「MULTI-EXPOSURE」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

FIXING METHOD FOR MULTI-LAYER FILM SUBSTRATE, MULTI-LAYER FILM SUBSTRATE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

多層膜基板の固定方法、多層膜基板及び露光装置 - 特許庁

MULTI-LAYER FILM REFLECTION MIRROR, REMOVING METHOD FOR MULTI-LAYER FILM AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

多層膜反射鏡、多層膜の剥離方法及び露光装置 - 特許庁

To individually precisely adjust exposure by each exposure light beam in a multi-exposure system.例文帳に追加

マルチ露光方式における各露光光線による露光量を個別に精密に調整する。 - 特許庁

MULTI-BEAM GENERATOR AND ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

マルチビーム発生装置及び電子ビーム描画装置 - 特許庁

MULTI-EXPOSURE DRAWING DEVICE AND ITS LIGHTING MECHANISM例文帳に追加

多重露光描画装置およびその照明機構 - 特許庁

MULTI-TRANSMISSION PHASE MASK AND EXPOSURE METHOD USING SAME例文帳に追加

多重透過位相マスク及びこれを用いた露光方法 - 特許庁

To improve a multi-beam exposure device for performing multi-beam scanning.例文帳に追加

この発明は、複数のビームを走査するマルチビーム露光装置を改良するものである。 - 特許庁

MULTI-CHARGED BEAM LENS AND CHARGED BEAM EXPOSURE DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

マルチ荷電ビームレンズおよびそれを用いた荷電ビーム露光装置 - 特許庁

DEVICE FOR MULTI-ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND ITS FABRICATION PROCESS例文帳に追加

マルチ電子ビーム描画装置用デバイス及びその製造方法 - 特許庁

The multi-exposure can be carried out in parallel using a numer of projection systems, thereby ebabling multi-exposure with time saving.例文帳に追加

多数の投影系を使用することにより、並行して行なわれるとともに、したがって時間が節約される多重露光が可能になる。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MULTI-ELECTRON BEAM EXPOSURE AND DEVICE MANUFACTURE例文帳に追加

マルチ電子ビーム露光方法及び装置、ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

MEASURING METHOD FOR MULTI-CHARGE-PARTICLE BEAM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マルチ荷電粒子ビームの計測方法、露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a hologram exposure apparatus capable of forming holograms of multi-layouts with satisfactory accuracy on a base material for multi-layout holograms, and to provide a hologram exposure method.例文帳に追加

多面付ホログラム用基材に多面付けで精度良くホログラムを形成することができるホログラム露光装置およびホログラム露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of performing a wider range of expression using multiple image capturing modes in multi-exposure image capturing, and also performing the effective multi-exposure image capturing.例文帳に追加

多重露出撮影において、複数の撮影モードを用いたより広い幅の表現が可能で、かつ効果的な多重露出撮影を行えるようにする。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MULTI-STAGE PIXEL DENSITY SEQUENTIAL EXPOSURE OF MACHINE PLATE FOR PRINTING例文帳に追加

印刷用刷版の画素密度複数段同時露光方法及びその装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MULTI-STAGE PIXEL DENSITY SEQUENTIAL EXPOSURE OF MACHINE PLATE FOR PRINTING例文帳に追加

印刷用刷版の画素密度複数段順次露光方法及びその装置 - 特許庁

MULTI-LAYER FILM REFLECTING-MIRROR, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SOFT X-RAY OPTICAL SYSTEM, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

多層膜反射鏡、その製造方法、軟Ｘ線光学系及び露光装置 - 特許庁

To provide a lithography tool which can carry out a multi-exposure and houses a multi-reticle in a vacuum efficiently.例文帳に追加

多重露光を実行することができ、多重レチクルを真空で効率的にハウジングするリソグラフックツールを提供すること。 - 特許庁

TILING METHOD FOR MULTI-LAYER WIRING BOARD, TILING EXPOSURE MASK AND METHOD FOR PRODUCING MULTI-LAYER WIRING BOARD BY USING THEM例文帳に追加

多層配線基板の多面付け方法、多面付け露光マスク及びそれらを用いた多層配線基板の製造方法 - 特許庁

MULTI-LAYER FILM REFLECTING MIRROR, SOFT X-RAY OPTICAL EQUIPMENT, EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR CLEANING IT例文帳に追加

多層膜反射鏡、軟Ｘ線光学機器、露光装置及びその清掃方法 - 特許庁

To provide an improved multi-exposure patterning technology and/or a lithographic apparatus.例文帳に追加

改良された多重露光パターニング技術、及び／またはリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-columnar electron beam exposure device and a method of multi-columnar electronic beam exposing which can perform the exposure of the same pattern in a plurality of columns even with finely variable rectangular beams.例文帳に追加

微細な可変矩形ビームでも、複数のコラムで同じパターンの露光ができるマルチコラム型電子ビーム露光装置及びマルチコラム型電子ビーム露光方法を提供すること。 - 特許庁

To provide multi-beam exposure apparatus that can measure light intensity data such as light intensity distribution for adjusting shading or an exposure level in scanning exposure using a multi-beam emitted from a spatial light modulator.例文帳に追加

空間光変調素子から出射されたマルチビームで走査露光する際のシェーディング調整や露光量の調整のため、光量分布等の光量データを測定可能としたマルチビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

MULTI-LAYER FILM REFLECTING MIRROR, MANUFACTURE OF IT, CONTROL METHOD FOR STRESS OF MULTI-LAYER FILM REFLECTING MIRROR, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

多層膜反射鏡、多層膜反射鏡の製造方法、多層膜反射鏡の応力の制御方法および露光装置 - 特許庁

An expensive piezo element is not put to use, so that the multi-exposure mechanism is attained at a low cost.例文帳に追加

高価なピエゾ素子を用いないので、低コストで多重露光機構を構成できる。 - 特許庁

To provide a multi-layer film reflection mirror and an exposure device capable of suppressing carbon contamination on the surface.例文帳に追加

表面のカーボンコンタミを抑制し得る多層膜反射鏡、露光装置を提供する。 - 特許庁

TRANSFER APPARATUS HAVING MULTI-STAGE ROBOT ARM AND PROXIMITY EXPOSING TYPE ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

多段ロボットアームを有する搬送装置及び近接露光方式電子ビーム露光装置 - 特許庁

To improve a multi-beam exposure apparatus for scanning a plurality of beams.例文帳に追加

この発明は、複数のビームを走査するマルチビーム露光装置を改良するものである。 - 特許庁

An exposure time map obtained by binarizing pixels of the sensor is generated on the basis of the pre-imaging data by a pixel exposure time map generation part 505, and the exposure time map is multi-valued by a pixel exposure time map correction part 508.例文帳に追加

該予備撮像データに基づき、ピクセル露光時間マップ生成部５０５でセンサの各画素を２値化した露光時間マップを生成し、ピクセル露光時間マップ補正部５０８で該露光時間マップを多値化する。 - 特許庁

The overlayer 22, the photospacers 24 and the contact holes 27 are simultaneously formed by one exposure operation using a multi-level gradation exposure mask and one development operation following the exposure operation.例文帳に追加

オーバーレイヤ２２、フォトスペーサ２４、及びコンタクトホール２７は、多階調露光マスクを用いた１回の露光及びそれに続く１回の現像によって同時に形成される。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of reducing matching errors, even when multi-layer reticles are used so that pattern exposure precision is improved.例文帳に追加

マルチレイヤーレチクルを用いた場合であっても露光ショットの合わせ誤差を小さくすることができ、パターン露光精度の向上をはかる。 - 特許庁

The second resist film 34 in the region B inside the region A is thus subjected to multi-exposure by which the exposure light spreads in the depth direction.例文帳に追加

領域Ａの内側に在る領域Ｂの第２のレジスト膜３４は多重露光され、露光が深さ方向まで行き渡ることになる。 - 特許庁

To provide a multi-beam exposure head and a multi-beam exposure device, which carry out exposure and recording of an image in a desired resolution by using an optical fiber array having a two-step layer structure, without hardly changing the imaging magnification of an optical system.例文帳に追加

２段階層構造の光ファイバーアレイを用いて、光学系の結像倍率を殆ど変えずに、所望の解像度で画像の露光記録を行うマルチビーム露光ヘッドおよびマルチビーム露光装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM LENS, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM USING IT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マルチ荷電ビームレンズ及びこれを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁

A multi-tone photomask including a light-shielding part shielding exposure light, a transmissive part transmitting the exposure light, and a semi-transmissive part transmitting a portion of the exposure light is prepared on the transparent substrate.例文帳に追加

透明基板上に露光光を遮断する遮光部と露光光を透過する透光部と露光光の一部を透過する半透光部とを含む多階調フォトマスクを準備する。 - 特許庁

To provide an exposure head and an exposure apparatus capable of maintaining a high resolution and achieving a large focal depth by performing multi-focal exposure with light beams which are equal in focal length.例文帳に追加

焦点距離が等しい光ビームで多重焦点露光を行うことで、高い解像度を維持し且つ深い焦点深度を得ることができる露光ヘッド及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method through which a light exposure operation can be quickly repeated as many times as required before a trouble such as a characteristic change of resist takes place when a substrate is subjected to a multi-exposure process.例文帳に追加

基板の多重露光等をする場合、レジストの性質が変化する等の不具合が発生する前に速やかに複数回の露光を完了し得るような露光方法を提供する。 - 特許庁

As the exposure function, the relation between the reflection factor, exposure, and pattern width is determined by using previously many wafers to calculate it by performing multi-regression analyses.例文帳に追加

露光量関数は、予め多くのウェハを用いて、反射率と露光量とパターン幅との関係を求め、重回帰分析して算出する。 - 特許庁

In the reciprocity failure evaluating method for the photoreceptor, respective potentials of a photoreceptor to exposure energy after multi-beam simultaneous exposure of an exposure pattern and sequential exposure between multi-beam scanning exposure processes are measured and compared with each other and it is evaluated whether the photoreceptor as a body to be inspected has a reciprocity failure according to the comparison result.例文帳に追加

本発明の感光体の相反則不軌評価方法によれば、露光パターンにマルチビームの同時露光と、マルチビーム走査露光間の順次露光とにおける露光後の感光体の露光エネルギーに対する各電位を測定し、測定した各電位を比較して、比較した結果に応じて被検査体の感光体が相反則不軌を生じるか否かを評価する。 - 特許庁

To provide a multi-beam deflector array means for a particle beam exposure apparatus using a beam of charged particles.例文帳に追加

荷電粒子ビームを使用する粒子ビーム露光装置用のマルチビーム偏向器アレイ手段を提供する。 - 特許庁

This optimization of the focus and exposure setting is performed at each frame within the multi-frame image source.例文帳に追加

焦点および露出設定のこの最適化はマルチフレームのソース画像内の各フレームにおいて実施される。 - 特許庁

SPUTTER SOURCE, SPUTTER FILM FORMING APPARATUS, SPUTTERING METHOD, OPTICAL MULTI-LAYER FILM, OPTICAL MEMBER PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

スパッタ源、スパッタ成膜装置、スパッタ成膜方法、光学多層膜、光学部材及び投影露光装置 - 特許庁

To provide an imaging device, an imaging method and electronic equipment which are suitable for determining exposure amount ratio theoretically and dynamically, in multi-exposure.例文帳に追加

多段露光において、理論的にかつ動的に露光量の比率を決定するのに好適な撮像装置、撮像方法及び電子機器を提供する。 - 特許庁

The pit shape is tailored to a prescribed shape in the PEB (post-exposure bake) conditions for improving the pit edge geometry by carrying out exposure registration with a multi-pulse signal.例文帳に追加

マルチパルス信号で露光記録することによって、ピットエッジ形状を改善するＰＥＢ条件で、かつピット形状を所定の形状に調整する。 - 特許庁

In a multi-column electron beam exposure device performing exposure processing by arranging a plurality of column cells in parallel on one wafer, relation between the exposure amount of each column cell and the linewidth is determined (steps S41, S44).例文帳に追加

一つのウェハ上に複数のコラムセルを配置して並列して露光処理を行うマルチコラム型の電子ビーム露光装置において、各コラムセルの露光量と線幅の関係を求める（ステップＳ４１、Ｓ４４）。 - 特許庁