 pts.wt. of a 1, 2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid ester and/or a 1, 2-naphtoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid ester of a phenol compound represented by general formula (1) based on (A) 100 pts.wt. of an alkali-soluble resin. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、フェノール化合物の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル及び／又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エステル（Ｂ）１〜５０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

This positive photosensitive resin composition contains (A) 100 pts.wt. of an alkali soluble resin and (B) 1-50 pts.wt. of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid ester and/or 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid ester of a phenol compound. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、式（１）で示されるフェノール化合物の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル及び／又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エステル（Ｂ）１〜５０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin (A) 100 pts.wt. and 1, 2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic ester and/or 1, 2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonic ester (B) of a phenol compound shown by formula (1) 1∼50 pts.wt. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、一般式（１）で示されるフェノール化合物の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル及び／又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エステル（Ｂ）１〜５０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive type photosensitive resin composition comprises 100 pts.wt. alkali soluble resin (A) and 1-50 pts.wt. 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid ester and/or 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid ester (B) of a phenolic compound represented by formula (1). - 特許庁

１，２−ナフトキノン−２−ジアジドとクロロ硫酸とを反応させて当該ジアジドのスルホン化物とクロロスルホン化物との混合物とした後、この反応混合物に塩化チオニル及び五塩化リンから選択された少なくとも一種を加えてさらに反応させて１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロリドを得る。例文帳に追加

The 1,2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonylchloride is obtained by reacting 1,2-naphthoquinone-2-diazido and chlorosulfuric acid to obtain a mixture of a sulfonated diazido compound and chlorosulfonated diazido compound, and further reacting the mixture and at least one selected from thionyl chloride and phosphorus pentoxide. - 特許庁

フェノール性水酸基を有する化合物をナフトキノンジアジドスルホニルハライドとエステル化してナフトキノンジアジド系感光剤を得るに際し、廃水の発生量を少なくし、工程時間を短くするとともに、充分な固形分濃度を有し、溶液状態で長期間安定な該ナフトキノンジアジド系感光剤を得ることができる製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a naphthoquinone diazide type photosensitive agent, which reduces the amount of waste water produced and the process time, which has sufficient concentration of the solid content and which is stable for a long time in a solution state. - 特許庁

フェノール性水酸基を有する化合物と１，２−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとを有機塩基を用いてエステル化反応させてナフトキノンジアジド系感光剤を製造する方法において、水と混和しない溶媒に水を添加した反応溶媒を用いてエステル化反応し、反応液を水洗してナフトキノンジアジド系感光剤溶液とする。例文帳に追加

In the method for manufacturing a naphthoquinone diazide type photosensitive agent by esterification reaction of a compound having a phenolic hydroxyl group and 1,2-naphthoquinone diazide sulfonylchloride by using an organic base, a reaction solvent prepared by adding water to a solvent which is not miscible with water is used for the esterification reaction and then the reaction liquid is washed with water to prepared the naphthoquinone diazide type photosensitive agent. - 特許庁

スルホン酸基又はその金属塩を置換基として有するキノンジアジド化合物とハロゲン化チオニルを、非プロトン性アミド触媒の存在下、反応させることを特徴とする、ハロスルホニル基含有キノンジアジド化合物の製造法。例文帳に追加

The quinonediazide compound containing a halosulfonyl group is produced by reacting a quinonediazide compound having sulfonic acid group or its metal salt as a substituent with a thionyl halide in the presence of an aprotic amide catalyst. - 特許庁

本発明は、アルカリ可溶性のノボラック樹脂（Ａ）と、キノンジアジド基含有感光剤（Ｂ）と、を含むポジ型フォトレジストであって、前記キノンジアジド基含有感光剤（Ｂ）中の水酸基が１分子当たり平均２未満である、ポジ型フォトレジストを提供する。例文帳に追加

The positive photoresist contains an alkali-soluble novolac resin (A) and a quinonediazido group-containing photosensitizing agent (B), wherein the number of hydroxyl groups in the quinonediazido group-containing photosensitizing agent (B) is <2 per molecule on average. - 特許庁

フェノール性水酸基を有する化合物とナフトキノンジアジドスルホニルハライドを、有機溶媒中、二塩基アミン類を使用し反応することにより高収率で且つ金属含量を大幅に低減したナフトキノンジアジド感光体素材例文帳に追加

A compound having a phenolic hydroxyl group is reacted with a naphthoquinonediazidesulfonyl halide in an organic solvent using dibasic amines to obtain the objective naphthoquinonediazide photoreceptor material having a reduced metal content with a high yield. - 特許庁

ビスマス化合物は酸化ビスマス、次硝酸ビスマス、四酸化ビスマス、硫化ビスマス又はそれらの混合物であり、溶融結合剤は周囲温度より高い融点を有するワックス、トリニトロトルエン、ポリ（３，３−ビス（アジドメチル）オキセタン）、ポリ（３−アジドメチル−３−メチルオキセタン）、エチル−３，５−ジニトロベンゾアート又はそれらの混合物である。例文帳に追加

The bismuth compound is bismuth oxide, bismuth subnitrate, bismuth tetroxide, bismuth sulfide or mixtures thereof and the melt binder is a wax having a melting point above ambient temperature, trinitrotoluene, poly(3,3-bis(azidomethyl)oxetane), poly(3-azidomethyl-3-methyloxetane), ethyl-3,5-dinitrobenzoate or mixtures thereof. - 特許庁

光学活性エリスロ−２−アミノ−１，２−ジフェニルエタノールの２位の水酸基をアミノ基に変換する際、水酸基にスルホニル基を導入した後、アジド化反応により原料水酸基の立体を保持したアジド化合物を得る事を特徴とする光学活性エリスロ Ｎ−スルホニル−１，２−ジフェニルエタンジアミンを得る効率的な製造方法。例文帳に追加

This method for efficiently producing an optically active erythro- N-sulfonyl-1,2-diphenylethaneamine is characterized by introducing sulfonyl group into hydroxy group and obtaining an azide compound in which the three- dimensional structure of raw material hydroxy group is retained by azidation reaction when hydroxy group at 2-position of an optically, active erythro-2- amino-1,2-diphenylethanol is converted into amino group. - 特許庁

（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、及び（Ｂ）フェノール性水酸基を有するラジカル重合性単位をキノンジアジドスルホン酸エステル化したアルカリ可溶性ビニル樹脂を含むポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition comprises: (A) an alkali-soluble novolac resin; and (B) an alkali-soluble vinyl resin prepared by converting a radical polymerizable unit having a phenolic hydroxyl group into a quinone diazide sulfonate. - 特許庁

全フェノール性水酸基の水素原子の一部が１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換されているアルカリ可溶性ノボラック樹脂、および酸発生剤を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains an alkali- soluble novolak resin in which part of the hydrogen atoms of all hydroxyl groups have been substituted by 1,2-naphthoquinonediazidosulfonyl groups and an acid generating agent. - 特許庁

処理すべき廃物が少なく、目的とする光学活性３−アジドカルボン酸エステル及び光学活性３−アミノカルボン酸エステルを高収率で高光学純度で、効率よく製造する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for producing an optically active 3- azidocarboxylic ester and optically active 3-aminocarboxylic ester each having high purity at a high yield and generating little waste to be treated. - 特許庁

（Ａ）全フェノール性水酸基の水素原子の一部が１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換されるアルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）例えば下記式で示す化合物とナフトキノンジアジドスルホン酸化合物とのエステル化物、および（Ｃ）感度向上剤を含有するポジ型ホトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains (A) an alkali- soluble novolak resin having 1,2-naphthoquinonediazidosulfonyl groups substituted for part of the hydrogen atoms of all phenolic hydroxyl groups, (B) a product by the esterification of, e.g. a compound of formula (1) with a naphthoquinonediazidosulfonic acid compound and (C) a sensitivity improver. - 特許庁

より具体的には、水酸基を保護した糖カルボン酸とカルバメート結合を形成させたい水酸基以外の水酸基を保護した糖等をジフェニルホスホリルアジド存在下で反応し、目的とするカルバメート結合を有する糖類を得る。例文帳に追加

To be concrete, a saccharic carboxylic acid with its hydroxyl group protected and a sugar with its hydroxyl groups other than that to form a carbamate bond are protected, etc. are reacted in the presence of diphenylphosphoryl azide, and a saccharide having the aimed carbamate bond is obtained. - 特許庁

酸窒化チタンの表面にアミノ基、アミド基、アジド塩、シアン塩、シアン酸塩、カルボン酸塩のうちの少なくとも１種の官能基または不純物を存在させると、表面改質されていない酸窒化チタンに比べ、可視光時の光触媒性能を大幅に向上させることができる。例文帳に追加

The photocatalyst performance in the visible light spectrum is much improved, compared with titanium oxynitride without surface modification, by the existence, on the surface of titanium oxynitride, of one or more of functional groups out of an amino group, an amido group, azide salt, cyanide salt, cyanate, and carboxylate, or impurities. - 特許庁

［１］キノンジアジド化合物およびノボラック樹脂を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物と、１分子中にエポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物と、キノンジアジド化合物の感光波長よりも短波長の電磁線または熱で酸または塩基を発生する化合物とを含有してなるポジ型感光性組成物。例文帳に追加

[1] The positive photosensitive composition contains: a positive photoresist composition comprising a quinone diazide compound and a novolac resin; an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule; and a compound which generates an acid or a base by heat or electromagnetic rays at wavelengths shorter than the photosensitive wavelength of the quinone diazide compound. - 特許庁

本発明の一態様によれば、１分子内に少なくとも１つのナフトキノンジアジドスルホキシ基（−ＯＤＮＱ）、および炭素数１〜８である少なくとも１つのカルボキシル基またはアルコキシ基を含むナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物からなる感光性化合物およびこの製造方法を提供する。例文帳に追加

The photosensitive compound contains a naphthoquinonediazide sulfonic acid ester compound having at least one naphthoquinonediazide sulfoxy group (-ODNQ), and having either at least one carboxyl group or alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, in one molecule. - 特許庁

次の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：（Ａ）チアジド系利尿薬又はチアジド系類似薬、（Ｂ）アルキルグリコシド又はアルキルチオグリコシド、（Ｃ）モノマー構成単位中の側鎖にカルボキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含む共重合体を含有するアクリル系粘着基剤を含有するマトリックス型経皮吸収製剤。例文帳に追加

The matrix-type transdermal preparation contains following (A), (B) and (C) as ingredients: (A) a thiazide diuretic agent or a thiazide analogous drug, (B) an alkylglycoside or an alkylthioglycoside, and (C) an acrylic adhesive base material containing a copolymer that includes (meth)acrylic acid ester having carboxylic groups in side chains of monomer constituent unit. - 特許庁

アルカリ可溶性基としてフェノール性水酸基を有する多分岐ポリイミドと溶解抑制剤としてキノンジアジド化合物を含有してなるポジ型感光性ポリイミド組成物。例文帳に追加

The positive type photosensitive polyimide composition comprises a multi-blanched polyimide containing a phenolic hydroxyl group as an alkali soluble group and a quinone diazido compound as a dissolution inhibitor. - 特許庁

ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレートとスチレン又はメタアクリル酸メチルとを含む共重合体［Ａ］、キノンジアジド基含有化合物［Ｂ］及び含窒素熱硬化性樹脂［Ｃ］を含有する樹脂組成物とする。例文帳に追加

The resin composition contains a copolymer [A] containing hydroxyphenyl (meth)acrylate and styrene or methylmethacrylate, a quinonediazide group-containing compound [B], and a nitrogen-containing thermosetting resin [C]. - 特許庁

ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、ポジ型感光性樹脂組成物、並びに該ポジ型感光性樹脂組成物を用いた半導体装置及び表示素子、並びに半導体装置及び表示素子の製造方法例文帳に追加

NAPHTHOQUINONE DIAZIDE SULFONIC ACID ESTER, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAYING DEVICE USING POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR APPARATUS AND DISPLAYING ELEMENT - 特許庁