「PULSED LASER」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In this surface machining method, the transmissivity of the machining auxiliary material 2 for the wavelength of the pulsed laser beam 20 is smaller than the transmissivity of the workpiece 1 for the wavelength of the pulsed laser beam 20, and the fluence of the pulsed laser beam 20 is lower than the ablation threshold of the workpiece 1 for the pulsed laser beam 20 and higher than the ablation threshold of the machining auxiliary material 2 for the pulsed laser beam 20.例文帳に追加

この表面加工方法では、加工補助材２のパルスレーザー光２０の波長に対する透過率は、被加工物１のパルスレーザー光２０の波長に対する透過率よりも小さく、パルスレーザー光２０のフルエンスは、被加工物１のパルスレーザー光２０に対するアブレーション閾値より低く且つ加工補助材２のパルスレーザー光２０に対するアブレーション閾値より高くなっている。 - 特許庁

The photopolymerization apparatus 1A is constituted of a pulsed laser light source 10 for providing pulsed laser light L of a predetermined wavelength, an irradiation optical system 20 for irradiating a material S to react containing a conjugated cyclic compound with the pulsed laser light L from the pulsed laser light source 10, and a radiation position controlling mechanism 35 for controlling the irradiation position P of the pulsed laser light L on the material S to react.例文帳に追加

所定波長のパルスレーザ光Ｌを供給するパルスレーザ光源１０と、共役環状化合物を含む被反応物Ｓに対してパルスレーザ光源１０からのパルスレーザ光Ｌを照射するための照射光学系２０と、被反応物Ｓに対するパルスレーザ光Ｌの照射位置Ｐを制御する照射位置制御機構３５とを備えて光重合装置１Ａを構成する。 - 特許庁

To simplify the structure of a laser device which expands and compresses a pulse in pulsed laser light.例文帳に追加

パルスレーザー光におけるパルスの伸張・圧縮を行うレーザー装置の構成を単純化する。 - 特許庁

A second laser oscillator 20 is pumped by the pulsed light Pul from the first laser oscillator 10.例文帳に追加

第２のレーザ発振器２０は、第１のレーザ発振器１０からのパルス光Ｐｕｌによって励起される。 - 特許庁

To provide a laser device capable of generating a pulsed laser beam with high output.例文帳に追加

高出力のパルスレーザ光を生成することが可能なレーザ装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, it becomes possible for this laser device 1 to generate a pulsed laser beam with high output.例文帳に追加

よって、このレーザ装置１によれば、高出力のパルスレーザ光を生成することが可能となる。 - 特許庁

OPTICAL COMPONENT TO BE PREFERABLY USED IN LASER DEVICE FOR GENERATION OF PULSED LASER BEAM例文帳に追加

パルス化されたレーザビームを発生するレーザ装置において優先的に使用する光学部品 - 特許庁

Controlling the laser source 70 by the control section 80 causes the laser beam to be pulsed.例文帳に追加

制御部８０によるレーザ光源７０の制御により、レーザ光のパルス化が行われる。 - 特許庁

To lower a standard deviation of a pulsed output of an irradiation laser and enable provision of uniform pulsed irradiation onto each pulse window on a substrate.例文帳に追加

照射レーザパルス出力の標準偏差を低下させ、基板上の各パルスウィンドウに対する一様なパルス照射を可能にする。 - 特許庁

To generate X-ray at a time interval by causing a pulsed laser beam to collide with a plurality of pulsed electron beams.例文帳に追加

複数のパルス状電子ビームに１つのパルス状レーザビームを衝突させて、時間差をおいてＸ線を発生させる。 - 特許庁

The laser irradiation part is composed of a picosecond pulsed laser and a femtosecond pulsed laser emitting ultrashort pulsed laser in visible to near-infrared areas, and the laser lights emitted therefrom are sent to the grip part through an irradiation light guide body 41 wrapped with a cable.例文帳に追加

レーザ照射部は、可視〜近赤外域の超短パルスレーザ光を出射するピコ秒パルスレーザやフェムト秒パルスレーザからなり、そこから出射されたレーザ光はケーブルに内包された照射用導光体４１を通って、把持部へ送られる。 - 特許庁

At that time, a speed at which a laser head moves, an orbit in which the laser head moves, the output power and Q-switch frequency of a pulsed laser to be applied, or the like are determined such that pulse-irradiated marks 1 for each pulse by the pulsed laser do not overlap each other.例文帳に追加

その際、パルスレーザのパルス毎のパルス照射痕１が、互いに重ならないように、レーザヘッドが移動する速度および軌道、照射するパルスレーザの出力パワーおよびＱスイッチ周波数等が設定される。 - 特許庁

A controller controls the first and the second pulsed laser light sources so that the first pulsed laser light source oscillates on the first frequency, and the second pulsed laser light source oscillates on the second frequency of more than twice as many integral multiple as the first frequency.例文帳に追加

第１のパルスレーザ光源が、第１の周波数で発振し、第２のパルスレーザ光源が、第１の周波数の２倍以上の整数倍の第２の周波数で発振するように、制御装置が、第１及び第２のパルスレーザ光源を制御する。 - 特許庁

HIGH REPETITIVELY PULSED LASER APPARATUS WITH WAVELENGTH RANGE OF 6.1 μm FOR TREATING BIOLOGICAL TISSUE例文帳に追加

生体組織の処置のための波長６．１μｍ帯の高繰り返しパルスレーザー装置 - 特許庁

The pulsed laser has various pulse duration ranging from a few femtoseconds to a few tens of picoseconds.例文帳に追加

パルスレーザは数フェムト秒から数十ピコ秒までの多様なパルス時間を有する。 - 特許庁

The aligning system includes a beam sampler for sampling the multiple pulsed laser beams.例文帳に追加

この位置合せシステムは、多数のパルス状レーザビームをサンプリングするビームサンプラを含む。 - 特許庁

It is desirable to use as layer beam super-short pulsed laser beam.例文帳に追加

レーザ光としては、超短パルスレーザーレーザ光を用いることが好ましい。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR CUTTING SUBSTRATE USING ULTRASHORT PULSED LASER BEAM例文帳に追加

超短パルスレーザービームを利用した基板切断装置及びその切断方法 - 特許庁

The modulator modulates the pulse intensity of the incident pulsed laser beam.例文帳に追加

パルス強度変調器は、入射するパルスレーザビームのパルス強度を変調する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF P-TYPE SEMICONDUCTOR ZINC OXIDE FILM, AND PULSED LASER DEPOSITION METHOD USING TRANSPARENT SUBSTRATE例文帳に追加

ｐ型半導体酸化亜鉛膜の製造方法、及び透明基板を使用したパルスレーザ堆積方法 - 特許庁

The amorphous regions 4, 5 are formed by irradiation with ultrashort pulsed laser.例文帳に追加

アモルファス領域４，５は、超短パルスレーザの照射によって形成される。 - 特許庁

The pulsed laser beam 16 is delivered to the Ge material after going through the second Si lump from the top of the drawing.例文帳に追加

パルスレーザ光16は、図の上方から第2のSi塊を透過してGe材に照射されている。 - 特許庁

METHOD FOR RELIEVING STRESS FROM SURFACE OF STAINLESS STEEL USING ULTRASHORT PULSED LASER BEAM例文帳に追加

ステンレス鋼表面の超短パルスレーザー光を用いた応力除去法 - 特許庁

A pulsed laser beam from the light source portion irradiates a Sn wire supplied by the target portion.例文帳に追加

光源部からのパルスレーザ光線は、ターゲット部によって供給されるＳｎワイヤを照射する。 - 特許庁

To provide an arrangement for generating a pulsed laser beam with high average output.例文帳に追加

高い平均出力のパルスレーザー・ビームを生成するための装置の提供。 - 特許庁

In this regard, a λ/2-wavelength plate or a mirror can be employed as a means of controlling the polarization direction of the pulsed laser.例文帳に追加

なお、パルスレーザの偏光方向を制御する手段として、λ／２波長板や、ミラーを用いる。 - 特許庁

A silicon film, formed by a pulsed laser sequence crystallization process, is also provided.例文帳に追加

また、パルス状レーザシーケンスの結晶化プロセスにより形成されるシリコン膜が提供される。 - 特許庁

The pulsed laser beam modulated by means of the modulator is made incident to an optical amplifier.例文帳に追加

パルス強度変調器で変調されたパルスレーザビームが光増幅器に入射する。 - 特許庁

To provide a method of processing a food material (12) using a pulsed laser beam (16).例文帳に追加

本発明は、パルス状レーザービーム（１６）を用いて食品材料（１２）を加工する方法に関する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM, METHOD FOR MANUFACTURING WIRE ROD WITH THIN FILM, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS WITH PULSED LASER例文帳に追加

薄膜の製造方法ならびに薄膜線材の製造方法およびパルスレーザ蒸着装置 - 特許庁

To stabilize machining quality in the repeated machining of a workpiece by a pulsed laser beam.例文帳に追加

パルスレーザにより被加工物を繰り返し加工する際の加工品質を安定化する。 - 特許庁

The thin film 2 is grown by using pulsed laser deposition at room temperature and is annealed in atmosphere.例文帳に追加

薄膜２は、パルスレーザ堆積法を用いて室温下で成長させ、大気中でアニールする。 - 特許庁

A first laser oscillator 10 generates a pulsed light Pul of repetition frequency fp.例文帳に追加

第１のレーザ発振器１０は、繰り返し周波数ｆｐのパルス光Ｐｕｌを発生する。 - 特許庁

A semiconductor laser 100 outputs continuous pulsed light having a pulse width of approximately 30 nsec.例文帳に追加

半導体レーザ１００は３０nsec程度のパルス幅の連続パルス光を出力する。 - 特許庁

To easily and surely generate such a pulsed laser using a simple construction that has two types of characteristics that differ from each other.例文帳に追加

簡単な構成により、２種類の特性の異なるパルスレーザを容易、確実に発生させる。 - 特許庁

In the laser machining where the surface of a member 7 is irradiated with pulsed laser light L to remove the part 6b to be irradiated, the pulse width of the pulsed laser light is selected to ≤10 picoseconds.例文帳に追加

パルスレーザ光Ｌを部材７の表面に照射して被照射部６ｂを除去するレーザ加工において、パルスレーザ光のパルス幅を１０ピコ秒以下に選定する。 - 特許庁

To provide a laser beam cutting method for a thick material, for cutting even a thick metallic material having a part longer than the marginal cutting length of pulsed laser by pulsed laser irradiation, keeping the marginal cutting length as it is.例文帳に追加

パルスレーザの切断限界長さよりも長い箇所を有する金属材料の厚物材であっても、切断限界長さはそのままにパルスレーザ照射により切断する厚物材用レーザ切断方法を提供する。 - 特許庁

The method includes sampling a laser beam shot from a pulsed treatment laser as a reference portion, and measures the fluence distribution of the beam of the reference portion and computes laser beam characteristics from the measured fluence distribution.例文帳に追加

本発明の方法は、パルス型治療用レーザーからのビームのレーザーショットを、参照部分としてサンプリングすることを含む。 - 特許庁

A laser unit 163 irradiates a pulsed laser toward the portion to be processed through a laser irradiation observation unit 162 and the gas window 161.例文帳に追加

レーザユニット１６３は、レーザ照射観察ユニット１６２およびガスウインドウ１６１を介して、レーザパルスを加工部分に照射する。 - 特許庁

The first laser subsystem is configured to provide a very narrow band pulsed output beam which is used to injection-seed the second laser subsystem where the narrow band pulsed seed beam is amplified to produce a narrow band pulsed output beam.例文帳に追加

第１のレーザサブシステムは、狭帯域パルスシードビームが増幅されて狭帯域パルス出力ビームを生成する第２のレーザサブシステムを注入シードするのに使用される、超狭帯域パルス出力ビームを準備するように構成される。 - 特許庁

In the laser marking method, a marking pattern is formed on a marking object 6 by irradiating the marking object 6 with pulsed light oscillated from a pulsed light source 1 of an MOPA structure in which a semiconductor laser outputting directly-modulated pulsed light is used as a seed light source.例文帳に追加

当該レーザマーキング方法は、直接変調されたパルス光を出力する半導体レーザを種光源として使用したＭＯＰＡ構造のパルス光源１から発振されるパルス光をマーキング対象物６に照射することで、マーキング対象物６にマーキングパターンを形成していく。 - 特許庁

In relation with this sample holding means (14), a laser source (70) is provided for generating a pulsed laser beam and optical means (72) is provided for irradiating a sample held by the sample holding means located at the laser beam receiving position with the pulsed laser beam generated by the laser source.例文帳に追加

そして、この試料保持手段（１４）に関連せしめて、パスルレーザ光線を生成するレーザ源（７０）と、レーザ源が生成するパルスレーザ光線を、レーザ光線受光位置に位置せしめられている試料保持手段に保持されている試料に照射せしめるための光学手段（７２）とが配設されている。 - 特許庁

A controller 18 controls the laser oscillation of the two laser oscillators 10, 12 so that the YAG second high harmonic wave pulsed laser beam SHG is slightly ahead of the YAG fundamental wave pulsed laser beam LB in the point of time when a peak is reached in the laser output respectively.例文帳に追加

制御部１８は、ＹＡＧ基本波パルスレーザ光ＬＢのレーザ出力がピーク値に達する時点よりもＹＡＧ第２高調波パルスレーザ光ＳＨＧのレーザ出力がピーク値に達する時点の方が若干先になるように、両レーザ発振器１０，１２のレーザ発振動作を制御する。 - 特許庁

A low energy density pulsed UV laser beam with its pulse frequency increased and a high energy density pulsed UV laser beam with its pulse frequency decreased are repeatedly applied.例文帳に追加

紫外線パルスレーザのパルス周波数を増やした低エネルギー密度のパルスレーザと、前記紫外線パルスレーザのパルス周波数を減らした高エネルギー密度のパルスレーザとを繰り返し照射する。 - 特許庁

A pulsed laser 1 emits incident pulsed laser 7 for exciting the material to be analyzed in the sample solution cell 3 into the sample solution cell 3 via an incident window 6.例文帳に追加

パルスレーザー１は、試料溶液セル３中の分析対象物質を励起する入射パルスレーザー７を入射窓６を介して試料溶液セル３に入射する。 - 特許庁