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「BackSide」に関連した英語例文の一覧と使い方(68ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > BackSideの意味・解説 > BackSideに関連した英語例文

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BackSideを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 3364



例文

The high frequency element module comprises an insulating substrate 12 provided with electrodes 13a and 13b on the surface and a ground substrate 13 on the backside, a high frequency element 15 provided on the insulating substrate and having terminals 16a and 16b connected with the electrodes, a potting material 18 covering the high frequency element, and a metal layer 19 provided on the potting material and connected with the ground substrate.例文帳に追加

表面に電極13a、13bが設けられ裏面に接地基板13が設けられた絶縁基板12と、この絶縁基板に設けられ、この素子の端子16a、16bが前記電極と接続された高周波素子15と、この高周波素子を覆うポッティング材18と、このポッティング材の上に設けられ、前記接地基板と接続された金属層19と、を有することを特徴とする高周波素子モジュール。 - 特許庁

The surface treatment method for hydrophobic treatment of a surface of the substrate 1 on which the resist is to be applied to improve adhesion between the substrate 1 and the resist prevents vapor of a surface treatment agent 3 from being supplied to a backside of the substrate 1 when the vapor of the agent 3 for improving adhesion between the substrate 1 and the resist is supplied to the surface of the substrate 1.例文帳に追加

表面処理方法は、基板1とレジストとの密着性を高めるために、前記レジストが塗布される基板1の表面を疎水化処理するための表面処理方法であって、基板1と前記レジストとの密着性を高めるための表面処理剤3の蒸気を基板1の表面に供給する際に、基板1の裏面に表面処理剤3の蒸気が供給されることを防止する。 - 特許庁

The optical sheet 1 provided with a transparent substrate layer 2 and an optical layer 3 laminated on the surface side of the substrate layer 2 is further provided with a flawing preventive layer 4 laminated on the backside of the substrate layer 2 and is characterized in that the layer 4 has a binder 7 and beads 8 dispersed in the binder 7 and that silicone rubber is used as the material of the beads 8.例文帳に追加

透明な基材層2と、この基材層2の表面側に積層される光学層3とを備える光学シート1であって、上記基材層2の裏面側に積層される傷付き防止層4をさらに備え、この傷付き防止層4がバインダーと7このバインダー7中に分散するビーズ8とを有しており、このビーズ8の材料としてシリコーンゴムが用いられていることを特徴とするものである。 - 特許庁

The original plate is characterized in that a Bekk smoothness value of the outermost surface on the backside of the aluminum substrate is 1,000 seconds or less.例文帳に追加

親水性を示すアルミニウム支持体表面に、少なくとも、光又は熱によりラジカルを発生する化合物と、重合性化合物と、放射線吸収剤と、を含有するネガ型記録層を設けた平版印刷版原版であって、 前記アルミニウム支持体裏面側の最表面におけるベック平滑度が1000秒以下であることを特徴とする平版印刷版原版、その平版印刷版原版を積層してなる平版印刷版原版積層体、及びその製版方法。 - 特許庁

例文

The film thickness thereof is within a range of 20 to 60 μm and, when the polarizing film protective film is subjected to environment with a temperature of 25°C and a relative humidity of 80%RH for 24 hours, a difference in water absorption rates between the surface and the backside of the polarizing film protective film is 0.5% or more.例文帳に追加

セルロースエステルと可塑剤を含有する偏光膜保護フィルムであって、当該偏光膜保護フィルムの少なくとも表面近傍に空孔を有し、膜厚が20〜60μmの範囲内にあり、かつ当該偏光膜保護フィルムを温度25℃・相対湿度80%RHの環境下に24時間放置したとき、当該偏光膜保護フィルムの表面と裏面との吸水率の差が0.5%以上であることを特徴とする偏光膜保護フィルム。 - 特許庁


例文

To provide a structure of semiconductor device 100 in which adhesion between a semiconductor substrate 101, having a via hole 116 extending from the backside of the substrate 101 to the metal wiring 108b on the surface, and the metal wiring 108b placed in an opening of the via hole 116 on the surface of the semiconductor substrate 101.例文帳に追加

半導体基板101の裏面から半導体基板101の表面にある金属配線108bまで至るよう形成されたビアホール116を有する半導体基板101と半導体基板101の表面にありビアホール116によって半導体基板101の表面に開口部を有する位置にある金属配線108bとの密着性を向上させた半導体装置100の構造およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device includes a semiconductor chip in which an electrode pad is formed on a main surface, an inner connected terminal formed on the electrode pad, an insulating layer formed on the main surface so as to expose part of the inner connected terminal and cover the other, and further cover a side and a backside of the semiconductor chip, and a wiring pattern formed on the insulating layer and electrically connected to an exposed part of the inner connected terminal.例文帳に追加

本半導体装置は、主面に電極パッドが形成された半導体チップと、前記電極パッド上に形成された内部接続端子と、前記主面に、前記内部接続端子の一部を露出し他部を覆うように形成されるとともに、前記半導体チップの側面及び裏面を覆うように形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成され、前記内部接続端子の露出部と電気的に接続された配線パターンと、を有する。 - 特許庁

The semiconductor device includes a semiconductor substrate wherein an active layer having a photodetecting portion is formed on its surface, an adhesive layer so provided on the surface of the semiconductor substrate as to surround the photodetecting portion, a light transmitting protective member arranged at predetermined intervals on the photodetecting portion of the semiconductor substrate and bonded across the adhesive layer, and a plurality of external connection terminals arranged on the backside of the semiconductor substrate with the predetermined array.例文帳に追加

本発明の半導体装置は、表面に受光部を有する活性層が形成された半導体基板と、半導体基板の表面上に、受光部を囲むように設けられた接着層と、半導体基板の受光部上に所定の間隙をおいて配置され接着層を介して接着された光透過性保護部材と、半導体基板の裏面に所定の配列で配置された複数の外部接続端子とを備えている。 - 特許庁

Thus, heat from the heating element 13 is effectively utilized by the effect of the heat storage material which is provided on the front-side material 11, and a body temperature is absorbed by the heat storage material which is provided on the backside material 12, so that this bedding can be used as cooling bedding.例文帳に追加

表面材11と裏面材12の間に発熱体13を設け、前期表面材11に融点が36℃以上の蓄熱材を内包するマイクロカプセル15を配設し、前記裏面材12に融点が34℃以下の蓄熱材を内包するマイクロカプセル16を配設することにより、表面材11に設けた蓄熱材の効果により、発熱体13からの熱を有効利用し、裏面材12に設けた蓄熱材により体温を吸熱し、涼寝具としての使用を可能とした。 - 特許庁

例文

The image display device is equipped with the panel having a substrate composed of glass or a resin, a surface side laminate disposed on the viewer's side of the substrate, and a backside laminate disposed on the opposite of the substrate.例文帳に追加

ガラスまたは樹脂からなる基板、前記基板の視認側に設けられた表側積層体、および前記基板の反対側に設けられた裏側積層体を有するパネルを備えている画像表示装置であって、前記表側積層体と前記基板は粘着剤層を介して積層されており、前記粘着剤層の厚みをd(μm)、弾性率をE(MPa)とするとき、dが30μm〜100μmであり、かつ以下の式で表わされるY値が0.111以下であることを特徴とする。 - 特許庁

例文

A surface packaged semiconductor device provided with a semiconductor chip, a resin substrate 1 loaded with the semiconductor chip, a metal layer 2 electrically connected to the semiconductor chip, a resin package 3 sealing the semiconductor chip while assuming the side or backside to be a package surface is featured by arranging a recess 9 for positional alignment on the corner part of the package surface.例文帳に追加

半導体チップと、該半導体チップを搭載する樹脂基板1と、該樹脂基板1側面および裏面に形成され前記半導体チップに電気的に接続されたメタル層2と、前記半導体チップを封止する樹脂パッケージ3とを備え、前記樹脂基板1のメタル層が形成された側面または裏面を実装面とする面実装型半導体装置において、前記実装面の角部に位置決め用凹部9を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

In a stacked chip semiconductor device, the backside of a first semiconductor chip 3f is exposed in flush with the surface of a sealing resin 6 under resin molded state, the first and second semiconductor chips 3f, 3s are rectangular and stacked while forming a constant amount of overhang such that the long side of the second semiconductor chip 3s is orthogonal to the short side of the first semiconductor chip 3f.例文帳に追加

チップ積層した半導体装置において、第1の半導体チップ3fの裏面が樹脂モールド状態で封止樹脂6表面と同一平面上に露出し、第1の半導体チップ3fおよび第2の半導体チップ3sは長方形状であって、一定量のオーバーハング量を形成して積層され、第1の半導体チップ3fの短辺側に対して、第2の半導体チップ3sの長辺側が直交するように積層されている。 - 特許庁

The semiconductor device has a semiconductor element 2 mounted on a rectangular PBGA substrate 1 composed of an epoxy circuit board 11 having Cu wirings 12 in an inner layer, the semiconductor element 2 sealed with an epoxy resin 4, and mounting solder balls 5 disposed on the backside of the PBGA substrate 1.例文帳に追加

内層にCu配線12を有するエポキシ回路基板(11)で構成される矩形のPBGA基板1上に半導体素子2が搭載され、かつ半導体素子2がエポキシ樹脂4により封止されるとともに、PBGC基板1の裏面に実装用の半田ボール5が配設されている半導体装置において、PBGA基板1のコーナ部には、外方向に向けて放射状に突出された突起形状部14がエポキシ回路基板(11)を形成しているエポキシ樹脂により一体形成される。 - 特許庁

例文

An integrated circuit surface of a third semiconductor substrate 40, where a third integrated circuit is formed on a surface layer is bonded to the backside of the second semiconductor substrate 30, so that the third integrated circuit is connected electrically to the exposed part of the embedded wiring 48.例文帳に追加

第1の半導体基板20と第2の半導体基板30とを接着した後、第2の半導体基板30の裏面側を研磨し、第2の半導体基板30に一端が第1の集積回路及び前記第2の集積回路の少なくとも一方に電気的に接続され第2の半導体基板30の裏面側に他端が露出した埋め込み配線48を形成し、表層に第3の集積回路が形成された第3の半導体基板40の集積回路面を該第3の集積回路が前記埋め込み配線48の露出部に電気的に接続されるように第2の半導体基板30の裏面側に接着する。 - 特許庁




  
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