DEPROTECTINGを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 42件
METHOD FOR DEPROTECTING 9-FLUORENYLMETHOXYCARBONYL GROUP FROM SUBSTRATE例文帳に追加
9−フルオレニルメトキシカルボニル基の脱保護基方法 - 特許庁
METHOD FOR SELECTIVELY DEPROTECTING COMPOUND PROTECTED WITH ISOPROPYLIDENE GROUP例文帳に追加
イソプロピリデン基で保護した化合物の選択的脱保護方法 - 特許庁
METHOD OF DEPROTECTING PHENOLIC HYDROXYL GROUP PROTECTED WITH TERTIARY-BUTOXYCARBONYL GROUP例文帳に追加
t−ブトキシカルボニル基で保護したフェノール性水酸基の脱保護方法 - 特許庁
To provide a method for deprotecting nitrogen atoms protected with t-butoxycarbonyl.例文帳に追加
t−ブトキシカルボニルで保護された窒素原子の脱保護方法の提供。 - 特許庁
The optically active 3-(1-pyrrolidinyl)pyrrolidine having high purity is produced by deprotecting the above derivative.例文帳に追加
更に脱保護することにより、高純度の光学活性3−(1−ピロリジニル)ピロリジンを製造する。 - 特許庁
The image forming material has an image forming layer containing a dye precursor and a deprotecting agent which reacts with the dye precursor to form a dye on the surface of a support, wherein the deprotecting agent is a nucleophilic agent.例文帳に追加
支持体表面に、色素前駆体と前記色素前駆体と反応して色素を生成する脱保護剤とを含む画像形成層を有する画像形成材料であって、前記脱保護剤が、求核剤であることを特徴とする画像形成材料。 - 特許庁
The production method of a phosphonic acid diester derivative expressed by general formula (I) comprises deprotecting a compound expressed by general formula (II).例文帳に追加
一般式(II)で表される化合物を脱保護することを特徴とする、一般式(I)で表されるホスホン酸ジエステル誘導体の製造法: - 特許庁
To provide a nucleotide having a removable protecting group, to provide use thereof in a polynucleotide sequencing method, and to provide a method for chemically deprotecting a protecting group.例文帳に追加
除去可能な保護基を有するヌクレオチド、ポリヌクレオチドシークエンシング方法におけるその使用及び保護基の化学的脱保護のための方法の提供。 - 特許庁
The method comprises conducting a reaction between a 4-substituted-3,5-dimethoxybenzoate and 2',4'-disubstituted-6'-hydroxyacetophenone (483 mg, 1.55 mmol) in the presence of a base, cyclizing the product by an acid, and optionally, deprotecting the cyclized product.例文帳に追加
4-置換-3,5-ジメトキシベンゾエイトと2',4'-ジ置換-6'-ヒドロキシアセトフェノン (483 mg, 1.55 mmol) を塩基存在下に反応させ、生成物を酸により閉環し、必要により脱保護する。 - 特許庁
The process III: a process of obtaining 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid by deprotecting the α-unsaturated ether from the 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid tetrahemiacetal ester obtained in the process II.例文帳に追加
工程III:前記工程IIで得られた1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸テトラヘミアセタールエステルから前記α−不飽和エーテルを脱保護して1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸を得る工程。 - 特許庁
Then the new tyrosine derivative is obtained by deprotecting the part of a saccharide residue and, if necessary, converting a carboxylic acid ester part to a carboxylic acid.例文帳に追加
続いて、糖残基部分の脱保護化および必要に応じてカルボン酸エステル部分のカルボン酸への変換を行うことにより、新規なチロシン誘導体を製造する。 - 特許庁
The raw material, 3-ethynylthiophenes are obtained by deprotecting thienylacetylene compounds obtained by the coupling reaction of 3-halogenothiophenes with an acetylene compound.例文帳に追加
原料3−エチニルチオフェン類は、3−ハロゲノチオフェン類とアセチレン化合物のカップリング反応によって得られるチエニルアセチレン化合物を脱保護することによって得ることができる。 - 特許庁
To provide a method for industrially simply and efficiently deprotecting a compound in which a specific hydroxy group of a polyhydric alcohol or its derivative is protected with a ketal or an acetal.例文帳に追加
多価アルコール又はその誘導体の特定の水酸基がケタール又はアセタールで保護された化合物の脱保護を工業的に簡便に効率よく行う方法の提供。 - 特許庁
The other objective method for producing a methine dye having dissociable group comprises making a condensation synthesis of a methine dye in a condition that protects the dissociable group therein and deprotecting the dissociable group in the resultant dye.例文帳に追加
また別に解離性基を保護した状態でメチン色素を縮合合成し、得られた色素の解離性基の保護を脱保護処理する解離性基を有するメチン色素の製造方法。 - 特許庁
The method for carrying out synthesis of peptide comprises application of microwave irradiation to the deprotection reaction and simultaneously deprotecting an Fmoc-protected amino acid with piperazine.例文帳に追加
脱保護反応に対してマイクロ波照射を適用すると同時に、Fmoc保護アミノ酸をピペラジンにより脱保護することを含む、ペプチド合成を実施するための方法を開示する。 - 特許庁
This method for producing perfluoroalkylalcohols comprises reacting asymmetric perfluoroalkylsilanes with a carbonyl-containing compound in the presence of a chiral phase-transfer catalyst and a tetraalkylammonium halide, followed by deprotecting.例文帳に追加
キラル相間移動触媒及びテトラアルキルアンモニウムハライド存在下、カルボニル含有化合物に対して不斉パーフルオロアルキルシラン類を反応させ、脱保護化して、パーフルオロアルキルアルコール類を得る。 - 特許庁
The method for deprotecting 9-fluorenylmethoxycarbonyl group from the substrate comprises bringing the substrate protected with 9-fluorenylmethoxycarbonyl group into contact with hydrogen by wet system in the presence of a palladium-carbon catalyst in which palladium is fixed on carbon particles having ≥1,000 m^2/g specific surface area.例文帳に追加
9−フルオレニルメトキシカルボニル基で保護された基質を、比表面積1000m^2/g以上の炭素粒子にパラジウムを固定したパラジウムカーボン触媒の存在下で、水素と湿式で接触させる。 - 特許庁
To provide a method for deprotecting 9-fluorenylmethoxycarbonyl group from a substrate protected with 9-fluorenylmethoxycarbonyl group in a short time and high yield by suppressing decomposition of the substrate without substantially using a base causing complicatedness of separation.例文帳に追加
分離の煩雑さの原因となる塩基を実質的に使用せず、基質の分解を抑制し、短時間、高収率にて、9−フルオレニルメトキシカルボニル基を脱保護する脱保護基法を提供する。 - 特許庁
The 6-amino-6-deoxy chitosan is manufactured by azidizing and phosphine-imidizing a 6-deoxy-6-halogenated chitosan derivative, hydrolyzing the phosphine imide group by hydrazine treatment and deprotecting the amino group at the C-2 position.例文帳に追加
6−デオキシ−6−ハロゲン化キトサン誘導体からアジド化、ホスフィンイミド化、ならびにヒドラジン処理によるホスフィンイミド基の加水分解およびC−2位アミノ基の脱保護を経由して製造することができる。 - 特許庁
The method for synthesizing the theaflavins, e.g. a compound represented by formula (Ia) or (Ib) includes selectively protecting a phenolic hydroxy group on a chroman ring of a catechin or an epicatechin, converting the compound into an orthoquinone, reacting the product with an epigallocatechin, and deprotecting the product.例文帳に追加
カテキンまたはエピカテキンのクロマン環上のフェノール性水酸基を選択的に保護し、オルトキノンに変換、エピガロカテキンと反応させ、脱保護により、テアフラビン類、例えば次式:で表される化合物を合成する方法。 - 特許庁
The method utilizes the techniques common to microarray synthesis, and initially exposes light to selected feature areas on the array and only limits the duration for deprotecting a calculated ratio of the compounds forming the array's binding layer.例文帳に追加
マイクロアレイ合成に共通の手法を用いるが、アレイ上の選ばれた特徴領域に最初に光を与え、アレイの結合層を形成する計算比の化合物だけを脱保護する持続時間を制限する。 - 特許庁
To provide a new method for producing a 15-ketoprostaglandin E derivative, comprising such a hydrolyzing (deprotecting) reaction process using a phosphoric acid compound as to be extremely slight in the formation of byproduct prostaglandin A and industrializable under mild conditions.例文帳に追加
15-ケトプロスタグランジンE誘導体の新規製造法であって、プロスタグランジンA類の副生が極めて少なく、穏和な条件で、工業化可能な、リン酸化合物を用いた加水分解(脱保護)反応工程を含む方法を提供する。 - 特許庁
The method of producing the compound of formula (I) includes: a step of deprotecting a hydroxy group in which a compound of formula (I) having a hydroxy group in the 5-position and an amino group in the 2-position is used as a starting material; and a step of transforming an amino group to a halogen group.例文帳に追加
式(I)において5’位が水酸基、2位がアミノ基の化合物を出発物質として、水酸基保護工程、アミノ基のハロゲン基への変換工程、水酸基脱保護工程を経る式(I)の化合物の製造方法。 - 特許庁
The phospholipid derivative expressed by general formula (I) is produced by reacting a phospholipid derivative having an oxyamino group and expressed by formula (III) with one or more kinds of aldehydes expressed by formula (IV) and deprotecting the phosphate group.例文帳に追加
式(III)で示されるオキシアミノ基を有するリン脂質誘導体に、式(IV)で示される1種または2種以上のアルデヒドを反応させ、次いで、リン酸基を脱保護することによって製造される、一般式(I)で示されるリン脂質誘導体。 - 特許庁
The method comprises the steps of quickly preparing diamino-1,2,4-triazole from a dialkylcyanodithioiminocarbonate, efficiently protecting and then deprotecting the amino groups, and selectively condensing the resultant imine compound with an α,β-unsaturated acid derivative.例文帳に追加
ジアルキルシアノジチオイミノカーボネートからジアミノ-1,2,4-トリアゾールを迅速に製造する工程; アミノ基を効率良く保護及び脱保護する工程; 及びイミンとα,β-不飽和酸誘導体とを選択的に縮合させる工程を含んでいる。 - 特許庁
The immobilized material is produced by protecting a part of amino groups of thrombin by the chemical modification with a protecting agent, immobilizing the protected thrombin to a water-insoluble carrier, deprotecting the protected amino groups, and chemically treating the thrombin to form a thrombin derivative.例文帳に追加
保護剤の化学修飾により、一部のアミノ基が保護されたトロンビンを水不溶性担体に固定し、次いで、保護されたアミノ基を脱保護し、トロンビンを化学処理し、トロンビン誘導体とすることによって得られる固定化物である。 - 特許庁
Tolterodine is economically and industrially produced in the short process by treating a phenol-protected 2-benzyl-4-methylphenol compound with a base, carrying out 2-(diisopropylamino)-ethylation, subsequently deprotecting the protection group of the phenol group.例文帳に追加
フェノール基が保護された2−ベンジル−4−メチルフェノール化合物を塩基で処理した後、2−(ジイソプロピルアミノ)エチル化およびそれに続くフェノール基の保護基の脱保護により、経済的に、短い工程で工業的にトルテロジンを製造する。 - 特許庁
The method for deprotecting a protected polymer includes at least a step of dissolving in an organic solvent the protected polymer comprising at least a unit structure having a phenolic hydroxy group protected with an acyl group and a deprotecting reagent selected from primary or secondary amine compounds each having a ClogP value of 1.00 or less, with the proviso that in the secondary amine compound, neither of the two carbon atoms coupled to the nitrogen atom of the amino group is tertiary.例文帳に追加
アシル基により保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を少なくとも含む保護ポリマーと、ClogPの値が1.00以下である第1級または第2級アミン化合物から選ばれる脱保護試薬(但し、第2級アミン化合物はアミノ基の窒素原子に結合する二つの炭素原子がいずれも第3級ではない)とを、有機溶剤に溶解して脱保護するステップを少なくとも含む、保護ポリマーの脱保護方法が提供できる。 - 特許庁
This phenalen-1-one derivative can be obtained by protecting the hydroxy group of a 3-hydroxyphenalen-1-one derivative, then reducing a carbonyl group at the first position to an alcohol, and carrying out deprotecting reaction of the protecting group of the hydroxy group.例文帳に追加
3−ヒドロキシフェナレン−1−オン誘導体のヒドロキシル基を保護し、次いで、1位カルボニル基をアルコールへ還元し、そのアルコールの脱水反応、ヒドロキシル基の保護基の脱保護反応を行うことによりフェナレン−1−オン誘導体を得ることが出来る。 - 特許庁
The polymer and photoresist composition can improve its resolution and process margin, since an activation energy required for the reaction of deprotecting the spirocyclic ketal group is low, and also it is possible to realize a minute pattern since the sensitivity to a baking temperature after its exposure to light is low.例文帳に追加
前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 - 特許庁
The method includes deacylating lovastatin by treating with an inorganic base and a secondary or tertiary alcohol to thereby form diol lactone, and then selectively protecting by using a ketal or acetal protective group, acylating, deprotecting and lactonizing the diol lactone, to thereby give simvastatin.例文帳に追加
ロバスタチンを無機塩基及び2級又は3級アルコールで処理する事により脱アシル化してジオールラクトンを生成し、次いでケタール又はアセタール保護基を用いることにより選択的保護、アシル化、脱保護・ラクトン化して、シンバスタチンを生成する製造方法。 - 特許庁
There is provided a method for preparing 2-deoxy-2-fluoro-2-C-methyl-beta-D-ribofuranosyl nucleosides, including: fluorinating a nucleoside intermediate in which a base is protected to produce a fluorinated intermediate; obtaining a hydroxylated intermediate by treatment with a boron trihalide; and then deprotecting and saponificating the product.例文帳に追加
塩基が保護されたヌクレオシド中間体をフッ素化してフッ素化中間体とし、三ハロゲン化ホウ素で処理することによってヒドロキシル化中間体を得、脱保護と鹸化させる工程を含む、2-デオキシ-2-フルオロ-2-C-メチル-β-D-リボフラノシルヌクレオシドを製造する方法。 - 特許庁
To provide a method for producing a naphthyridine derivative expressed by formula (3) (wherein R^1 represents a lower alkyl group; R^2 and R^3 represent each a lower alkyl group or a phenyl group which may be substituted) without deprotecting an O-acyl protecting group.例文帳に追加
O−アシル保護基の脱保護を起こさずに、一般式(3) (式中、R^1は低級アルキル基を表わし、R^2およびR^3は、低級アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表わす。)で示されるナフチリジン誘導体を製造する方法を提供すること。 - 特許庁
The manufacturing method of a polyelectrolyte mold includes a process of molding a polyelectrolyte material including at least a protective group and an ionic group, and then deprotecting at least a part of the protective group contained in the mold.例文帳に追加
本発明の高分子電解質成型体の製造方法は、少なくとも保護基およびイオン性基を含有する高分子電解質材料を成型した後、成型体に含有される該保護基の少なくとも一部を脱保護せしめることを特徴とするものである。 - 特許庁
The invention relates to the process for deprotecting nitrogen of the reactive tetrazole of a compound containing a 2-(1-methyl-1-phenylethyl)-2H-tetrazolyl group, wherein the compound to be deprotected is subjected to a reaction with an anhydrous hydrohalic acid or an aqueous solution containing ≥20 wt.%. of the hydrohalic acid.例文帳に追加
2−(1−メチル−1−フェニルエチル)−2H−テトラゾリル基を含有する化合物中の反応性テトラゾール窒素を脱保護する方法であって、保護化合物を無水ハロゲン化水素酸または20重量%より高い濃度のその水溶液と反応させることを含む方法。 - 特許庁
The objective 2'-deoxy-2'-fluorouridine is obtained by reacting a 1-β-D-arabinofuranosyluracil derivative (3',5'-hydroxy-protected compound) with sulfuryl fluoride (SO_2F_2) in the presence of an organic base to convert into a 3',5'-hydroxy-protected compound of 2'-deoxy-2'-fluorouridine and then acting a deprotecting agent.例文帳に追加
1−β−D−アラビノフラノシルウラシル誘導体(3’,5’−水酸基保護体)を有機塩基の存在下にスルフリルフルオリド(SO_2F_2)と反応させることにより、2’−デオキシ−2’−フルオロウリジンの3’,5’−水酸基保護体に変換し、次いで脱保護化剤を作用させて目的とする2’−デオキシ−2’−フルオロウリジンを得る。 - 特許庁
The 2,5-diaminomethyl-bicyclo[2,2,1]heptane represented by formula (I) or (II) having purity of ≥95% when analyzed by gas chromatography is produced by: protecting amino groups in individual compounds included in an isomer mixture with protective groups; separating the isomers; and deprotecting the protective groups in the separated isomers.例文帳に追加
異性体混合物に含まれるそれぞれの化合物のアミノ基を保護基で保護した後、異性体を分離し、次いで分離した異性体の保護基を脱保護することにより、下記式(I)又は(II)で表される、ガスクロマトグラフィーにより分析される純度が95%以上である2,5−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンを製造する。 - 特許庁
The method for preparation of rebamipide specified in formula (1) comprises a step reacting a halomethylcarbostyryl compound and diethylmalonate and then adding a base to the reaction product to produce an acetylcarbostyryl compound by decarboxylation, a step producing a carbostyrylamino acid compound by deprotecting the acetylcarbostyryl compound in a mixture of hydrochloric acid-acetic acid, and an acylation step.例文帳に追加
本発明は、ハロメチルカルボスチリル化合物とジエチルマロネート化合物を反応させた後、反応物に塩基を加えて脱炭酸させてアセチルカルボスチリル化合物を製造した後、塩酸−酢酸の混合液中でアセチルカルボスチリル化合物を脱保護させてカルボスチリルアミノ酸化合物を製造し、アシル化反応させることを特徴とする。 - 特許庁
The 2-endo-6-exo-diaminomethyl-bicyclo[2,2,1]heptane represented by formula (IV) having purity of ≥95% when analyzed by gas chromatography is produced by: protecting amino groups in individual compounds included in an isomer mixture with protective groups; separating the isomers; and deprotecting the protective groups in the separated isomers.例文帳に追加
異性体混合物に含まれるそれぞれの化合物のアミノ基を保護基で保護した後、異性体を分離し、次いで分離した異性体の保護基を脱保護することにより、下記式(IV)で表される、ガスクロマトグラフィーにより分析される純度が95%以上である2−endo−6−exo−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンを製造する。 - 特許庁
To provide a method for deprotecting a protected polymer, by deacylating a polymer in a short period of time in the deprotection reaction of the polymer comprising a unit structure having a phenolic hydroxy group protected with an acyl group, while maintaining the other structure, and by taking out the deacylated polymer while highly suppressing contamination of the deacylated polymer with a substance other than the polymer taking part in the reaction.例文帳に追加
アシル基によって保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を有する単位構造を含むポリマーの脱保護反応において、より短時間に、他の部分構造を保存したまま脱アシル化を行うことができ、かつポリマーとして取出した際、反応に係わるポリマー以外の物質による汚染を高度に抑制可能な保護ポリマーの脱保護方法を提供する。 - 特許庁
The method comprises converting the peptide or the peptide analogous molecule to a linear precursor containing an -S sulfonate group and an -SH group protected by an acid-unstable protective group, selectively deprotecting the protected SH group in an anhydrous aprotic nonpolar organic solvent at pH<3 in the presence of at least one carbocation scavenger, and dissolving the deprotected linear precursor at pH 5-9 to cyclize the precursor.例文帳に追加
ペプチドまたはペプチド模倣分子を−Sスルホネート基及び酸不安定保護基で保護化された−SH基を含有する線状前駆体に変換し、無水非プロトン性非極性有機溶媒中、pH3未満で、少なくとも1つのカルボカチオンスカベンジャーの存在下でこの保護されたSH基を選択的に脱保護し、脱保護された線状前駆体をpH5〜9で溶解し、環化させる。 - 特許庁
The method comprises the step of preparing a substrate having electrodes on its surface close to a molecule having a protected chemical functional group, the step of applying between the electrodes an electric potential large enough to form an electrochemical reagent capable of deprotecting the protected chemical functional group of the molecule, and the step of bonding the deprotected chemical functional group to a monomer or a preformed molecule.例文帳に追加
保護された化学的官能基を有する分子に近接する電極をその表面に有する基質を準備する工程、該分子の保護された化学的官能基を脱保護できる電気化学的試剤を生成させるのに充分に該電極に電位を適用する工程、および脱保護された化学的官能基をモノマーまたは予め形成された分子と結合する工程を含んでなる方法。 - 特許庁
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