「Metal gate」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To control oxidization at the gate insulating film interface of a metal gate electrode.例文帳に追加

金属ゲート電極のゲート絶縁膜界面での酸化を抑制する。 - 特許庁

FET GATE STRUCTURE EQUIPPED WITH METAL GATE ELECTRODE AND SILICIDE CONTACTS例文帳に追加

金属ゲート電極およびシリサイド接点を備えたＦＥＴゲート構造 - 特許庁

A top gate metal is deposited on the top gate oxide.例文帳に追加

上部ゲート酸化物上に上部ゲート金属が堆積される。 - 特許庁

The first metal pattern includes a gate wiring and a gate electrode connected to the gate wiring.例文帳に追加

第１金属パターンは、ゲート配線及びゲート配線に連結されたゲート電極を含む。 - 特許庁

FITTING METAL FITTING, FITTING METAL FITTING STRUCTURE AND FLEXIBLE-MEMBRANE DERRICKING GATE例文帳に追加

取り付け金具、取り付け金具構造体及び可撓性膜起伏ゲート - 特許庁

To simplify a fabrication method of a metal gate CMOS using a high-dielectric gate insulating film and a metal gate electrode.例文帳に追加

高誘電率ゲート絶縁膜とメタルゲート電極を用いたメタルゲートＣＭＯＳの製造方法を簡略化する。 - 特許庁

A gate metal is formed and the gate metal is partially etched for every TFT of required different characteristics to form the gate electrode.例文帳に追加

ゲートメタルを成膜し、要求される特性の異なるＴＦＴ毎に、前記ゲートメタルを部分的にエッチングし、ゲート電極を作製する。 - 特許庁

A selective silicidation process is carried out using a metal gate film to form a metal gate silicide on the exposed gate.例文帳に追加

ゲート金属膜を利用した選択的シリサイド化工程を実行して露出されたゲートにゲート金属シリサイドを形成する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR HAVING METAL GATE ELECTRODE例文帳に追加

金属ゲート電極を有する半導体素子の製造方法 - 特許庁

SPLIT GATE TYPE METAL OXIDE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

分割ゲート型金属酸化物半導体デバイス - 特許庁

METHOD FOR FORMING DUAL METAL GATE OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子のデュアル金属ゲート形成方法 - 特許庁

PRODUCTION METHOD FOR MOSFET ELEMENT HAVING METAL GATE例文帳に追加

金属ゲートを有するＭＯＳＦＥＴ素子の製造方法 - 特許庁

To enhance passage efficiency in gate device with a metal detector.例文帳に追加

金属探知機付きのゲート装置での通行性を高める。 - 特許庁

METAL GATE CMOS AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

金属ゲートＣＭＯＳおよびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING METAL GATE OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子の金属ゲート形成方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF METAL GATE例文帳に追加

メタルゲートのドライエッチング方法 - 特許庁

The first and second gate insulating films include an adjustment metal.例文帳に追加

第１，第２のゲート絶縁膜は、調整用金属を含む。 - 特許庁

The lower-part metal 22 corresponds to the gate line 13.例文帳に追加

この下部金属２２は、ゲート線１３に対応している。 - 特許庁

MOUNTING METAL FIXTURE STRUCTURAL BODY AND FLEXIBLE MEMBRANE RISE AND FALL GATE例文帳に追加

取り付け金具構造体及び可撓性膜起伏ゲート - 特許庁

INSTALLING STRUCTURE OF OVERTURNING PREVENTIVE METAL FITTING IN EXTENSIBLE/CONTRACTIBLE GATE DOOR例文帳に追加

伸縮門扉における転倒防止金具の取付構造 - 特許庁

MOLTEN METAL INJECTION MOLDING MACHINE, GATE STRUCTURE例文帳に追加

金属溶融射出成形装置、ゲート構造 - 特許庁

As a result, a metal gate is formed within the groove 12.例文帳に追加

こうして、溝１２内に金属ゲートを形成する。 - 特許庁

The gate wiring 2 is formed of a high-melting point metal material.例文帳に追加

ゲート配線２は高融点金属で形成されている。 - 特許庁

METAL-GATE FIELD-EFFECT TRANSISTOR AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

メタルゲート電界効果トランジスタ及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CMOS DEVICE DOUBLE METAL GATE STRUCTURE例文帳に追加

ＣＭＯＳデバイス二重金属ゲート構造作製方法 - 特許庁

MOLTEN METAL DISCHARGING SLIDE GATE PLATE例文帳に追加

溶融金属排出用スライドゲートプレート - 特許庁

The first gate stack 111 comprises a first gate dielectric capping layer 104, a gate dielectric host layer 105, a first metal gate electrode layer 106, a barrier metal gate electrode layer 107, a second gate dielectric capping layer 108, and a second metal gate electrode layer 109.例文帳に追加

第１ゲートスタック１１１は、第１ゲート誘電体キャップ層１０４、ゲート誘電体ホスト層１０５、第１金属ゲート電極層１０６、バリア金属ゲート電極層１０７、第２ゲート誘電体キャップ層１０８、第２金属ゲート電極層１０９を含む。 - 特許庁

In the ladle for feeding molten metal, the pouring gate is a measuring gate composed of a primary gate and a secondary gate, wherein the secondary gate having a narrower width than the primary gate is provided in the full width of the primary gate.例文帳に追加

給湯用のラドルにおいて、湯切り口は１次ゲートと２次ゲートから成る計量ゲートであって、前記１次ゲートの全幅内に、前記１次ゲートよりも幅の狭い前記２次ゲートが設けられていること。 - 特許庁

The gate electrode 65 includes a metal gate electrode 20 disposed on the gate insulating film 21, a metal oxide film 24 disposed on the metal gate electrode 20, and a metal gate electrode 26 disposed on the metal oxide film 24.例文帳に追加

ゲート電極６５は、ゲート絶縁膜２１の上に設けられた金属ゲート電極２０と、金属ゲート電極２０の上に設けられた金属酸化膜２４と、金属酸化膜２４の上に設けられた金属ゲート電極２６と、を含んでいる。 - 特許庁

INTEGRATED METAL-INSULATOR-METAL CAPACITORS AND METAL-GATE TRANSISTOR例文帳に追加

一体化した金属絶縁体金属コンデンサおよび金属ゲート・トランジスタ - 特許庁

The second metal gate electrode layer 109 consists of the same metal composition as the first metal gate electrode layer 106.例文帳に追加

第２金属ゲート電極層１０９は、第１金属ゲート電極層１０６と同じ金属組成からなる。 - 特許庁

A first metal film 14 is formed on the gate electrode 6, and a second metal film 16 different from the first metal film 14 is formed on the gate electrode 7.例文帳に追加

ゲート電極６上には第１金属膜１４が形成され、ゲート電極７上には異種の第２金属膜１６が形成されている。 - 特許庁

To provide a method of forming a metal gate capable of preventing a whisker of a metal oxide film from being formed in a process of forming a metal gate.例文帳に追加

金属ゲートの形成工程で金属酸化膜のウィスカの形成を防止できる金属ゲートの形成方法を提供する。 - 特許庁

The second gate stack 112 comprises a gate dielectric host layer 105, a first metal gate electrode layer 106, a second gate dielectric capping layer 108, and a second metal gate electrode 109.例文帳に追加

第２ゲートスタック１１２は、ゲート誘電体ホスト層１０５、第１金属ゲート電極層１０６、第２ゲート誘電体キャップ層１０８、第２金属ゲート電極層１０９を含む。 - 特許庁

To restrain the mixing of impurities into a metal gate and unnecessary etching of the metal gate in a subsequent process when using the metal gate as a gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極として、メタルゲートを用いる場合に、メタルゲートへの不純物の混入や、後の工程におけるメタルゲートの不要なエッチングを抑える。 - 特許庁

The T-shaped gate electrode comprises a gate metal containing a material which reacts with water.例文帳に追加

そして、Ｔ型ゲート電極は水と反応する材料を含むゲートメタルから構成される。 - 特許庁

A gate electrode 140 which contains a metal film is formed on the gate insulating film 130.例文帳に追加

ゲート絶縁膜１３０上に、金属膜を含むゲート電極１４０を形成する。 - 特許庁

To reduce damage on a gate insulation film or a semiconductor substrate when a metal gate electrode is formed.例文帳に追加

金属ゲート電極形成時のゲート絶縁膜や半導体基板へのダメージを低減する。 - 特許庁

Then, a gate electrode layer 103 containing a metal material is formed on the gate insulation film 102.例文帳に追加

次に、ゲート絶縁膜１０２上に金属材料を含むゲート電極層１０３を形成する。 - 特許庁

The liquid crystal display device also includes a second metal layer 73 deposited on the gate insulating film 15 including the gate electrode 16.例文帳に追加

ゲート電極16を含むゲート絶縁膜15上に第２の金属層73を成膜する。 - 特許庁

A new MOSFET provided with the metal gate electrode, a gate dielectric and an interface layer is disclosed.例文帳に追加

金属ゲート電極、ゲート誘電体及び界面層を備える新たなＭＯＳＦＥＴを開示している。 - 特許庁

A layer of metal is formed on the sidewalls of the gate and thermally treated to silicide the gate layer.例文帳に追加

ゲートの側壁上に金属膜が形成され、熱処理されてゲート膜をシリサイド化する。 - 特許庁

One end of the interdigital teeth of two gate electrodes is connected with a gate connection metal layer on a nitride film.例文帳に追加

２つのゲート電極の櫛歯の一端を窒化膜上のゲート接続金属層に接続する。 - 特許庁

The metal wiring 80a is served as the gate electrode of a bottom-gate thin film transistor 60.例文帳に追加

金属配線８０ａはボトムゲート型薄膜トランジスタ６０のゲート電極となっている。 - 特許庁

Subsequently, the dummy gate electrode is removed and a part for forming a metal gate electrode 30 is opened.例文帳に追加

この後、ダミーのゲート電極を除去して、メタルゲート電極３０の形成部を開孔する。 - 特許庁