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FGを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 467



例文

To provide a detection method of wheat, using a wheat-detecting PCR primer having specificity to the wheat, capable of widely detecting wheat at a high sensitivity (50-500 fg wheat DNA in a reaction system of 25 μl PCR reaction liquid) and obtaining no target amplified product from cereals other than wheat, such as barley and rye, and to provide a primer set of the method.例文帳に追加

コムギを幅広く、高感度(PCR反応液25μlの反応系でコムギDNA 50〜500fg)に検出でき、オオムギ、ライムギを始めとするコムギ以外の穀物からは標的増幅産物が得られない、コムギに対して特異性を有するコムギ検出用PCRプライマーを用いたコムギの検出法及びそのプライマーセットの提供。 - 特許庁

Also, the position of an optical pickup 2 from a center of the disk is made detectable based on the period of an output of the VCO 10 obtained by locking the phase to a wobble signal and the period obtained by detecting an FG frequency corresponding to the rotating speed of a disk motor 3, then the reduction of the access time is attained.例文帳に追加

また、ウォブル信号に位相をロックさせて得られるVCO10の出力の周期と、ディスクモータ3の回転速度に応じたFG周波数を検出することで得られる周期とに基づいて光ピックアップ2のディスクの中心からの位置の検出を行えるようにし、アクセスタイムの短縮化を図る。 - 特許庁

Pulse voltage is applied between the grinding tool 70 and the workpiece 2, choked chips in the grinding wheel are removed with discharge actions and ultrasonic vibrations by making discharge between both parties, and the workpiece 2 is ground with a designated cut depth tg while moving between a relative distance between the grinding tool 70 and the workpiece 2 at a computed change rate (a feed rate) fg.例文帳に追加

研削工具70と被加工物2との間にパルス電圧を印加し、両者間で放電させて、詰まった切屑を放電作用ならびに超音波振動で除去し、かつ研削工具70と被加工物2との相対的距離を演算された変化速度(送り速度)fgで移動させながら所定の食込みの量tgで研削する。 - 特許庁

The CPU 16 periodically outputs a rainfall detecting signal for detecting the rainfall state from the light emitting part 11 unless a traffic information communication processing is performed, the light receiving amount obtained by reflection against the windshield FG where raindrops RN are attached is converted into the digital value by the A/ D converting part 18 and the judging part 19 detects the rainfall state by comparison with a prescribed value.例文帳に追加

CPU16は、交通情報の通信処理を行っていないとき、降雨状態を検出するための降雨検出信号を定期的に発光部11より出力し、雨滴RNが付着したフロントガラスFGによって反射した受光量をA/D変換部18でディジタル値に変換し、判定部19において所定値と比較して降雨状態を検出する。 - 特許庁

例文

In a fuel evaporator 1 including an evaporation chamber 11 for generating original fuel gas FG by evaporating an original liquid fuel using heat obtained from pluralities of heat media tubes 12 through which high- temperature heat media is passed, an original fuel injection part for injecting the original liquid fuel into the heat media tubes 12 is installed in the evaporation chamber 11.例文帳に追加

高温熱媒体が通される複数本の熱媒チューブ12から得られる熱により液体原燃料を蒸発させて原燃料ガスFGを生成する蒸発室11を備えた燃料蒸発器1において、蒸発室11には、液体原燃料を熱媒チューブ12に噴射する原燃料噴射部が配される。 - 特許庁


例文

When it is determined that the vehicle can appropriately traverse the curve (Fg=0), a start threshold value Kj of the understeer suppression control is set to a large value (a default value K2), and a first characteristic (a default characteristic Bm**) is selected in which the braking force for each wheel is distributed so as to emphasize the yaw characteristic of the vehicle.例文帳に追加

車両がカーブを適切に通過できると判定された場合(Fg=0)、アンダステア抑制制御の開始しきい値Kjが大きい値(デフォルト値K2)に設定され、且つ、車両のヨー特性が重視されるように各車輪の制動力が配分される第1特性(デフォルト特性Bm**)が選択される。 - 特許庁

The front guide group (FG) and the back guide group (GB) of a warp knitting machine with double-row needle beds are arranged and controlled skillfully and cleverly so as to allow the front knitted fabric (FK) and the back knitted fabric (BK) to cross and/or get entangled each other at the sinker loops mutually contacting inside between the double-knitted fabric.例文帳に追加

2列針床経編機のフロントガイド群FGとバックガイド群BGの巧みな配設と、その制御により、両面経編地の表編地FKと裏編地BKの互いに内接するシンカーループ同士を交錯、絡み合わせることにより表裏2枚の編地を確実に接結させるという手段を採用したものである。 - 特許庁

This jib sail such as a stream jib sail SJ includes an enclosing part 1 for enclosing a jib furring device FG or a fore stay from the outside, and a pair of sail parts 2, 2 formed to be connected to both sides of the enclosing part 1 and having a head 2a, a tack 2b and clew 2c to be used in an overlap state.例文帳に追加

ジブセールたとえばストームジブセールSJは、ジブファーリング装置FGまたはフォアステイをその外側から包囲する包囲部1と、包囲部1の両側に連続して形成されるとともに、重ね合わせて使用されるようにそれぞれヘッド2a、タック2bおよびクルー2cを有する一対のセール部2、2とを具備している。 - 特許庁

A source impurity region 4 and a drain impurity region 5 are separately formed in a semiconductor layer 3 supported on a substrate 1 and a memory transistor constituted by laminating a gate insulating film 7, a floating gate FG, a inter-gate insulating film 8, and a control gate CG upon another, is provided on the semiconductor layer 3 between the impurity areas 4 and 5.例文帳に追加

基板1に支持された半導体層3内にソース不純物領域4およびドレイン不純物領域5が互いに離間して形成され、両不純物領域4,5に挟まれた半導体層部分の上に、ゲート絶縁膜7、浮遊ゲートFG、ゲート間絶縁膜8および制御ゲートCGが積層されたメモリトランジスタを有する。 - 特許庁

例文

The concentration of ginsenoside Rb1 is preferably a low concentration, particularly the concentration of an extracellular fluid is ≤1 ng/ml, preferably ≤1 pg/ml, more preferably100 fg/ml.例文帳に追加

本発明は、低濃度、好ましくは1ng/ml以下、より好ましくは1〜100fg/mlのジンセノサイドRb_1又はその塩を含有してなる医薬組成物に関し、本発明の医薬組成物は細胞死抑制遺伝子産物Bcl−x_Lの発現を促進させ、また、アポトーシス又はアポトーシス様細胞死を抑止する作用を有する。 - 特許庁

例文

A fuse F formed in a peripheral circuit formation area on a semiconductor substrate 1 is formed of three layers: a polycrystalline silicon film 10 which constitutes a floating electrode FG of a non-volatile memory cell formed in a memory cell formation area, a polycrystalline silicon film 22 which constitutes a control electrode CG, and a tungsten silicide film 23.例文帳に追加

半導体基板1上の周辺回路形成領域に形成されたヒューズFを、メモリセル形成領域に形成された不揮発性メモリセルの浮遊電極FGを構成する多結晶シリコン膜10と、制御電極CGを構成する多結晶シリコン膜22およびタングステンシリサイド膜23との3層で構成する。 - 特許庁

A programmable ROM block 20 provided in the integrated circuit device 10 has a memory cell MC in which a floating gate FG shared in each of gates of a writing/reading transistor 220 and an erasing transistor 230 is a single layer gate structure opposite to a control gate CG consisting of an impurity layer NCU via an insulation layer.例文帳に追加

集積回路装置10に設けられたプログラマブルROMブロック20は、書き込み/読み出しトランジスタ220及び消去トランジスタ230の各ゲートに共用されるフローティングゲートFGが、不純物層NCUより成るコントロールゲートCGと絶縁層を介して対向した単層ゲート構造であるメモリセルMCを有する。 - 特許庁

In the semiconductor device, a second gate insulating film layer 7 consists of an NONON multilayer film structure, and a silicon nitride film 7a located at the lowermost layer is formed in a region touching a floating gate electrode layer FG, but a silicon oxide film 7b is formed on an isolation film 6 substantially over the entire surface thereof.例文帳に追加

第2のゲート絶縁膜層7がNONON積層膜構造で構成されると共に、その最下層に位置するシリコン窒化膜7aがフローティングゲート電極層FGに接触する領域では形成されているものの素子分離絶縁膜6上にはシリコン酸化膜7bが略全面に渡って形成されている。 - 特許庁

A control device controls a tool magazine, and estimates centrifugal force acting on the tool (Step S1 to S3), and determines a maximum revolving speed ωmax of the tool magazine on the basis of the estimated centrifugal force and limit centrifugal force Flimit set on the basis of grip force FG of the tool in a grip arm.例文帳に追加

工具マガジンを制御する制御装置は、工具に作用する遠心力を推定し(ステップS1〜S3)、工具マガジンの最高旋回速度ωmaxを、推定した遠心力と、グリップアームにおける工具のグリップ力FGに基づき設定される限界遠心力Flimitとに基づいて決定する(ステップS4〜S7)。 - 特許庁

An FG signal indicating the rotational speed of a motor generated by a logic circuit 5 is transmitted to a voltage signal through a speed discriminator 6 and a filter 7, a voltage signal whose voltage is higher than that in the circuit is transmitted to a PWM comparator 11, and a PWM signal is transmitted to the logic circuit 5.例文帳に追加

又、ロジック回路5で生成されたモータの回転速度を表すFG信号が速度ディスクリミネータ6及びフィルタ7を介して電圧信号としてOR回路9に送出され、当回路より電圧の高い電圧信号がPWMコンパレータ11に送出され、PWM信号がロジック回路5に送出される。 - 特許庁

In this semiconductor memory device having a memory cell for storing data by accumulating electric charges such as electrons and the like in a floating gate FG or by not accumulating, data desired to restore is stored by making the memory cell a first memory cell Q2 having a first charges exchange capability and a second memory cell Q3 having a second charges exchange capability.例文帳に追加

本発明は、フローティングゲートFGに電子などの電荷を蓄積するまたはしないことによりデータを記憶するメモリセルを有する半導体記憶装置において、そのメモリセルを第1の電荷交換能力を持つ第1のメモリセルQ2と第2の電荷交換能力を持つ第2のメモリセルQ3にすることで、復活させたいデータを記憶させることを特徴とする。 - 特許庁

例文

In a process to form a polysilicon resistor 10 formed on a semiconductor substrate 1, the concentration of an impurity into polysilicon is set at 1×1020 cm-3 or more, and a film or an aluminum wiring 9 is arranged at least on a part of the polysilicon resistor 10 to prevent diffusion of hydrogen when the concentration is treated in an FG gas atmosphere.例文帳に追加

半導体基板1上に形成されたポリシリコン抵抗10を形成する工程において、ポリシリコン中のに注入する不純物濃度を1×10^20cm^-3以上としFGガス雰囲気で処理する際にポリシリコン抵抗10の少なくとも一部の上に水素の拡散を阻害する膜あるいはアルミニウム配線9を配置する。 - 特許庁

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